| 意味 | 例文 |
Precleaningを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 25件
PRECLEANING METHOD AND CLEANING DEVICE例文帳に追加
プレ洗浄方法および洗浄装置 - 特許庁
SEQUENTIAL SPUTTER AND REACTIVE PRECLEANING OF VIA-HOLE AND CONTACT例文帳に追加
バイア及びコンタクトのシーケンシャルスパッタ及び反応性プリクリーニング - 特許庁
PRECLEANING METHOD PRIOR TO METALLIZATION FOR SUB-QUARTER MICRON APPLICATION例文帳に追加
サブクオーターミクロン適用のための、メタライゼーションに先立つ予備洗浄方法 - 特許庁
When a T1 [msec] precleaning bias V1 is applied, control means 91 controls the secondary bias power source not shown in figures and changes the precleaning bias to a cleaning bias V2 which is the same polarity as the transfer bias V3 and whose absolute value is lower than the precleaning bias V1.例文帳に追加
T1[msec]プレクリーニングバイアスV1を印加したら、制御手段91は、不図示の2次バイアス電源を制御して、転写バイアスV3と同極性で、プレクリーニングバイアスV1よりも絶対値が小さいクリーニングバイアスV2に変更する。 - 特許庁
PRECLEANING METHOD FOR METAL PLUG WHICH MINIMIZES DAMAGE OF LOW κ DIELECTRIC例文帳に追加
低κ誘電体に対する損傷を最小にする金属プラグの事前清浄化方法 - 特許庁
To improve qualities of an article to be hot-dip plated, improve workability of hot-dip plating treatment, curtail precleaning treatment, and improve the work environment thereof, by improving a method for precleaning the article, and assuring a precleaning effect for the article.例文帳に追加
被溶融めっき物の前洗浄処理方法を改善して、被溶融めっき物に対する前洗浄効果を確実にすることにより、溶融めっき物の品質特性の向上を図り、溶融めっき処理の作業性の向上を図り、さらには、前洗浄処理の短縮とその作業環境の向上を図ることにある。 - 特許庁
To provide a method of forming a gate electrode that avoids dielectric layer undercut during a silicide precleaning step.例文帳に追加
シリサイド前洗浄ステップ中に誘電体層のアンダーカットを起こさないゲ−ト電極形成方法。 - 特許庁
This cleaning method includes a precleaning process S10, a normal cleaning process S20 and a rinsing process S30.例文帳に追加
本発明の洗浄方法は、予備洗浄工程S10、本洗浄工程S20、すすぎ工程S30を含む。 - 特許庁
The precleaning process may be conducted with plasma process, soft X-ray irradiation process, ultraviolet irradiation process, and ion-including liquid process, or the like.例文帳に追加
除電処理は、プラズマ処理、軟X線照射処理、紫外線照射処理、イオン含有液処理等により行うことができる。 - 特許庁
Acid water is used as the sprayed water in the precleaning operation and post-cleaning operation to provide a bathroom BR sterilization effect.例文帳に追加
また、予洗浄や後洗浄の運転時に噴霧する水は酸性水とし、浴室BRの殺菌効果も得られるようにする。 - 特許庁
When a transfer cleaning mode is carried out, a precleaning bias V1 of a polarity opposite to a transfer bias V3 is applied to a counter roller 72.例文帳に追加
転写クリーニングモードが実行されると、対向ローラ72に転写バイアスV3と逆極性のプレクリーニングバイアスV1が印加される。 - 特許庁
The plug seals and encapsulates the dielectric layer underlying the each spacer, thus preventing the dielectric material from being undercut during the subsequent silicide precleaning process.例文帳に追加
プラグは、各前記スペーサの下の誘電体層を封入密閉して、後のシリサイド前洗浄プロセス中に誘電体材料がアンダーカットされないようにする。 - 特許庁
To provide a lid removing apparatus for precleaning equipment which can ensure reliable removal of lids by using a simple structure and can accelerate operation speed.例文帳に追加
簡易な構造で以って確実に蓋の取り外しを行え、運転速度の高速化が可能な予備洗浄装置における蓋取り装置を提供すること。 - 特許庁
In the air shower operation, precleaning operation is carried out to moisten a wall surface of the bathroom BR with water by changing an air blowing direction while spraying water from a mist nozzle 12.例文帳に追加
エアシャワー運転に際しては、先ず、ミストノズル12から水を噴霧しつつ送風方向を変えて、浴室BRの壁面を水で濡らす予洗浄運転を行う。 - 特許庁
Next, a T2[msec] cleaning bias V2 is applied and is changed to a secondary transfer bias V3 when a secondary roller 5 rotates once from the time of applying the precleaning bias V1 to complete the transfer cleaning mode.例文帳に追加
次にT2[msec]間クリーニングバイアスV2を印加し、プレクリーニングバイアスV1の印加開始し時点から2次転写ローラ5が一回転した時点で、2次転写バイアスV3に変更し、転写クリーニングモードを終了する。 - 特許庁
Light shielding members are also attached to a temporary substrate placing base 210, inverting machines 150 and 250, a precleaning device 240, pre-treating devices 320 and 340, plating equipment 360, a post-cleaning device 260, and a lighting means 400.例文帳に追加
