「W rays」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

Because ultraviolet rays are irradiated by a diode 11 onto a protective tape PT joined to the wafer W and the protective tape PT is heated by a heater 71 to a set temperature simultaneously with the ultraviolet irradiation, a polymerization reaction is certainly accelerated by the reaction of the ultraviolet rays from the diode 11 and the reaction of heating by the heater 71, thereby curing an adhesive which cannot be cured with only ultraviolet rays.例文帳に追加

ダイオード１１によってウエハＷに貼付けられた保護テープＰＴに紫外線が照射され、この紫外線照射と同時にヒータ７１によって保護テープＰＴが設定された温度に加熱されるので、ダイオード１１による紫外線の反応とヒータ７１による加熱の反応とによって、重合反応が確実に促進され、紫外線のみでは硬化しきれない粘着剤を硬化させることができる。 - 特許庁

Then, it is sucked and fixed on the upper face 102 of the lower fame 100 of the substrate W by evacuating by the vacuum sucking device 120, and the alignment with the mask film M is confirmed, so that exposure is performed by irradiating with ultraviolet rays from an exposure light source.例文帳に追加

その後、真空吸着装置120で真空引きして基板Ｗ下枠100の上面102に吸着固定し、マスクフィルムＭとのアライメントを確認し、露光光源から紫外線を照射して露光する。 - 特許庁

For the bed 6, ore pellets 10 which emit the far infrared rays are spread in a prescribed thickness on a hot air path space W formed with the bottom surface wall 4 of the simple assembly type unit, and a fan heater for bedrock bathing which blows hot air is provided on the entrance side of the hot air path space W.例文帳に追加

前記岩盤浴ベッド６は、前記簡易組立式ユニットの底面壁４との間に温風通路空間Ｗを形成する上に遠赤外線を放出する小塊鉱石１０を所定厚さに敷設すると共に前記温風通路空間Ｗの入口側に温風を送風する岩盤浴用ファンヒーターを設ける。 - 特許庁

The long-wavelength radiation thermometer 120 having a thermopile executes temperature measurement of the semiconductor wafer W by receiving infrared rays in a wavelength range that do not penetrate through a lower chamber window 64 made of quarts, therefore, it can execute temperature measurement while preventing the light of the halogen lamp HL from becoming disturbance light.例文帳に追加

サーモパイルを有する長波長放射温度計１２０は、石英の下側チャンバー窓６４を透過しない波長域にて測定するため、ハロゲンランプＨＬの光が外乱光とならずに温度測定を行うことができる。 - 特許庁

In an underfill treatment, a work W placed in a heating zone HZ formed of a heating cover 21, a fixed rail 51, a movable rail 52, a heater box 23, and a heating-zone room-temperature protective sheet 64 is irradiated with heat rays from a heater tube 31 for near infrared rays adjusted by an interference parting plate 32 while being rocked by a rocking mechanism 80.例文帳に追加

アンダフィリング処理において、熱カバー２１、固定レール５１、移動レール５２、ヒータボックス２３、加熱ゾーン室温保護シート６４により形成された加熱ゾーンＨＺに載置されたワークＷは、揺動機構８０により揺動されながら、干渉仕切板３２により調整された近赤外線のヒータ管３１の熱線が照射される。 - 特許庁

The flow of a backside gas 236 is formed on a surface of the backside of an edge in a wafer W, and the flow of a front surface gas 246 in the same direction as in the backside gas is also formed on the front surface to make the velocity of the backside gas faster than that of the front surface gas in performing cleaning treatment, by irradiating the edge of the wafer W with ultraviolet rays.例文帳に追加

ウエハＷの端部に紫外線を当てて洗浄処理を行う際に，ウエハＷの端部の裏側表面に裏側気体２３６の流れを形成するとともに，その表側表面にも裏側気体と同一方向の表側気体２４６の流れを形成し，裏側気体の流速を表側気体の流速よりも速くする。 - 特許庁

At this time, when adjacent four pixels are defined as one unit 5, colors of illuminating rays of light to respective pixels 4 are different with each other as shown by R, G, B, and W and, furthermore, the arrangement of each color is changed over successively and mutually for every field period.例文帳に追加

ここで、隣接する４画素を１単位５としたときに、各画素４への照明光の色はＲ、Ｇ、Ｂ、Ｗで示されているように互いに異なり、さらにフィールド期間ごとに各色の配列を順次相互に切り換えている。 - 特許庁

An integrator 94 comprising a plurality of lens elements is provided at an optical path M between a light source lamp 90 and the wafer W, and an attenuation filter 101 which intercepts a predetermined wavelength region K of the ultraviolet rays is provided just before the integrator 94.例文帳に追加

