「amorphous film」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

MANUFACTURING METHOD OF CRYSTAL THIN FILM OF LARGE PARTICLE DIAMETER FROM AMORPHOUS FILM例文帳に追加

アモルファス膜からの大粒径の結晶薄膜の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR HEAT-TREATING FILM SUBSTRATE AND AMORPHOUS RESIN FILM例文帳に追加

フィルム基材の熱処理方法及び非晶質樹脂フィルム - 特許庁

RESIN SUBSTRATE COATED WITH AMORPHOUS CARBON FILM AND FILM FORMING METHOD例文帳に追加

非晶質炭素膜が被覆された樹脂基体及び成膜方法 - 特許庁

FORMING METHOD OF AMORPHOUS SILICON FILM AND FILM FORMING DEVICE例文帳に追加

アモルファスシリコン膜の成膜方法および成膜装置 - 特許庁

AMORPHOUS ALLOY FILM, MAGNETIC MULTILAYERED FILM, AND OPTICAL MAGNETIC RECORDING MEDIUM例文帳に追加

アモルファス合金膜、磁性多層膜および光磁気記録媒体 - 特許庁

The crystallized silicon film 5 is formed by irradiating this amorphous film 2 to scan a laser beam 3 to the amorphous film 2.例文帳に追加

この非晶質系膜２に対してレーザ光３が走査する様に照射されることにより、結晶化したシリコン膜５が形成される。 - 特許庁

Subsequently, an amorphous silicon film 4 is formed on the insulation film 2, and a laser beam is emitted to the amorphous silicon film 4.例文帳に追加

次に、この絶縁膜２の上に非晶質珪素膜４を形成し、非晶質珪素膜４にレーザを照射する。 - 特許庁

An amorphous thin film is formed by a composition having a supercooled liquid region and a film forming condition to form an amorphous thin film structural body.例文帳に追加

過冷却液体域を有する組成および成膜条件により非晶質薄膜を成膜し、非晶質の薄膜構造体を形成する。 - 特許庁

Materials having high thermal diffusivity such as hydrogen containing amorphous carbon, gas phase synthetic diamond, silicon containing amorphous carbon, amorphous AlN and amorphous BeO are applied to each non-magnetic insulating film of a head element and a disk protective film.例文帳に追加

含水素非晶質炭素、気相合成ダイヤモンド、含珪素非晶質炭素、非晶質ＡｌＮ、非晶質ＢｅＯ等の熱拡散率の高い材料を、ヘッド素子の各非磁性絶縁膜やディスク保護膜に適用する。 - 特許庁

As the amorphous carbon film advances from a surface of the amorphous carbon film towards a surface contacting the base film in its thickness direction, a film density of the amorphous carbon film decreases.例文帳に追加

アモルファスカーボン膜は、アモルファスカーボン膜の表面から下地膜に接する面に向かってその厚み方向を進むにつれて、アモルファスカーボン膜の膜密度を小さくする。 - 特許庁

When the amorphous-carbon film 13 is worked, the amorphous-carbon film 13 is worked on its midway of a working (16), and a protective film 12b consisting of an oxide film is formed on the side wall of the exposed amorphous-carbon film.例文帳に追加

アモルファスカーボン膜１３を加工する際、途中まで加工した後（１６）、露出したアモルファスカーボン膜の側壁に酸化膜からなる保護膜１２ｂを形成する。 - 特許庁

An amorphous silicon film 102 is formed on a semiconductor susbtrate 100, a stopper film 10 for preventing a migration on the surface of the amorphous silicon film 102 is formed on the surface of the amorphous silicon film 102, and then after this, the stopper film 10 is removed from the surface of the amorphous silicon film 102.例文帳に追加

半導体基板１００上にアモルファスシリコン膜１０２を形成し、アモルファスシリコン膜１０２の表面に、アモルファスシリコン膜１０２の表面のマイグレーションを防止するストッパ膜１０を形成し、その後、アモルファスシリコン膜１０２の表面からストッパ膜１０を除去する。 - 特許庁

An amorphous silicon film 2 containing argon element or phosphorus ion and boron ion is formed on a glass substrate 1, and an amorphous silicon film 4 is formed on the amorphous silicon film 2 through an insulation film 3.例文帳に追加

ガラス基板１上に、アルゴン元素あるいは、リンイオン及びホウ素イオンを含有する非晶質シリコン膜２を形成し、この非晶質シリコン膜２上に、絶縁膜３を介して非晶質のシリコン膜４を形成する。 - 特許庁

Then the film forming apparatus may include a step of forming an amorphous silicon film on the glass substrate, a dehydrogenation step of the amorphous silicon film, and a polycrystalization step of the amorphous silicon film.例文帳に追加

