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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > alignment offsetに関連した英語例文

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alignment offsetの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 69



例文

The center of crowning applied to the drum gear 12 is offset by 3 mm toward the photoreceptor drum 1Y, thereby absorbing alignment error variation during driving and avoiding one-sided contact of the drum gear 12.例文帳に追加

ドラムギア12に施すクラウニングの中心を感光ドラム1Y側に3mmオフセットすることにより、駆動中のアライメント誤差変動を吸収してドラムギア12の片当たりを回避している。 - 特許庁

The alignment between the substrate layer and the reticles are offset by a predetermined amount (235), the photoresist is subjected to a second exposure (240), and at least one of the photoresist lines printed by the first exposure is branched.例文帳に追加

基板層とレチクル間の整列を所定量だけオフセットして(235)、フォトレジストは2回目の露光がされ(240)、第1の露光によってプリントされたフォトレジストラインの少なくとも1つを分岐させる。 - 特許庁

A method of determining offset between a center of the substrate and a center of concavity of chuck comprises the steps of: offering a testing substrate smaller than the concavity in size; measuring a location of alignment mark of the testing substrate while the testing substrate exists inside the concavity; and determining the offset between a center of the testing substrate and the center of the concavity from the location of the alignment mark.例文帳に追加

基板の中心とチャックの凹所の中心との間のオフセットを決定するための方法には、寸法が凹所の寸法より小さい試験基板を凹所に提供するステップと、試験基板が凹所内に存在している間に、試験基板のアライメント・マークの位置を測定するステップと、アライメント・マークの位置から試験基板の中心と凹所の中心との間のオフセットを決定するステップが含まれている。 - 特許庁

The method includes bringing the imprint template alignment grating 24 and the substrate alignment grating 23 sufficiently close together such that they form a composite grating, guiding an alignment radiation beam to the composite grating while modulating the relative position of the imprint template 21 and the substrate 20, detecting a luminous intensity of alignment radiation which is reflected from the composite grating, and determining the offset by analyzing the modulation of the detected luminous intensity.例文帳に追加

この方法は、前記インプリントテンプレートアライメント格子24および前記基板アライメント格子23を、複合格子を形成するべく十分に近づけることと、前記インプリントテンプレート21および前記基板20の相対位置を変調させる間に前記複合格子にアライメント放射ビームを誘導することと、前記複合格子から反射されたアライメント放射の光度を検出することと、前記検出された光度の変調を分析することにより前記オフセットを特定することと、を含む。 - 特許庁

例文

Moreover, a reaction product formed in a pattern sidewall part in self-alignment in dry etching of a metal film or a sidewall insulation film formed in self-alignment in an isotropic etching of a thick insulation film is used as a doping mask in the formation of an offset region or an LDD region.例文帳に追加

また、オフセット領域或いはLDD領域を形成する際のドーピングマスクとして、金属膜のドライエッチング時にパターン側壁部に自己整合的に形成される反応生成物、或いは厚い絶縁膜の異方性エッチングを行った時に自己整合的に形成される側壁絶縁膜を用いる。 - 特許庁


例文

A method and apparatus for estimating the parameters of a wireless communication system includes at least one base station, each of the base stations having (m) antenna elements (101), the parameters being one or more of: the time alignment, the frequency offset, and the weight vector for spatial processing.例文帳に追加

前記基地局の各々はm個のアンテナ要素(101)を有し、前記パラメータは時整列、周波数オフセット、空間処理のための重みベクトルの内1つ又はそれ以上である、そのような方法と装置。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable of forming an FET (field-effect transistor) with a gate electrode offset in self-alignment by a sure and easy method, and to provide the semiconductor device manufactured by this method.例文帳に追加

確実且つ容易な方法により、ゲート電極をオフセットさせたFETをセルフアライン的に形成できる半導体装置の製造方法及びこの方法により製造された半導体装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Consequently, in the case that the projection data is dislocated from the desired alignment condition, the alias is intended to be suppressed and resolution is intended to be kept, by not reversely projecting according to a projection path and reversely projecting at the position properly offset according to the misalignment condition.例文帳に追加

つまり、投影データが所望のアライメント状態からずれている場合、投影パス通りに逆投影せずに、ミスアライメント状態に対応して適切にオフセットさせた位置に逆投影させ、エリアス抑制と分解能維持を図る。 - 特許庁

To provide a vertical hall element for carrying out magnetic detection with much higher precision by suppressing the generation of any offset voltage due to position deviation(alignment deviation) due to a mask matching error at the time of manufacturing elements, and to provide a method for manufacturing it.例文帳に追加

素子作製時のマスク合わせ誤差による位置ずれ(アライメントずれ)に起因するオフセット電圧の発生を抑制して、より高い精度での磁気検出を可能とする縦型ホール素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

The central processing unit 4 decides an offset used for an alignment processing based on the correction parameter, measurement positions and the inspection/ measurement positions, which are collected for a plurality of photosensitive substrates, and it is informed to the aligner 1 (data transfer 20).例文帳に追加

中央処理装置4は、複数枚の感光基板に関して収集した補正パラメータ、計測位置及び検査計測位置に基づいてアライメント処理に用いるオフセットを決定し、露光装置1に通知する(データ転送20)。 - 特許庁

例文

This image defect inspection device 10 is equipped with an image alignment part 22 for detecting a sub-pixel offset amount between two images which are objects under inspection, and a correction amount determination part 25 for determining a correction amount for a gray level difference detected by a difference detection part 26 at pattern edge parts of the two images based on the detected offset amount.例文帳に追加

