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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > RF sourceに関連した英語例文

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RF sourceの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 200



例文

Each reaction space is provided with an RF wave entry path and an RF wave return path to supply RF power from an RF power source and return RF power to the same RF power source.例文帳に追加

それぞれの反応チャンバは、RF電源からのRF電力を供給するためのRF波エントリーパス及び同一のRF電源へRF電力を戻すためのRF波リターンパスを具備する。 - 特許庁

ION TRAP RF POWER SOURCE例文帳に追加

イオントラップRF電源 - 特許庁

The supply source of the RF power source is so structured to supply an RF power source, and an RF power feeding part is so structured to radiate the RF power source from the RF supply source into inside the lamp body.例文帳に追加

RF電源の供給源はRF電源を供給するように構成され、RF給電部はRF供給源からランプ本体内部へRF電源を放射するように構成されている。 - 特許庁

RF POWER SOURCE SYSTEM, AND PLASMA CHAMBER USING THE RF POWER SOURCE SYSTEM例文帳に追加

RFパワーソースシステムと該RFパワーソースシステムを使用するプラズマチェンバー - 特許庁

例文

The 2nd RF power source can change the value of electric power independently from the 1st RF power source 17.例文帳に追加

第2RF電源22は第1RF電源17から独立して電力値を変更可能である。 - 特許庁


例文

An RF emission coil (6) comprises a plurality of RF emission coils (6a, 6b), and is equipped with a switching means (15) to switch the connection between the plurality of RF magnetic field emission coils (6a, 6b) and an RF magnetic field power source (7).例文帳に追加

RF照射コイル(6)が、複数個のRF照射コイル(6a,6b)から成り、複数個の高周波磁場照射コイル(6a,6b)と、高周波磁場電源(7)との接続の選択を切り替える手段(15)を備える。 - 特許庁

RF INDUCTION PLASMA SOURCE APPARATUS FOR PLASMA TREATMENT例文帳に追加

プラズマ処理用高周波誘導プラズマ源装置 - 特許庁

RF SOURCE RECEIVER AND ITS SELF-DIAGNOSIS DEVICE例文帳に追加

RFソース・レシーバとその自己診断装置 - 特許庁

POWER SOURCE SYSTEM FOR RF LOCATION/IDENTIFICATION TAG例文帳に追加

RF位置・識別タグ用電源システム - 特許庁

例文

ELECTROSURGICAL APPARATUS WITH PREDICTIVE RF SOURCE CONTROL例文帳に追加

予測的的RF供給源制御を伴う電気外科装置 - 特許庁

例文

Another matching network applies a source RF power to the cathode.例文帳に追加

もう一つのマッチングネットワークはソースRFのパワーを前記カソードに印加させる。 - 特許庁

At least one RF source and at least one RF receiver can be connected with each channel.例文帳に追加

少なくとも1つのRF源と少なくとも1つのRF受信機を各チャネルに接続できる。 - 特許庁

In this case, an RF bias voltage is impressed on the hearth 7 from an RF power source 16 to cause a discharge.例文帳に追加

その際、RF電源16によりハース7にRFバイアス電圧を加えて放電させる。 - 特許庁

SYSTEM FOR DETERMINING RF PATH LOSS BETWEEN RF GENERATION SOURCE AND RF RECEIVER HAVING HYSTERESIS, AND RELATED METHOD THEREOF例文帳に追加

RF発生源とヒステリシスを有するRF受信機との間のRF経路損失を決定するシステムおよびその関連方法 - 特許庁

SYSTEM FOR DETERMINING RF PATH LOSS BETWEEN RF GENERATION SOURCE, RF RECEIVER AND RELATED METHOD THEREFOR例文帳に追加

RF発生源とRF受信機との間のRF経路損失を決定するシステムおよびその関連方法 - 特許庁

A power divider is connected to the port of a RF source receiver so as to allow a port corresponding to an unused RF source to be terminal-processed.例文帳に追加