こうしてこの成膜装置では、ガラス基板上にアモルファスシリコン膜を形成する工程と、アモルファスシリコン膜の脱水素工程と、アモルファスシリコン膜のポリ化工程と、を行うことができる。 - 特許庁

The thin film comprises a material containing tantalum, and the film structure of the thin film is amorphous.例文帳に追加

上記薄膜はタンタル含む材料からなると共に、該薄膜の膜構造がアモルファスである。 - 特許庁

A W silicide film (conductive film) 4b is formed onto the amorphous silicon film 2a.例文帳に追加

その非晶質シリコン膜２ａ上にＷシリサイド膜（導電膜）４ｂを形成する。 - 特許庁

AMORPHOUS CARBON FILM, SEMICONDUCTOR DEVICE, FILM FORMING METHOD, FILM FORMING DEVICE AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加

アモルファスカーボン膜、半導体装置、成膜方法、成膜装置及び記憶媒体 - 特許庁

A laminated structure with the amorphous carbon nitrite film and an inorganic film such as SiN film may be provided.例文帳に追加

またアモルファス窒化炭素膜とＳｉＮ膜等の無機膜との積層構造としてもよい。 - 特許庁

An amorphous silicon film 105a is formed on the insulating film 130 covering the metallic film 102.例文帳に追加

絶縁膜１３０上に金属膜１０２を覆ってアモルファスシリコン膜１０５ａを形成する。 - 特許庁

Then, (b) an silicon oxide film 41 and (c) amorphous silicon film 42A are laminated so as to cover the light-shielding film 49.例文帳に追加

次に、遮光膜４９を覆って（ｂ）酸化珪素膜４１、（ｃ）非晶質珪素膜４２Ａを積層する。 - 特許庁

In addition, the amorphous insulator film is used as a gate insulation film of the thin film transistor.例文帳に追加

また、そのアモルファス絶縁体膜を薄膜トランジスタのゲート絶縁膜に用いる。 - 特許庁

COATING COMPOSITION FOR AMORPHOUS POLYOLEFIN SUBSTRATE, AND AMORPHOUS POLYOLEFIN FILM OR SHEET HAVING CURED FILM OF THE SAME例文帳に追加

非晶性ポリオレフィン基材用塗料組成物、及びその硬化皮膜を有する非晶性ポリオレフィンフィルムまたはシート - 特許庁

A p-type amorphous silicon film 3 and a surface electrode 4 are formed successively on an i-type amorphous silicon film 2.例文帳に追加

ｉ型非晶質シリコン膜２上にｐ型非晶質シリコン膜３および表面電極４が順に形成されている。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING LOW DIELECTRIC CONSTANT AMORPHOUS SILICA COATING FILM, AND LOW DIELECTRIC CONSTANT AMORPHOUS SILICA COATING FILM OBTAINED FROM SAME METHOD例文帳に追加

低誘電率非晶質シリカ系被膜の形成方法および該方法より得られる低誘電率非晶質シリカ系被膜 - 特許庁

An amorphous silicon film 22 is deposited on a quartz substrate 21 to introduced a metal Ni, thereby crystallizing the amorphous silicon film 22.例文帳に追加

石英基板２１上に非晶質珪素膜２２を堆積して金属Ｎiを導入し、非晶質珪素膜２２を結晶化させる。 - 特許庁

LOW DIELECTRIC CONSTANT AMORPHOUS SILICA FILM-FORMING COATING LIQUID, ITS PREPARATION METHOD AND LOW DIELECTRIC CONSTANT AMORPHOUS SILICA FILM OBTAINED THEREBY例文帳に追加

低誘電率非晶質シリカ系被膜形成用塗布液、その調製方法およびこれより得られる低誘電率非晶質シリカ系被膜 - 特許庁

An i-type amorphous silicon film 6 and an n-type amorphous silicon film 7 are formed sequentially on the rear surface of the n-type single crystal silicon substrate 1.例文帳に追加

ｎ型単結晶シリコン基板１の裏面には、ｉ型非晶質シリコン膜６およびｎ型非晶質シリコン膜７が順に形成されている。 - 特許庁

Subsequently, a p-type amorphous silicon film 3 is formed on the i-type amorphous silicon film 2 by plasma CVD.例文帳に追加

続いて、ｉ型非晶質シリコン膜２上にプラズマＣＶＤ法によりｐ型非晶質シリコン膜３を形成する。 - 特許庁

After a hydrogenated amorphous carbon film is formed on a die surface, the surface of the hydrogenated amorphous carbon film is fluorinated in a fluorine-containing plasma.例文帳に追加

型表面に、水素化アモルファス炭素膜を形成した後、フッ素含有プラズマ中で水素化アモルファス炭素膜の表面をフッ素化する。 - 特許庁

The monocrytallization step monocrystallizes the first amorphous silicon film by irradiating the first amorphous silicon film with a first laser.例文帳に追加