画像欠陥検査装置10は、検査対象たる2つの画像のサブピクセルずれ量を検出する画像アライメント部22と、検出したサブピクセルずれ量に基づいて、差分検出部26により検出されるグレイレベル差の、前記の2つの画像のパターンエッジ部における補正量を決定する補正量決定部25とを備えることとする。 - 特許庁

This method includes the step of positioning an optical servo system in a first position with respect to a selected recording channel, the step of processing the alignment tape in order to decide an offset in a horizontal direction between the optical servo system and the selected recording channel, and the step of positioning the optical servo system in a second position with respect to the recording channel by using the offset of the horizontal direction.例文帳に追加

この方法は、光サーボシステムを選択された記録チャネルに対して第1の位置に位置付けるステップと、光サーボシステムと選択された記録チャネルとの間の横方向のオフセットを決定するためにアライメントテープを処理するステップと、横方向オフセットを用いて光サーボシステムを選択された記録チャネルに対して第2の位置に位置付けるステップとを含む。 - 特許庁

In this manufacturing method, a primary acceptance determining section determines whether or not the hole diameter D of a contact hole opening 42 and the alignment offset value A of a lower interconnection line 10 configured as a target pattern are within a predetermined standard range in a primary acceptance determination step (Step S4).例文帳に追加

第1合否判定部18において、コンタクトホール開口部42のホール径D及びターゲットパターンとしての下層配線ライン30とのアライメント・オフセット値Aがそれぞれ所定の規格範囲内に入っているか否かの1次合否判定を行う(ステップS4)。 - 特許庁

To provide a sheet handling device capable of preventing an alignment condition from being disturbed by reliably butting a rear end of a sheet S to a sheet upstream side end stopper 411 even when an offset roller 407 drives the sheet at the position slightly separating from the sheet upstream side end stopper 411, or even in a case of an upwardly curled sheet.例文帳に追加

シート上流側端ストッパー411から多少離れた位置でオフセットローラ407がシートを駆動する場合でも、上カールしたシートでも、シート上流側端ストッパー411へ確実にシートSの後端を突き当てて整合状態を乱さないで済むシート処理装置を提供する。 - 特許庁

That is, the drawing data corresponding to the first to fourth drawing areas 60 to 63 are corrected on the basis of the location offset off[G], scale ratios scx[G] and scy[G], and rotation angle θ[G], where G represents 0, 1, 2 or 3, calculated from the displacement of positions of the alignment holes to obtain the corrected drawing data.例文帳に追加

すなわち、アライメント穴位置のずれから算出した、配置オフセットoff[G]、スケール比scx[G]、scy[G]および回転角θ[G](G=0、1、2、3)に基づき、第1〜第4描画領域60〜63に対応する描画データをそれぞれ補正して、補正描画データとする。 - 特許庁

When the DAM transfer of data from a sender's address pointer sp on a global memory 205 to a destination address pointer dp on a local memory 203, the address offset value of the destination address pointer dp with respect to the alignment boundary is adjusted to meet the constraint condition.例文帳に追加

グローバルメモリ205上の転送元アドレスポインタspからローカルメモリ203上の転送先アドレスポインタdpにデータをDAM転送する場合、アラインメント境界に対する転送先アドレスポインタdpのアドレスオフセット値を調整することで、上記制約条件を満たす。 - 特許庁

This positional information measuring instrument measures the positional information on alignment marks AM formed on a wafer W by electrically processing detecting signals obtained by irradiating the marks AM with light and, for the alignment mark for which the positional information is first measured, measures the positional information by making AGC effective and stores the amplification factor and offset value obtained at the time of measuring the information.例文帳に追加

本発明の位置情報計測装置は、ウェハW上に形成されたアライメントマークに照明光を照射して得られる検出信号に対して電気的処理を施してアライメントマークAMの位置情報を計測するものであって、ウェハ上の最初に位置情報を行うアライメントマークに対してはAGCを有効にして計測を行って、計測時の増幅率及びオフセットの値を記憶する。 - 特許庁

At a S107, a nozzle reference-position data 303b of the head reference marks 214 to 217 incorporated at a S102 is corrected by an offset quantity data 303e calculated with the initial camera-position registering data 303c and this time camera-position data 303d, and based on the corrected data the alignment operation of the liquid-droplet discharge head 51 is performed.例文帳に追加

S107では、S102で取り込んだヘッド基準マーク214〜217のノズル基準位置データ303bは、S106で初期カメラ位置登録データ303cと今回カメラ位置データ303dとで算出されたオフセット量データ303eで補正され、この補正されたデータに基づいて液滴吐出ヘッド51のアライメントを行う。 - 特許庁

例文

The head alignment adjuster 2 reciprocates a thermal head 14 along the carrying direction A of a recording sheet 15 by moving a head moving jig 10 through a head moving motor 11 thus performing test print while varying offset of the center of a heating element 14a and the axial center of a platen roller 16 in the carrying direction A.例文帳に追加

ヘッドアラインメント調整装置2は、ヘッド移動モータ11を介してヘッド移動治具10を移動させることで、サーマルヘッド14を記録紙15の搬送方向Aに沿って往復移動させ、搬送方向Aにおける発熱素子14aの中心とプラテンローラ16の軸中心とのオフセット量を変化させながらテストプリントを印画する。 - 特許庁




  
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