基板仮置台210、反転機150,250、前洗浄装置240、前処理装置320,340、めっき処理装置360、後洗浄装置260、照明手段400にも光遮蔽部材を取り付ける。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a semiconductor device which includes a wafer precleaning process capable of hydroplilically treating the wafer face, at the same time with suitably removing the Cu metal pollution adhering to the rear, etc., of a wafer when a Cu plating film is made on the surface of the wafer.例文帳に追加
ウェハ表面にCuメッキ膜を形成したときにウェハ裏面等に付着するCu金属汚染を好適に除去すると同時に、ウェハ面を親水化処理することが可能なウェハ前洗浄工程を含む半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
In the process of cleaning the articles, prior to the cleaning, a precleaning is carried out by a composition (b) containing a non-chlorine fluorine compound (a) in which the solvency to fouling is poor, the specific gravity is large, and a steam pressure at 20°C is 1.33×10^3 Pa or more.例文帳に追加
物品を洗浄する工程において、洗浄に先立って、汚れに対する溶解能が乏しく比重の大きい(a)20℃における蒸気圧が1.33×10^3Pa以上の非塩素系フッ素化合物を含有する組成物(b)によりプレ洗浄する。 - 特許庁
The method for precleaning the article prior to hot-dip plating, includes pickling treatment and water rinse treatment, wherein the pickling treatment employs gluconic acid as a pickling agent, and the water rinse treatment employs an ultrasonic cleaning means.例文帳に追加
被溶融めっき物を溶融めっきに先だって洗浄処理するための前洗浄方法であり、当該前洗浄方法は酸洗浄処理と水洗浄処理を含み、酸洗浄処理では洗浄剤としてグルコン酸を採用し、かつ、水洗浄処理では超音波洗浄手段を採用する。 - 特許庁
On the conveyance line A, a precleaning unit 21, a coating unit 22, a heating unit 23, a temperature control unit 24, a rinse unit 25, a release agent reforming unit 26, and a post cleaning unit 27 which perform prescribed processing for the template T during conveyance, are arranged in this order, in the conveyance direction of the template T.例文帳に追加
搬送ラインAには、搬送中のテンプレートTに対して所定の処理を行う、前洗浄ユニット21、塗布ユニット22、加熱ユニット23、温度調節ユニット24、リンスユニット25、離型剤改質ユニット26、後洗浄ユニット27がテンプレートTの搬送方向に順に配置されている。 - 特許庁
This method comprises the precleaning step for facilitating the separation of dirt attached to a medical instrument, the cleaning step for cleaning the surface of the instrument by water jetting, the rinsing step for sterilizing by hot water pouring, and the drying step for drying by hot air blowing.例文帳に追加
医療器具に付着する汚れを落ちやすくさせる予備洗浄工程と、医療器具に温水を噴射してその表面を洗い流す洗浄工程と、医療器具に熱水を注いで消毒するすすぎ工程と、医療器具に温風を吹き付けて乾燥する乾燥工程とを備える。 - 特許庁
The used cleaning solution is distilled and regenerated by distillation regenerators 721 and 722 in a cleaning machine 500C, the distilled cleaning solution with high impurities is sued in precleaning, and the solution with low impurities is used in normal cleaning.例文帳に追加
洗浄機500Cでは、使用済み洗浄液を蒸留再生器721、722によって蒸留再生するとともに、得られた再生洗浄液のうち、不純物濃度が比較的高いものについては予備洗浄に用い、不純物濃度が低いものは本洗浄に用いる。 - 特許庁
It is coupled with a chamber 3 for introducing a sample, a gate precleaning chamber 4, a lamp heating or electrical heating gate oxidation furnace 5, a gate deposition furnace 6 by CVD, a physical analysis chamber 7, and a gate electrode deposition furnace 8 by CVD, wherein the physical analysis chamber 7 is coupled with a spectrum analyzer 9.例文帳に追加
サンプル導入用のイントロ室3、ゲート前洗浄室4、ランプ加熱式または電気加熱式のゲート酸化炉5、化学気相蒸着法等によるゲート堆積炉6、物理分析室7、化学気相蒸着等によるゲート電極堆積室8と接続され、上記物理分析室7はスペクトル解析装置9と繋がっている。 - 特許庁
To provide a device component arranged at the inside of a film deposition device, a precleaning device or the like in which the peeling and falling of substance stuck thereto in a thin film shape are suppressed for a long time, so as to prevent the generation of the particles of a pollution source, and from which depositions can easily be removed upon the maintenance of the device.例文帳に追加
成膜装置、プレクリーニング装置等の内部に配置される装置構成部品に厚膜状に付着した物質の剥離、 脱落を長時間に亘って抑制して汚染源のパーティクルを発生させず、装置のメンテナンスに際しては、付着物を容易に除去することができる装置構成部品を提供すること。 - 特許庁
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