単結晶化工程では、第１のアモルファスシリコン膜に第１のレーザを照射して第１のアモルファスシリコン膜を単結晶化する。 - 特許庁

The amorphous carbon film coating tool includes a base material 100 and an amorphous carbon film 110 covering at least a part of the base material 100.例文帳に追加

基材100と、この基材100の少なくとも一部を覆う非晶質炭素膜110とを備える非晶質炭素膜被覆工具である。 - 特許庁

On the major surface of the n-type single crystal silicon wafer 1, an i-type amorphous silicon film and a p-type amorphous silicon film are formed sequentially.例文帳に追加

ｎ型単結晶シリコンウエハ１の主面上にｉ型非晶質シリコン膜およびｐ型非晶質シリコン膜が順に形成されている。 - 特許庁

The amorphous carbon film coating tool includes a base material and an amorphous carbon film covering at least a part of the base material.例文帳に追加

基材と、この基材の少なくとも一部を覆う非晶質炭素膜とを備える非晶質炭素膜被覆工具である。 - 特許庁

There are provided a amorphous carbon film containing 1 atom% or less of Si and a solar cell using the amorphous carbon film.例文帳に追加

Ｓｉ含有量が１ａｔ％以下である、アモルファスカーボン膜とし、該アモルファスカーボン膜を用いた太陽電池とする。 - 特許庁

After an amorphous semiconductor film is deposited to cover the projection portion, the amorphous semiconductor film is irradiated with laser light to be melted and crystallized.例文帳に追加

形成された凸部を覆うアモルファス半導体膜を成膜した後、レーザ光を照射して半導体膜を溶融状態にして結晶化する。 - 特許庁

An i-type amorphous silicon film 23 and a p-type amorphous silicon film 24 are formed entirely on the rear of the n-type substrate 11.例文帳に追加

ｎ型単結晶シリコン基板１１の裏面の全域にｉ型非晶質シリコン膜２３およびｐ型非晶質シリコン膜２４が形成されている。 - 特許庁

To provide a method for producing an amorphous carbon thin film, wherein the amorphous carbon thin film can be produced easily and inexpensively.例文帳に追加

簡易にしかも安価に作製することができるアモルファスカーボン薄膜作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method, of observing and forming a porous amorphous film, in which the porous amorphous film can be observe with high accuracy.例文帳に追加

高精度の多孔質アモルファス膜の観察が可能な、多孔質アモルファス膜の観察方法及び成膜方法を提供する。 - 特許庁

An electrically conductive base member 2 is coated with an amorphous film 3, and is closely attached through the amorphous film 3 to a counterpart member 4 to which heat is to be transferred.例文帳に追加

導電性の基材２上にアモルファス膜３を被着し、このアモルファス膜３を介して熱移動すべき相手部材４に密着する。 - 特許庁

The electrode is provided with an amorphous carbon film terminated with an electron suction group or the electrode having an amorphous carbon film terminated with an electron supply group.例文帳に追加

また、デバイス効率の向上を図ることができる有機薄膜トランジスタとその製造方法を提供する。 - 特許庁

Also in the amorphous film forming step, an amorphous film composed of two or more layers with compositions different from each other is formed.例文帳に追加

また、アモルファス膜形成工程において、組成の異なる２以上の層からなるアモルファス膜を形成する。 - 特許庁

To provide a microcrystal-amorphous coexisting gold alloy plated film excellent in electrical characteristics and mechanical characteristics and to provide a plating method of the microcrystal-amorphous coexisting gold alloy plated film.例文帳に追加

電気特性及び機械特性に優れた微細結晶−アモルファス混在金合金めっき皮膜およびそのめっき方法を提供する。 - 特許庁

A first heat-resistance reinforcing layer 152 is formed at a part abutting on a first amorphous photoconductive film 14 in a second amorphous photoconductive film 15.例文帳に追加

第２の非晶質光導電膜１５内の第１の非晶質光導電膜１４に接する部分に第１の耐熱強化層１５２を設ける。 - 特許庁

METHOD OF CONTROLLING MOLECULAR ORIENTATION DIRECTION OF CHARGE-TRANSPORTING AMORPHOUS THIN FILM, AND METHOD OF MANUFACTURING CHARGE-TRANSPORTING AMORPHOUS THIN FILM例文帳に追加

電荷輸送性非晶質薄膜の分子配向方向の制御方法及び電荷輸送性非晶質薄膜の製造方法 - 特許庁

The phase contrast from the amorphous supporting film was almost completely suppressed. 例文帳に追加

その非晶質支持膜からの位相コントラストは、ほぼ完全に抑制された。 - 科学技術論文動詞集