「UNIFORMITY OF FILM」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing an electrophotographic photoreceptor having good uniformity of a film thickness of an intermediate layer.例文帳に追加

中間層の膜厚均一性の良好な電子写真感光体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To achieve stabilization of a film deposition rate, to enhance in-plane uniformity and to prolong the life of a target.例文帳に追加

成膜レートの安定化、面内均一性の向上およびターゲットの長寿命化を図る。 - 特許庁

To provide a technique which improves the uniformity of film thickness of a coating liquid applied to a substrate.例文帳に追加

基板に塗布された塗布液の膜厚の均一性を向上する技術を提供する。 - 特許庁

To uniformly supply gas to a substrate and to improve the uniformity of the thickness of a film formed on the substrate.例文帳に追加

基板への均一なガス供給を実現して、基板に成膜される膜厚均一性を向上する。 - 特許庁

To efficiently improve uniformity of a film thickness when an element having a plurality of laminated films is formed.例文帳に追加

複数の膜を積層した素子を形成するにあたり、効率よく膜厚の均一性を向上させる。 - 特許庁

Moreover, the thickness of a preliminary oxide film 16 is made thin in a controllable degree for improvement of the in-plane uniformity.例文帳に追加

また、プレ酸化膜１６は、面内均一性向上のため制御し得る程度で薄膜化される。 - 特許庁

To ensure uniformity of the thickness in film deposition by the dense and sparse pattern of gas introduction holes.例文帳に追加

ガス導入孔の粗密パターンにより成膜の膜厚の均一性をより確保する。 - 特許庁

To provide a display device and a donor substrate capable of improving film thickness uniformity of light-emitting layers.例文帳に追加

発光層の膜厚均一性を向上させることができる表示装置およびドナー基板を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition device with a high utilization efficiency of an EL material and a superior uniformity of a film.例文帳に追加

ＥＬ材料の利用効率が高く、膜の均一性に優れた蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To improve in-plane uniformity of a film formed on the surface of a substrate in a CVD device.例文帳に追加

ＣＶＤ装置において、基板の表面に形成する膜の面内均一性を向上させる。 - 特許庁

To provide a method and a device for forming a film, for improving uniformity of the resistance distribution of a thin film formed on the surface of a substrate, by improving the uniformity of the impurity density distribution of the thin film.例文帳に追加

基板の表面に形成される薄膜の不純物濃度分布の均一性を向上させることにより、薄膜の抵抗値分布の均一性を向上させることができる成膜方法及び成膜装置を提供する。 - 特許庁

To enable formation of a capacitor insulation film of high uniformity even in a deep hole of a high aspect ratio by specifying a film thickness of a metal oxide compound film of high dielectric constant.例文帳に追加

アスペクト比がたとえば３以上と高い深孔内においても、均一性の高いキャパシタ絶縁膜を形成する。 - 特許庁

Because the uniformity of film thickness distribution in the longitudinal direction is improved by lengthening the evaporation source and film deposition is applied to the whole of the substrate by moving the evaporation source, the uniformity of the film thickness distribution over the whole of the substrate can be improved.例文帳に追加

蒸着源を長くすることにより長手方向における膜厚分布の均一性が高まり、その蒸着源を移動させて基板全体を成膜するので基板全体の膜厚分布の均一性を向上させることができる。 - 特許庁

To provide a method for improving uniformity and adhesiveness of a tungsten film having a low resistivity.例文帳に追加

低抵抗率を有するタングステン膜の均一性および接着性を高める方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processor which can enhance uniformity in temperature within the substrate at the time of forming a film.例文帳に追加

成膜時に基板面内の温度均一性を高めることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To dry a wafer, while improving the uniformity in the wafer surface of a resist film.例文帳に追加

レジスト膜のウェハ面内の均一化を図りつつ，ウェハを乾燥処理する。 - 特許庁

To improve the uniformity and reproducibility of deposited film characteristics under a superior production stability.例文帳に追加

堆積膜特性の均一性・再現性の向上を、優れた生産安定性のもとで実現する。 - 特許庁

The asymmetry is selected to improve the deposition uniformity and other qualities of the RECVD deposited film.例文帳に追加

非対称性を選択して、ＰＥＣＶＤ堆積フィルムの堆積均一性及びその他品質を改善する。 - 特許庁

To provide a method for controlling thickness uniformity of an organosilicate film deposited on a large substrate.例文帳に追加

大型基板上に堆積されるオルガノ珪酸塩膜の厚さ均一性を制御する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical film having a low stress and excellent in-plane uniformity of optical characteristics.例文帳に追加

低応力で且つ光学特性の面内均一性に優れた光学膜を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a display device high in the uniformity of film thickness distribution.例文帳に追加

膜厚分布の均一性の高い表示装置の作製方法を提供する。 - 特許庁

According to the arrangement, film thickness can be made uniform while enhancing uniformity in the dosage of phosphorus.例文帳に追加

これにより、膜厚均一性と共に、リンのドーピング量均一性を向上させることができる。 - 特許庁

To provide a method of forming a thermal oxide film having high uniformity and good quality in a vertical furnace.例文帳に追加

縦型炉において均一性が高く良質の熱酸化膜を形成する方法の提供。 - 特許庁

To obtain an electrothermorecording ribbon film in which uniformity and efficiency are enhanced in the heating of a cell.例文帳に追加

