「RF source」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To increase frequency of a high-frequency signal which is superimposed on a drive signal for driving a laser source, in an reproduction operation for measuring amplitude information of an RF signal.例文帳に追加

ＲＦ信号の振幅情報を測定するための再生動作の際に、レーザ光源を駆動する駆動信号に重畳される高周波信号の周波数を高くする。 - 特許庁

Electrodes are coupled with the substrate support while an RF power source is coupled with each electrode to apply a bias to the electrodes in order to generate a DC bias to the substrate located on the support surface.例文帳に追加

電極は、基板支持体に結合され、ＲＦ電源は、各電極に結合され、支持面に位置する基板にＤＣバイアスを生成させるため電極にバイアスをかける。 - 特許庁

To reduce noise by decreasing the number of circuit stages of an RF front-end section and to perform low-source-voltage operation by adaptively adjusting a bias of a circuit.例文帳に追加

ＲＦフロントエンド部の回路段数を削減することで低ノイズ化を図るとともに、回路のバイアスを適応的に調整して低電源電圧動作を実現する。 - 特許庁

A transmission device generally comprises a processing component 310, a baseband controller 320, a linearization controller 330, a variable baseband source 340, and a radio frequency (RF) component 350.例文帳に追加

送信装置は一般的にプロセシングコンポーネント３１０、ベースバンドコントローラ３２０、線形化コントローラ３３０、可変ベースバンドソース３４０、無線周波数（ＲＦ）コンポ−ネント３５０からなる。 - 特許庁

The electrosurgical device is used with an electrosurgical unit comprising a radio-frequency (RF) power source and a pump, with the throughput of fluid expelled by the pump controlled by the RF power level setting and fluid flow rate setting.例文帳に追加

本発明の電気手術装置は、電気手術ユニットとともに使用され、この電気手術ユニットは、高周波(ＲＦ)電源とポンプとを有し、ポンプにより放出される流体は、ＲＦ電力の設定および流体流量の設定によって制御される。 - 特許庁

The length and width of wiring are selected so that a resistance value Rf, which is the sum of a resistance 42 and resistance 43 of a filter circuit for measuring an electromagnetic noise of wiring 41 which connects between a sensor internal circuit 53 and power source pad 34, satisfies a formula: Rl/Rf×100<25.例文帳に追加

センサ内部回路５３と電源パッド３４を接続する配線４１の電磁ノイズ対策フィルタ回路の抵抗４２と抵抗４３の合計の抵抗値Ｒｆが、［Ｒｌ／Ｒｆ×１００＜２５］の関係式を満たすように、配線の長さと幅を選択する。 - 特許庁

In this communication device 1 for communicating with an RF tag 2 without an internal power source, a circuit constant is adjusted so that a resonance frequency, when the RF tag 2 is arranged in the vicinity of a maximum communication distance by standard adjustment, may meet a carrier frequency.例文帳に追加

内部電源を持たないＲＦタグ２と交信するための交信装置１について、標準の調整による最大交信距離付近にＲＦタグ２を配備したときの共振周波数が搬送周波数に合うように、回路定数の調整を行う。 - 特許庁

The portable telephone set is provided with a low noise amplifier 2 provided in a receiver side RF stage front end section, a mixer circuit 7, and a current switching control circuit 6 that controls a source current of the low noise amplifier 2 and a feeding current to the mixer circuit according to the communication power.例文帳に追加

受信側RF段フロントエンド部に設けられるローノイズアンプ２と、ミキサー回路７と、ローノイズアンプ２のソース電流の大きさ並びにミキサー回路への給電電流を通信電力の大きさに応じてコントロールする電流切替制御回路６とを備えた。 - 特許庁

An RF-ID circuit 1 is integrally formed on a pixel substrate 2 using polycrystalline silicon membrane on one side of the pixel substrate 2 of a liquid crystal display and the RF-ID circuit 1 is formed integrally with each thin film transistor 3, a source signal driving circuit 8 and a gate signal driving circuit 9.例文帳に追加

ＲＦ−ＩＤ回路１を液晶表示装置の画素基板２片面の多結晶シリコン膜を用いて画素基板２に一体的に形成しており、ＲＦ−ＩＤ回路１を各薄膜トランジスタ３、ソース信号駆動回路８、及びゲート信号駆動回路９と同時に形成することができる。 - 特許庁