RFソース・レシーバのポートにパワーデバイダを接続し、使用しないRFソースに対応するポートは終端処理するようにした。 - 特許庁

A source radio frequency (RF) power source 15 is connected to the coil antenna 13 via a radio frequency (RF) matching box 14.例文帳に追加

このコイルアンテナ13には、高周波整合器14を介してソース高周波電源15が接続されている。 - 特許庁

The coil antenna 21 is connected with a 2nd RF power source 22.例文帳に追加

コイルアンテナ21には第2RF電源22が接続される。 - 特許庁

Furthermore, an RF choke 102 is coupled to the RF power source and the gas source wherein the RF choke is adapted to attenuate a voltage difference between the RF power source and the gas source to prevent plasma formation in the gas tube during substrate processing.例文帳に追加

さらに、RFチョーク102は該RF電源および該ガス源に結合されており、RFチョークは、該RF電源と該ガス源間の電圧差を減衰して、基板処理中の該ガス管におけるプラズマ形成を防止するように適合されている。 - 特許庁

A third inductor is inserted between the power source and the RF output.例文帳に追加

第3のインダクタが電源とRF出力間に挿入される。 - 特許庁

Besides, the receiving chain circuit for coupling the output of an RF signal source to the input of a first RF circuit in a first operating mode and to the input of a second RF circuit in a second operating mode by means of a switchable impedance device capable is disclosed as well.例文帳に追加

また、RF信号源の出力を切り替え可能インピーダンス装置により、第1動作モードでは第1RF回路の入力へ、第2動作モードでは第2RF回路の入力へ結合する受信チェーン回路も開示される。 - 特許庁

The lamp consists of a lamp body, a supply source of radio-frequency (RF) power source, and a bulb.例文帳に追加

このため、ランプは、ランプ本体と、ラジオ周波数(RF)電源の供給源と、電球とからなる。 - 特許庁

The protective film forming chamber 21 includes RF electrodes 22 between which high frequency power is applied from an RF power source.例文帳に追加

保護膜形成室21は、RF電源から高周波電力が印加されるRF電極22を備えている。 - 特許庁

METHOD OF AND APPARATUS FOR CONTROLLING REACTIVE IMPEDANCE OF MATCHING NETWORK CONNECTED BETWEEN RF SOURCE AND RF PLASMA PROCESSOR例文帳に追加

RF源とRFプラズマ・プロセッサの間に接続された整合ネットワークのリアクタンス性インピーダンスを制御する方法および装置 - 特許庁

The plasma source power supply generates a first RF power for the first antenna and a second RF power for the second antenna.例文帳に追加

プラズマ源電源は、第1のアンテナへの第1のRF電力と、第2のアンテナへの第2のRF電力とを発生させる。 - 特許庁

The differential signal generation circuit 31 includes: a source grounding circuit 311 for amplifying an inputted RF signal; a drain grounding circuit 312 for generating differential signals RF_+ and RF_- of the amplified RF signal; and a capacity part 313 for adjusting a phase difference between the generated differential signals RF_+ and RF_-.例文帳に追加

差動信号生成回路31は、入力されたRF信号を増幅するソース接地回路311と、増幅されたRF信号の差動信号RF_+,RF_−を生成するドレイン接地回路312と、生成された差動信号RF_+,RF_−の位相差を調整する容量部313とを備えて構成される。 - 特許庁

The method for producing the nanometal-glass particle aggregate comprises intermittently turning on and off an RF power source while plasma is in an unstable state immediately after RF voltage application in a vacuumed, gas-replaced RF magnetron sputtering apparatus.例文帳に追加

真空引き、ガス置換が終了したRFマグネトロンスパッタ装置において、RF電圧印加直後のプラズマが不安定な状態で、RF電源を間欠的にON−OFFする。 - 特許庁

Plasma is generated in a first buffer portion 310, which is defined by a gap between the RF electrode plate and an upper surface of the showerhead, by means of the electric power applied from the RF power source to the RF electrode plate.例文帳に追加

RF電極板に印加されるRF電源により、RF電極板とシャワーヘッドの上面との間に区画された第1のバッファ部310でプラズマが発生する。 - 特許庁

The electrosurgical system includes an RF supply source such as an electrosurgical power source and a controller for operating RF energy transmission to a plurality of electrodes from a single power source output.例文帳に追加