通電発熱リボンフィルムにおいてセルの加熱の一様性及び効率の向上を図る。 - 特許庁

FABRICATION OF THIN FILM PHOTOVOLTAIC MODULE HAVING HIGH UNIFORMITY INTERCONNECT AND DOUBLE LAYER CONTACT例文帳に追加

統一性の高いインタコネクトと二重層接点とを備えた薄膜光起電力モジュ—ルの製造 - 特許庁

To further improve the uniformity of film formation in a batch, even at low dose quantity.例文帳に追加

特に、低いドーズ量においても、バッチ内の成膜均一性を更に向上させることを課題とする。 - 特許庁

To provide a plating method capable of forming a plating film with an excellent in-plane uniformity on a plating substrate.例文帳に追加

面内均一性に優れためっき膜を被めっき基板に形成できるめっき方法を提供する。 - 特許庁

To provide a heat developable photosensitive material having low residual color property and being excellent in uniformity of film surface condition.例文帳に追加

残色性の少ない、膜面状の均一性に優れた熱現像感光材料を提供すること。 - 特許庁

To provide an electroless plating method by which the uniformity of a plating film to be formed can be improved.例文帳に追加

形成されるメッキ膜の均一性の向上を図れる無電解メッキ方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a hydrophilic antifouling layer on a surface of a coating film that is excellent in water resistance and alkali resistance without non-uniformity.例文帳に追加

塗膜表面に耐水性、耐アルカリ性に優れた親水性防汚層をムラなく形成する。 - 特許庁

Consequently, film thickness uniformity of the transferred red color light-emitting layer and the transferred green color light-emitting layer is improved.例文帳に追加

転写された赤色発光層および緑色発光層の膜厚均一性が向上する。 - 特許庁

To provide a deposition system having excellent uniformity of a film at a high deposition rate.例文帳に追加

高堆積レートで膜の均一性の良好な堆積システムを提供する。 - 特許庁

The a-SiN_x: H film gives the uniformity of film thickness required across such a large surface area of the substrate and the uniformity of the film characteristics including the chemical composition.例文帳に追加

ａ−ＳｉＮ_ｘ：Ｈ膜は、このように大きな基板表面積にわたって必要とされる膜厚みの均一性、及び化学的組成を含む膜特性の均一性を与える。 - 特許庁

To provide a film in which not only isotropy but also uniformity of thickness of the film are excellent, by a tubular film process of a thermoplastic liquid crystal polymer.例文帳に追加

熱可塑性液晶ポリマーのインフレーション製膜法により、等方性のみならずフィルム厚みの均一性の優れたフィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a film forming device which can inhibit the lowering of the in-plane uniformity of the film thickness of a film formed which is formed.例文帳に追加

成膜した膜の膜厚の面内均一性の低下を抑制することができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

To easily evaluate uniformity of the film thickness of a sample film by finding a probability distribution of the film thickness.例文帳に追加

膜厚の確率分布を求めることにより、試料膜の膜厚の均一性の評価を容易に行えるようにする。 - 特許庁

To prevent non-uniformity in a film thickness of a resist film when a resist is applied to a wafer having a rugged surface, particularly non-uniformity in the film thickness in an edge part of a rugged part.例文帳に追加

表面に凹凸のあるウエハへのレジスト塗布時におけるレジスト膜の膜厚の不均一性、とくに凹凸部のエッジ部における膜厚の不均一性の防止。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing SOI wafer, by which both the film thickness uniformity in wafers and film thickness uniformity between the wafers can be reduced to sufficiently low levels, even when the required film thickness level of an SOI layer is very low.例文帳に追加

ＳＯＩ層の要求膜厚レベルが非常に小さい場合においても、ウェーハ内の膜厚均一性及びウェーハ間の膜厚均一性の双方を十分小さいレベルに軽減できるＳＯＩウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve the uniformity of film thickness in the face of a substrate at forming a thin film for antireflection film on the substrate.例文帳に追加

基板上に反射防止用薄膜を形成する場合に、基板の面内における膜厚の均一性を高めることができるようにする。 - 特許庁

To provide a forming method of an insulating film whereby there can be obtained the insulating film having few damage caused by ions the uniformity of whose film thickness is favorable.例文帳に追加

イオン損傷が少なく、しかも、膜厚の均一性の良好な絶縁膜を得ることができる絶縁膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

To increase uniformity of a film deposition rate when a plurality of wafers is simultaneously subjected to batch treatment using a film deposition system where film deposition is performed by a supercritical process.例文帳に追加

超臨界プロセスによって成膜を行う成膜装置で、複数のウエハを同時にバッチ処理する際の成膜レートの均一性を高める。 - 特許庁

In the film forming step, the exhaustion of gases from the processing vessel is reduced so as not to affect film thickness uniformity of the film formed on the substrate.例文帳に追加

膜を形成する工程では、基板上に形成される膜の膜厚均一性に影響を与えないよう処理容器からのガスの排気を少なくする。 - 特許庁

To improve the throughput by enhancing the in-plane uniformity of film thickness of a coating film when the coating film is formed on a substrate.例文帳に追加

基板に塗布膜を形成するにあたり、該塗布膜の膜厚の面内均一性を高め、スループットを向上させること。 - 特許庁

To provide a film forming apparatus capable of improving in-plane uniformity of film thickness and enhancing reaction efficiency, thereby increasing film forming speed.例文帳に追加

膜厚の面内均一性を向上させると共に、反応効率を向上させて成膜速度も高くすることができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

To facilitate the regulation of the pressure in a heating chamber, and to improve uniformity in the film quality and film thickness distribution of a thin film.例文帳に追加

加熱室内の圧力調整を容易とし、薄膜の膜質や膜厚分布の均一性を改善する。 - 特許庁