The plasma source 200 includes a coil 202 having a first coil segment 204 and a second coil segment 206, an RF power source 208 connected to the coil 202, and an enclosure 210 which is arranged between the first coil segment 204 and the second coil segment 206.例文帳に追加

プラズマソース２００は、第１コイルセグメント２０４と第２コイルセグメント２０６を有するコイル２０２、コイル２０２に接続されたＲＦ電源２０８、および第１コイルセグメント２０４と第２コイルセグメント２０６間に配設されたエンクロージャ２１０を備える。 - 特許庁

The RF transmission output signal RFout in both the operation modes is set according to the level of a source voltage Vdd adjusted according to a control signal Vramp supplied to the regulator 12.例文帳に追加

両動作モードのＲＦ送信出力信号ＲＦoutは、レギュレータ１２に供給される制御信号Ｖrampに従って調整された電源電圧Ｖddのレベルに従って設定される。 - 特許庁

The manufacturing method includes a step of forming a DLC film from gas mixture of CH_4 and H_2 by a parallel plate type plasma CVD using an RF power source 16.例文帳に追加

本発明の製造方法は、ＲＦ電源１６を用いた平行平板型プラズマＣＶＤによりＣＨ_４とＨ_２との混合ガスからＤＬＣ膜を形成する工程を包含する。 - 特許庁

The system includes: a plasma treatment chamber 10; a vacuum pump, a substrate support 12; a dielectric member 20 facing the substrate support; a gas injector 22; an RF energy source 19; an antenna 18 or the like.例文帳に追加

本システムは、プラズマ処理チャンバ１０、真空ポンプ、基板支持体１２、前記基板支持体に対面する誘電体部材２０、ガス噴射器２２、ＲＦ源１９、アンテナ１８、等で構成される。 - 特許庁

When an antenna receives electric waves of the specified frequency, induced electromotive force is produced, supplied to a CPU with a power source circuit of an RF part 41, and read out of the integrated values starts.例文帳に追加

アンテナ４０では所定周波数の電波を受信すると誘導起電力が生じ、これをＲＦ部４１の電源回路がＣＰＵに供給して、積算値の読み出しを開始する。 - 特許庁

Then, by operating the detected intensity distribution shift signal of the light source and the push-pull signal, recording RF signal components in the push-pull signal during recording are suppressed.例文帳に追加

そして、検出した光源の強度分布シフト信号とプッシュプル信号とを演算することにより、記録動作中のプッシュプル信号に現れる記録ＲＦ信号成分を抑制する。 - 特許庁

Moreover, an amplitude component of the RF signal is extracted by an envelope line detection unit 4, amplified by the DC-DC converter 5, and supplied to a linear power amplifier 3 as power source voltage.例文帳に追加

また、包絡線検波部４によりＲＦ信号の振幅成分を取り出し、ＤＣ−ＤＣコンバータ５で増幅して線形電力増幅器３に電源電圧を供給する。 - 特許庁

The light source 101 intensity-modulates light on the basis of the second RF signal (RAM compensation signal) and compensates for a residual intensity modulation component generated in the light phase modulation part 102.例文帳に追加

光源１０１は、第２ＲＦ信号（ＲＡＭ補償信号）に基づいて光を強度変調して、光位相変調部１０２で生じる残留強度変調成分を補償する。 - 特許庁

The method for producing a surface-modified fluororesin film roughens the surface of a fluororesin film RF by irradiating the surface with an ion beam from an anode layer ion source 2.例文帳に追加

表面改質フッ素樹脂フィルムの製造方法は、フッ素樹脂フィルムＲＦの表面にアノードレイヤーイオンソース２からのイオンビームを照射してその表面を粗面化するものである。 - 特許庁

A mount table 11 and a gas supply head 12 in the reaction chamber 10 serve as an upper electrode and a lower electrode which are used for generating plasma by using a high frequency power source RF.例文帳に追加

反応チャンバ１０の内部の載置台１１及びガス供給ヘッド１２は、それぞれ高周波電源ＲＦによるプラズマ発生のための上部電極、下部電極を兼ねる。 - 特許庁

Depending on the injection current obtained from a power source 4014, the gain of the optical amplifier is set, and a mode synchronous oscillation is realized with a clock signal obtained from an RF synthesizer 4010.例文帳に追加

