「b si」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The inner layer is composed of a compound of Al, Si and B of periodic table IVa, Va, VIa group metal.例文帳に追加

内層は、周期律表IVa、Va、VIa族金属、Al、Si、Bの化合物からなる。 - 特許庁

The inner layer comprises a compound of metals of IVa, Va, and VIa groups in a periodic table, Al, Si, and B.例文帳に追加

内層は、周期律表IVa、Va、VIa族金属、Al、Si、Bの化合物からなる。 - 特許庁

L: one or more kinds of Si, Y. (x), (a), (b), X, Y, Z, A, B: all are atomic ratios.例文帳に追加

ｘ、ａ、ｂ、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ａ、Ｂ：いずれも原子比である。 - 特許庁

The alloy having an amorphous structure is composed of the components (Fe-Ni-Co)-(B-Si-C).例文帳に追加

非晶質組織を有する合金は（Fe-Ni-Co)-(Ｂ-Si-Ｃ）の成分系からなる。 - 特許庁

The Si obtained by doping B has electroconductivity.例文帳に追加

ＢをドープしたＳｉは導電性を有している。 - 特許庁

The oxidation-resistant coating method for a carbon/carbon composite material comprises (a) the step of coating the carbon/carbon composite material with Si and (b) the step of thermally treating the applied Si to impregnate it into the composite material to form a SiC layer and a Si layer successively.例文帳に追加

(a)炭素/炭素複合材料上にSiを塗布する工程、及び(b)塗布されたSiを熱処理して、前記複合材料にSiを含浸させることにより、SiC層とSi層を順次形成する工程を含む炭素/炭素複合材料の耐酸化コーティング方法。 - 特許庁

As the semimetals, C, B, P, Si, As, Te, Ge, Sb, or the like, are exemplified.例文帳に追加

半金属としてはＣ，Ｂ，Ｐ，Ｓｉ，Ａｓ，Ｔｅ，Ｇｅ，Ｓｂ等が例示される。 - 特許庁

The composition of the amorphous material 16 and 17 is 67.0 Fe-18.0 Co-14.0 B-1.0 Si (wt.%).例文帳に追加

アモルファス材16,17の組成は、67.0Fe-18.0Co−14.0B-1.0Si（wt％）である。 - 特許庁

This anti-staining layer is present so that the ratio b/a of the infrared absorbance (b) of Si-O of the outermost surface and the infrared absorbance (a) of Si-O-Si is 0.01-0.2.例文帳に追加

最表面のＳｉ−Ｏの赤外吸光度ｂとＳｉ−Ｏ−Ｓｉの赤外吸光度ａの比ｂ／ａが０．０１〜０．２で存在することを特徴とする防汚層。 - 特許庁

The component (B) is a silicon-containing polymer having Si-H group and having at least one bridging structure by an Si-O-Si bond.例文帳に追加

（Ｂ）成分：Ｓｉ−Ｈ基を有し、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合による橋かけ構造を一箇所以上有するケイ素含有重合体。 - 特許庁

The electrolyte liquid contains a compound having P-O-Si bonding or B-O-Si bonding.例文帳に追加

電解液はＰ−Ｏ−Ｓｉ結合またはＢ−Ｏ−Ｓｉ結合を有する化合物を含んでいる。 - 特許庁

When ammonia (NH_3) and a gallium chloride (GaCl) are supplied, the epitaxial growth of a gallium nitride(GaN) 30 starts on the surface 10a of an Si substrate 10 (Fig. b).例文帳に追加

アンモニア(NH_3)と塩化ガリウム(GaCl)を供給すると、Si基板１０の面１０ａに窒化ガリウム(GaN)３０がエピタキシャル成長を開始する(b)。 - 特許庁

In this electric resistor comprising a structure composed by coating the surface of a ceramic base material having an electric insulation property with a resistance coating formed of a Si group alloy, 0.03-5% of B is contained in the Si group alloy.例文帳に追加

電気絶縁性のセラミックス基材の表面にSi基合金からなる抵抗被膜を被覆した構造からなる電気抵抗体において、該Si基合金の中にBを0.03〜5％含有させることを特徴とする。 - 特許庁

The p-type GaAs single crystal has an average dislocation density of ≤100/cm^-2 and contains Si, Zn, B and In as dopants.例文帳に追加

本発明のp型GaAs単結晶は、平均転位密度100cm^-2以下のp型GaAs単結晶であって、ドーパントとして、Si，Zn，B，及びInを含有することを特徴とする。 - 特許庁

The steel bar moreover contains 0.10 to 2.5% Si and 0.25 to 2.0% Mn and suitably contains one or more kinds of Al, Ti, Ca, rare earth metals, V and Nb and/or one or more kinds of B, Cr, Cu, Ni and Mo.例文帳に追加

該鋼棒は、更にSi:0.10 〜2.5%とMn:0.25 〜2.0%を含み、適宜、Al、Ti、Ca、REM 、V 及びNb１種以上、及び／または、B 、Cr、Cu、Ni及びMoの１種以上を含有する。 - 特許庁

The steel bar further contains 0.10 to 2.5% Si and 0.25 to 2.0% Mn and suitably contains one or more kinds of Al, Ti, Ca, rare earth metals, V and Nb and/or one or more kinds of B, Cr, Cu, Ni and Mo.例文帳に追加

該鋼棒は、更にSi:0.10 〜2.5%、Mn:0.25 〜2.0%を含み、適宜、Al、Ti、Ca、REM 、V 及びNbの１種以上、及び／または、B 、Cr、Cu、Ni及びMoの１種以上を含有する。 - 特許庁