光源ランプ９０からウェハＷまでの間の光路Ｍには，複数のレンズ素子からなるインテグレータ９４が設けられ，インテグレータ９４の直前に，紫外線の所定の波長領域Ｋを遮断する減衰フィルタ１０１が設けられる。 - 特許庁

The X-ray-fluorescence conversion section 13 is arranged to face the image pickup section so that the film forming direction (u) of the X-ray fluorescent material 9 is made perpendicular to the aligning direction (v) of the image pickup elements 20 and the incidence direction (w) of the X-rays 3.例文帳に追加

Ｘ線−蛍光変換部１３を、Ｘ線蛍光物質９の成膜方向ｕが撮像素子２０の配列方向ｖおよびＸ線３の入射方向ｗに対し共に直交するよう配置して撮像部１４に対設する。 - 特許庁

The radiography system is provided with an X-ray tube 2 for irradiating an object W with the X-rays of a focus diameter D(μm), an image detector 31 for detecting the radiated X-rays and a radiographing device 3 for generating image signals according to the X-ray amount, and generates the image signals according to the X-ray amount detected by the image detector 31.例文帳に追加

Ｘ線撮影システムは、被写体Ｗに焦点径Ｄ（μｍ）のＸ線を照射するＸ線管２と、当該照射されたＸ線を検出する画像検出器３１と、そのＸ線量に応じた画像信号を生成する撮影装置３とを備えて、前記画像検出器３１により検出されたＸ線量に応じた画像信号を生成する。 - 特許庁

The oxynitride fluorescent body contains nitrogen and oxygen, is expressed by the general formula below with w, x, y and z in the range as specified below, absorbs near ultraviolet rays or visible lights in the short wavelength region and emits fluorescence having a peak in the wavelength range of 490 to 570 nm.例文帳に追加

窒素及び酸素を含有する窒化物蛍光体であって、以下の一般式で示され、ｗ、ｘ、ｙ、ｚを以下の範囲とし、近紫外線乃至可視光の短波長側領域を吸収して４９０から５７０ｎｍの波長の範囲にピーク波長を持つ蛍光を発する。 - 特許庁

The drying unit 62 comprises a condenser plate 622, which condenses the infrared rays emitted from an infrared lamp 621 on a prescribed condensing axis, while being arranged so that the condensing axis almost coincides with the conveying path of the end part of the chip part W, where the conductor paste is transferred.例文帳に追加

乾燥ユニット６２は、赤外線を放射するランプ６２１から放射された赤外線を所定の集光軸上に集光させる集光板６２２を有しており、チップ部品Ｗの導体ペーストが転写された端部の搬送経路に該集光軸がほぼ一致するように配置されている。 - 特許庁

A UV irradiation device 1 includes: a stage 13 on which a substrate W is placed and irradiation parts 22a to 22d wherein a plurality of UVLEDs emitting UV and being individually turned on/off are linearly arranged and which emit linear light rays having a width nearly equal to that of outer and inner side sealing materials.例文帳に追加

紫外線照射装置１は、基板Ｗが載置されるステージ１３と、紫外線を照射可能であるとともに個別にオンオフ可能な複数のＵＶＬＥＤが線状に配列され、外側及び内側シール材の幅と略同幅の線状の光を照射する照射部２２ａ〜２２ｄを備える。 - 特許庁

To provide a low threshold organic inverse-oversaturation absorbing material which shows a significant increase in the absorbance of the material by weak steady light such as light from an LED, a semiconductor laser and sun rays having an energy of not more than 1 W/cm^2 and in an order of several mW/cm^2 in air at a normal temperature, and allowing the formation of a medium having a large area.例文帳に追加

常温大気中で１Ｗ／ｃｍ^2以下、数ｍＷ／ｃｍ^2オーダーというＬＥＤや半導体レーザ、太陽光などの弱い定常光によって、材料の吸光度が大きく増加し、大面積の媒体が形成可能なような材料、低閾値有機過飽和吸収材料を提供する。 - 特許庁

An especially pref. photocatalyst has a semiconductor being oxide of at least a metal selected from the group consisting of Ti, Sr, Bi, W and Zn and 0.05-5 wt.% of a metal selected from a group consisting of Pt, Ru, Rh, Ir and Ni or oxide thereof supported thereon and is irradiated with ultraviolet rays.例文帳に追加

特に好適な光触媒は、前記半導体がＴｉ，Ｓｒ，Ｂｉ，Ｗ及びＺｎからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物であり、かつ、０．０５〜５重量％のＰｔ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｉｒ及びＮｉからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属又はこれらの金属の酸化物が担持され、更に紫外光が照射されてなるものである。 - 特許庁