電源４０１４から得た注入電流で光増幅器４０３の利得が設定され、ＲＦシンセサイザー４０１０から得たクロック信号によりモード同期発振が実現される。 - 特許庁

The RF modulator 5 uses an input signal from an input source for a modulation wave to modulate a carrier and obtains a modulation output from a modulated wave with the optimum modulation frequency obtained before.例文帳に追加

ＲＦ変調器５は、入力ソースからの入力信号を変調波として変調を行い、先に求めた最適変調周波数の被変調波からなる変調出力を得る。 - 特許庁

The heating method of the process kit comprises steps of: covering an electrode by the collar 246 made from ceramics having a conductive surface, and heating the conductive surface using a RF source.例文帳に追加

また、プロセスキットの加熱方法は、導電性表面を有するセラミック製のカラー２４６で電極を覆うステップと、ＲＦ源を用いて当該導電性表面を加熱するステップと、を備える。 - 特許庁

In a radical-generating chamber 41 disposed outside the reaction chamber 10, hydrogen radicals 38 are generated by decomposing a radical source gas 36 containing hydrogen using an RF wave and the like.例文帳に追加

一方、反応室１０の外部に設けられたラジカル発生室４１において、少なくとも水素を含むラジカル源ガス３６をＲＦ波等により分解して水素ラジカル３８を生成する。 - 特許庁

Each channel is surrounded by RF coils 54 and 56, to which electric power is independently supplied, and plasma density is made to be variable in each channel 38 and 44 of the plasma source 16.例文帳に追加

各チャネルは、個別に給電されるＲＦコイル５４，５６により囲まれて、プラズマ源１６の各チャネル３８，４４内でプラズマ密度を可変することができるようになっている。 - 特許庁

The active material thin film formed on the collector 1 is composed of an interfacial layer formed on the collector and an active material layer formed on the interfacial layer, the interfacial layer is formed by an RF sputtering method by an RF sputtering source, and the active material layer is formed by a DC pulse sputtering method by a DC pulse sputtering source 5.例文帳に追加

集電体１上に形成される活物質薄膜が、集電体上に形成される界面層と、該界面層上に形成される活物質層とから構成されており、界面層がＲＦスパッタ源４によるＲＦスパッタ法により形成され、活物質層がＤＣパルススパッタ源５によるＤＣパルススパッタ法により形成されることを特徴としている。 - 特許庁

In the monitor camera transmitter, an RF converting circuit 11 comprising a video signal superimposing/power source extracting device 100 converts a video signal produced by photographing using a monitor camera body 10 with a DC voltage extracted from an antenna wire via a filter circuit (LPF circuit 12) as a driving power source into an RF signal and transmits the signal to a television receiver 2 via an antenna wire 6.例文帳に追加

映像信号重畳・電源取り出し装置１００を構成するＲＦ変換回路１１が、アンテナ線からフィルタ回路（ＬＰＦ回路１２）を介して取り出される直流電圧を駆動電源とする監視カメラ本体１０によって撮影され生成される映像信号をＲＦ信号に変換し、アンテナ線６を介してテレビ受像機２に伝送する。 - 特許庁

A digital processing part 101 and a switch 113 supply the low voltage and the high voltage generated by the first power source 110 and the second power source 111 to the HPA 104 by performing changeover in such a timely manner that an electric current in the envelop signal of the RF signal becomes zero.例文帳に追加

ディジタル処理部１０１およびスイッチ１１３は、第一電源１１０および第二電源１１１によって生成される低電圧および高電圧を、ＲＦ信号のエンベロープ信号が電流ゼロになるタイミングで切り換えてＨＰＡ１０４へ供給する。 - 特許庁

An ion source assembly main body 220 includes an ion source chamber 212 where ionization materials 116, 120 are supplied from solid materials 228, 232 in a region between a filament 204 and a reflection board 206 and arms of an RF antenna 128 and an ion plasma 214 is generated.例文帳に追加

イオン源アッセンブリ本体２２０は、フィラメント２０４と反射板２０６間の領域、及びＲＦアンテナ１２８のアーム間で、固体材料２２８、２３２からイオン化材料１１６及び１２０が供給され、イオン・プラズマ２１４を創り出すイオン源室２１２を備える。 - 特許庁