この電気外科用システムは、電気外科用電源のようなRF供給源、および単一電源出力から複数の電極へのRFエネルギー送達を取り扱うコントローラーを含む。 - 特許庁

The variable baseband source 340 generates an RF signal based on a baseband signal.例文帳に追加

可変ベースバンドソース340はベースバンド信号に基づきRF信号を生成する。 - 特許庁

A voltage of a DC-RF superimposing power source 12 is preferably lower than 500 V.例文帳に追加

DC−RF重畳電源12の電圧は500V未満が好適である。 - 特許庁

The RF circuit 12 generates power source voltage, and drives the receiving section 13, transmitting section 14, and controller 15.例文帳に追加

RF回路12は電源電圧を生成し、受信部13、送信部14、制御部15などを駆動する。 - 特許庁

A difference between insertion losses of the two transmission lines is measured using an RF signal source and a detector.例文帳に追加

RF信号源及び検出器を用いてこれら2本の伝送線の挿入損失の差が測定される。 - 特許庁

To solve such problems that it takes a lot of troubles to change connection of a port using a cable for self-diagnosing a RF source receiver which is composed of a RF source for outputting RF signals and a RF receiver for receiving the RF signals, and a complicated self-diagnosis circuit equipped with a control circuit for controlling changeover switches is required.例文帳に追加

RF信号を出力するRFソースと、RF信号を受信するRFレシーバで構成されるRFソース・レシーバを自己診断するために、ケーブルを用いてポートを繋ぎかえる手間が必要であり、また切り替えスイッチを制御する制御回路を具備した複雑な自己診断回路が必要であったという課題を解決する。 - 特許庁

The plasma source ionizes the fluorocarbon gas by applying RF plasma energy thereto, and the second plasma source applies a self-bias to the substrate in an RF frequency.例文帳に追加

プラズマ源はRFプラズマエネルギーを印加することによりフルオロカーボンガスをイオン化し、第2のプラズマ源はRF周波数で基板にセルフバイアスを印加する。 - 特許庁

To provide an RF power source system which remarkably reduces user costs, also improves reliability and satisfies different applications, technical processes and the like, and to provide a plasma chamber using the RF power source system.例文帳に追加

ユーザーのコストを大幅に節減すると共に、信頼性も高まり、異なるアプリケーションや技術工程を満足させるRFパワーソースシステムと該RFパワーソースシステムを使用するプラズマチェンバーの提供。 - 特許庁

To provide an apparatus whose plasma processing performance is not decremented when first and second electrodes within a plasma chamber are connected respectively to a low-frequency RF power source and a high-frequency RF power source.例文帳に追加

プラズマチャンバ内の第1の電極および第2の電極がそれぞれ低周波数RF電源および高周波数RF電源に接続されても、プラズマ処理能力が低下しない装置を提供する。 - 特許庁

To provide a power feeding mechanism capable of applying an RF power to a substrate holder by using an RF power source and, at the same time, applying a DC pulse to the substrate holder by using a DC power source of a simple structure.例文帳に追加

RF電源を用いて基板ホルダにRF電力を印加するとともに、単純な構造のDC電源を用いて基板ホルダにDCパルスを印加することができる給電機構を提供する。 - 特許庁

The plasma chamber includes dual-frequency bias source that capacitively couples the RF energy to the plasma, and a single or dual frequency source that inductively couples the RF energy to the plasma.例文帳に追加

プラズマチャンバは、プラズマとRFエネルギーを容量結合させる二重周波数バイアス源と、プラズマとRFエネルギーを誘導結合させる単一周波数源又は二重周波数源とを備える。 - 特許庁

To provide a substrate deposition apparatus including a gas tube coupled to a gas source, an RF (Radio Frequency) power source and a substrate processing chamber.例文帳に追加

ガス源と、RF(無線周波数)電源と基板処理チャンバにとに結合されたガス管を含む基板堆積装置を提供する。 - 特許庁

The absorption surface is configured to receive electromagnetic radiation from an electromagnetic radiation source 50 such as a light source or an RF generator.例文帳に追加