A power source 11 for control to supply the power for a microcomputer 13 executing the reproduction control and a power source 12 for reproduction to supply the operating power to a mechanical driver 14, RF circuit 15, DSP 16 and memory 17, are individually controlled by an external microcomputer 20.例文帳に追加

再生制御を行うマイコン１３の電源を供給する制御用電源１１と、メカドライバ１４、ＲＦ回路１５、ＤＳＰ１６およびメモリ１７に動作用電力を供給する再生用電源１２とを、外部マイコン２０によって独立して制御する。 - 特許庁

The plasma source assembly 160 includes: coils 109, 111 configured to inductively couple RF energy into the process chamber 110 to form and maintain plasma in the process chamber 110; a phase controller for controlling the relative phase of an RF current applied to each of the coils 109, 111; and an RF generator 118 coupled to the phase controller 104 and the coils 109, 111.例文帳に追加

プラズマソースアセンブリ１６０は、ＲＦエネルギーを処理チャンバ１１０に誘導結合することによっての処理チャンバ１１０内でプラズマを形成し及び維持するように構成されたコイル１０９，１１１と、コイル１０９，１１１のそれぞれに印加されるＲＦ電流の相対位相を制御するための位相コントローラと、位相コントローラ１０４及びコイル１０９，１１１に連結されたＲＦ発生器１１８を含む。 - 特許庁

A necessary RF signal is electrically supplied to a frequency shifter 5 from a synchronous circuit 10; also the frequency detecting device 8 detects variation in the light intensity converted into multiple wavelengths synchronizing with the RF signal, and determines the wavelength variation of the light from the variation in the optical intensity, and the wavelength of the light source is managed based on the wavelength variation.例文帳に追加

周波数シフタ５に同期回路１０から所要のＲＦ信号を給電し、かつ周波数検出装置８ではこのＲＦ信号に同期して多波長変換された光の強度変化を検出し、この光強度変化から光の波長変動を求め、この波長変動に基づいて光源の波長を管理する。 - 特許庁

The differential signal generation circuit 31 includes: a source grounding circuit 311 for amplifying an inputted RF signal; a drain grounding circuit 312 for generating differential signals RF_+ and RF_- of the amplified RF signal; and a capacity part 313 for adjusting a phase difference between the generated differential signals RF_+ and RF_-.例文帳に追加

差動信号生成回路３１は、入力されたＲＦ信号を増幅するソース接地回路３１１と、増幅されたＲＦ信号の差動信号ＲＦ_＋，ＲＦ_−を生成するドレイン接地回路３１２と、生成された差動信号ＲＦ_＋，ＲＦ_−の位相差を調整する容量部３１３とを備えて構成される。 - 特許庁

The plasma processing apparatus comprises a process chamber having a substrate holder supporting a procesing substrate, a dielectric tube installed at the upper part of the process chamber so as to be communicated with the interior of the process chamber, a helical coil wound around the dielectric tube, and an RF power source for feeding RF power to the helical coil.例文帳に追加

処理基板を支持する基板ホルダーを有する工程チャンバーと、工程チャンバーの内部と連通されるように工程チャンバーの上部に設置される誘電体管と、誘電体管の周りに巻かれた螺旋コイルと、螺旋コイルにＲＦ電力を供給するためのＲＦ電源と、を備えるプラズマ処理装置である。 - 特許庁

The gas is introduced into the external electrode by the gas-introducing means and the RF output is supplied by the RF power source via the matching box to the external electrode to produce plasma between the internal electrode and the external electrode, by which the thin film adhering to the internal electrode can be decomposed and removed.例文帳に追加

ガス導入手段によりガスが外部電極内に導入され、高周波電源によりマッチングボックスを介して外部電極に高周波出力が供給され、内部電極と外部電極の間にプラズマを発生させることにより、内部電極に付着した薄膜を分解して除去する。 - 特許庁

To provide an ion trap device and its adjusting method for always setting all the devices at optimal, by adjusting the phase difference between the output waveform of a RF (radio frequency) driving source and the waveform of a RF high voltage to a certain value, even if the parameters of various elements constituting the resonant circuit of each device are slightly different from device to device.例文帳に追加

個々の装置の共振回路を構成する素子のパラメータが異なる場合にも、高周波駆動源の出力波形と高周波高電圧波形との位相差を一定値に調整し、全ての装置に対して最適な設定を行うための、イオントラップ装置及び該装置の調整方法を提供する。 - 特許庁

Magnetic resonance signals radiated from a patient P are collected by a gradient magnetic field coil unit 3, a gradient magnetic field electric source 4, a sequencer 5, RF coil 7, a transmitter 8T, a receiver 8R and the like.例文帳に追加

傾斜磁場コイルユニット３、傾斜磁場電源４、シーケンサ５、ＲＦコイル７、送信器８Ｔおよび受信器８Ｒなどにより、患者Ｐから放射される磁気共鳴信号を収集する。 - 特許庁

For the above, the outermost turn T1 and the turn T2 at the center region are connected in parallel with an RF power source 130, and the turns T2, T3 at the center region are serially connected to each other.例文帳に追加

このために、最外郭のターンＴ１と中心領域のターンＴ２はＲＦ電源１３０に並列に連結され、中心領域のターンＴ２, Ｔ３は互いに直列に連結される。 - 特許庁

Then the source driving circuit part 3, gate driving circuit part 4, and RF communication control circuit part 5 are covered with a plurality of first synthetic resins 10 and 10 and the surface of the substrate 1 is covered with a second synthetic resin 11.例文帳に追加

そして、ソース駆動回路部３、ゲート駆動回路部４と、及びＲＦ通信制御回路部５を第１の合成樹脂１０，１０…で覆い、基板１の表面を第２の合成樹脂１１で覆う。 - 特許庁

An RF coil 21 for constituting the source 43 is spirally disposed on the outer periphery of the upper surface of the container 2, and an annular plasma 27 is generated on the inner periphery of the upper surface of the container 2.例文帳に追加

誘導結合型プラズマ源４３を構成するＲＦコイル２１は、内容器２上部の外周上にうず巻き状に配設し、内容器２上部の内周上に環状のプラズマ２７を生成する。 - 特許庁

A DC bias is formed on the substrate 22 arranged on the surface of the supporting base 20 by biasing each electrode by coupling an RF power source 48 with each electrode.例文帳に追加

各電極を基板支持物に結合し、ＲＦ電源４８を各電極に結合することにより各電極をバイアスして、支持表面上に配置した基板２２上にＤＣバイアスを作成する。 - 特許庁

To provide an RF-ID tag capable of increasing the sensitivity and long-distance communication while having a display function and a self- diagnostic function by composing the power source of the ID tag of a solar battery and an electric double layer capacitor.例文帳に追加

ＩＤタグの電源を太陽電池と電気二重層コンデンサで構成し、表示機能と自己診断機能を有する感度アップと遠距離通信を可能としたＲＦ−ＩＤタグを提供する。 - 特許庁

When the power source is OFF and the RF antenna is attached or detached, an analog switch 67 is turned OFF to cut off the electric power from a lithium battery to a CMOS memory 50, thereby inhibiting access to the computer.例文帳に追加

電源オフでＲＦアンテナ着脱のときアナログスイッチ６７を遮断し、リチウムバッテリーから供給のＣＭＯＳメモリ５０への電力が遮断され、コンピュータへのアクセスを禁止することができる。 - 特許庁

A switch driver sends RF pluses in order to turn on/off the first and second TR switches and allow a current from a DC voltage source to alternately flow in first and second directions through a load.例文帳に追加

スイッチドライバは、第１と第２のトランジスタスイッチをオン及びオフに駆動するためにかつ、ＤＣ電圧源からの電流が負荷を通して第１と第２の方向に交互に流れるようにＲＦパルス送る。 - 特許庁

An etching chamber 10 includes the mounting table 11 of a semiconductor wafer W and a gas feeding head 12 to be used as an upper electrode and a lower electrode for plasma induction by a high frequency power source RF in common inside.例文帳に追加

エッチングチャンバ１０は、内部に高周波電源ＲＦによるプラズマ誘導のための上部電極及び下部電極を兼ねる半導体ウェハＷの載置台１１及びガス供給ヘッド１２を含む。 - 特許庁

A power source such as an RF signal generator is operated to spread a spectrum of acoustic radiation with a time scale shorter or equivalent than/to an acoustic roundtrip time, in another embodiment of the present invention.例文帳に追加

本発明の他の態様によると、ＲＦ信号生成器などのパワー源を作動させ、音響往復時間に対して短いまたは同等な時間スケールで音響放射のスペクトルを拡散させる。 - 特許庁