吸収面は光源またはRF発生源のような電磁放射源50からの電磁放射を受けるように構成されている。 - 特許庁

In a reactive sputtering device, a sputtering electrode 15 with a target 16 loaded is connected with a DC power source 38 and an RF power source 42 via a matching box 40, and these DC power source 38 and RF power source 42 are connected to a synchronous control circuit 44.例文帳に追加

反応性スパッタ装置において、ターゲット16を搭載するスパッタ電極14には、DC電源38及びマッチングボックス40を介したRF電源42が接続され、これらDC電源38及びRF電源42は同期制御回路44に接続されている。 - 特許庁

In the CO_2 laser machining method where an RF electric field is formed to form a pulse-like laser 4, and a machining part is irradiated with the formed laser so as to perform machining, when outputting one laser, an RF power source is intermittently made on/off to make the formation of the RF electric field intermittent.例文帳に追加

RF電場を形成することによりパルス状のレーザ4を形成し、形成したレーザを加工部に照射して加工を行うようにしたCO_2レーザ加工方法において、1個のレーザ出力時に、RF電源を間欠的にオンオフしてRF電場の形成を断続させる。 - 特許庁

The gas tube is adapted to carry a process gas and cleaning plasma from the gas source/remote plasma gas source to the substrate processing chamber and the RF power source is adapted to couple RF power to the substrate processing chamber.例文帳に追加

ガス管は、プロセスガスおよび洗浄プラズマを該ガス源/遠隔プラズマガス源から該基板処理チャンバに搬送するように適合されており、該RF電源は、RF電力を該基板処理チャンバに結合させるように適合されている。 - 特許庁

The RF signal generating part 109 outputs RF signals of N frequencies f_1 to f_N to the light source 101 or the optical phase modulating part 102.例文帳に追加

RF信号発生部109は、N個の周波数f_1〜f_NそれぞれのRF信号を光源101または光位相変調部102へ出力する。 - 特許庁

To provide an RF impedance measuring device capable of accurately measuring RF impedance (S parameter) especially of a power source/GND system line of a package substrate to a high frequency region.例文帳に追加

パッケージ基板の特に電源/GND系線路のRFインピーダンス(Sパラメータ)を高周波領域まで精度良く測定することのできるRFインピーダンス測定装置を提供することである。 - 特許庁

Since power is supplied to the RF conversion part 23 by inputting the optical signal S_0 to the optical branch 21, the need of a power source for supplying power to the RF conversion part 23 is obviated.例文帳に追加

光分岐器21に光信号S_0が入力することによりRF変換部23に電力が供給されるので、RF変換部23に電力を供給するための電源が不要となる。 - 特許庁

Since reverse bias is applied to the photodiode as the RF conversion part 23 by inputting the optical signal S_0 to the optical branch 21, the need of a power source for supplying power to the RF conversion part 23 is obviated.例文帳に追加

光分岐器21に光信号S_0が入力することによりRF変換部23としてのフォトダイオードに逆バイアスが印加されるので、RF変換部23に電力を供給するための電源が不要となる。 - 特許庁

A power source control section 13 generates power for driving the storage section 14 and the RF tag section 15 based on the electromagnetic wave of the frequency band f1 and supplies the generated power to the storage section 14 and the RF tag section 15.例文帳に追加

電源制御部13は、周波数帯f1の電磁波により記憶部14およびRFタグ部15を駆動する電力を生成して、生成した電力を記憶部14およびRFタグ部15に供給する。 - 特許庁

例文

Furthermore, the power source control section 13 generates power for driving the storage section 14 and the RF tag section 16 from the electromagnetic wave of the frequency band f2 and supplies the generated power to the storage section 14 and the RF tag section 16.例文帳に追加

また、電源制御部13は、周波数帯f2の電磁波により記憶部14およびRFタグ部16を駆動する電力を生成して、生成した電力を記憶部14およびRFタグ部16に供給する。 - 特許庁

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