RE-B-Si RARE EARTH POLYBORIDE, HIGH TEMPERATURE ANTIOXIDANT, THERMOELECTRIC MATERIAL例文帳に追加

ＲＥ−Ｂ−Ｓｉ希土類多ホウ化物高温耐酸性熱電材料 - 特許庁

The steel bar further contains 0.10 to 2.5% Si and 0.25 to 2.0% Mn and suitably contains one or more kinds of Al, Ti, Ca, rare earth metals, V and Nb and/or one or more kinds of B, Cu, Ni and Mo.例文帳に追加

該鋼棒は、更に、Si:0.10 〜2.5%とMn:0.25 〜2.0%を含み、適宜、Al、Ti、Ca、REM 、V 及びNbの１種以上、及び／または、B 、Cu、Ni及びMoの１種以上を含有する。 - 特許庁

The above steel sheet contains suitable amounts of C, N, Ti, Nb, Mo, Cu, Ni, B, Mg, Si, Mn and S.例文帳に追加

以上の鋼板が、Ｃ，Ｎ，Ｔｉ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ｂ，Ｍｇ，Ｓｉ，Ｍｎ，Ｓの好適量を含有する。 - 特許庁

The masteralloy can include Cr, B, Ta, Nb, C, Mo, W, Zr, Zn, Cu, Hf, O, Si or N.例文帳に追加

母合金には、Ｃｒ，Ｂ，Ｔａ，Ｎｂ，Ｃ，Ｍｏ，Ｗ，Ｚｒ，Ｚｎ，Ｃｕ，Ｈｆ，Ｏ，Ｓｉ又はＮを含むことができる。 - 特許庁

The battery part is formed out of an aluminum material containing Fe of 0.50 mass% or less, Si of 0.50 mass% or less, Ti and B of 0.01 mass% or more and 0.10 mass% or less respectively, and also Ti and B of 0.15 mass% or less in total.例文帳に追加

Feを0.50質量%以下、Siを0.50質量%以下、TiとBをそれぞれ0.01質量%以上0.10質量%以下、かつTiとBを合計で0.15質量%以下含有するアルミニウム材で構成されることを特徴とする電池部品。 - 特許庁

Each compound layer contains one or more kinds of elements selected from the groups consisting of the group 4a, 5a and 6a elements in the Periodic Table, Al, Si and B and one or more kinds of elements selected from B, C, N and O as the main components.例文帳に追加

各化合物層は、周期律表4a、5a、6a族元素、Al、Si、Bからなる群の中から選択される１種以上の元素とB、C、NおよびOから選択される１種以上の元素とを主成分とする。 - 特許庁

The glass insulating layers 16 to 19 are formed of Si-based, an Si-B-based, an Si-Al-based and an Si-Zn-based glass paste, and it contains at least one type of Ca, Sr, Ba and Mg.例文帳に追加

ガラス絶縁層１６〜１９は、Ｓｉ系、Ｓｉ−Ｂ系、Ｓｉ−Ａｌ系もしくはＳｉ−Ｚｎ系のガラスペーストからなり，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｍｇのうち少なくとも１種類以上を含む。 - 特許庁

An extremely thin oxide film 2 is formed by subjecting a surface of an Si substrate 1 to thermal oxidation (refer to Fig.(a) and (b)).例文帳に追加

Ｓｉ基板１の表面を熱酸化して極薄の酸化膜２を形成する（図(a) 及び(b) 参照）。 - 特許庁

When B sticks to the Si wafer 11, this causes both Sb and B to disperse in the Si wafer 16, so that the contamination due to B is measured from the impurity concentration profiles.例文帳に追加

Ｓｉウェハ１１にＢが付着すると、Ｓｉウェハ１６中にはＳｂとＢとの両方が拡散するので、不純物濃度プロファイルからＢによる汚染を測定することができる。 - 特許庁

The hard film optionally further contains B and Si as metal components.例文帳に追加

さらには、金属成分としてＢ（ホウ素）またはＳｉ（ケイ素）を含んでいてもよい。 - 特許庁

The aluminum-based thermal spraying sliding material has the composition consisting of (a) 5-20% Sn, (b) 5-20% Sn and 1-15% Si, or (c) 8-17% Si, and the balance Al with inevitable impurities, with non-dissolved structure and dissolved structure mixed therein.例文帳に追加

(イ)5〜20％Sn、(ロ)5〜20％Sn及び1〜15％Si、又は(ハ)8〜17％Siを含有し、残部がAl及び不可避的不純物からなり、未溶解組織と溶解組織が混在するアルミニウム系溶射摺動材料。 - 特許庁

C, Si, Mn, S, P, Al, Nb, Ti, N and B are incorporated into a steel, and the relation among Ti, Nb or B, C and N are set in a prescribed range.例文帳に追加

Ｃ，Ｓｉ，Ｍｎ，Ｓ，Ｐ，Ａｌ，Ｎｂ，Ｔｉ，Ｎ，Ｂを含有し、Ｔｉ，ＮｂまたはＢと、Ｃ，Ｎとの関係を所定の範囲に設定する。 - 特許庁

The antioxidizing material is a carbide or a nitride of a simple substance selected from the group consisting of B, Si, Ge, Sb, Ti, Sn, Al and Zr or a simple substance of B or Si.例文帳に追加

耐酸化剤はＢ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｂ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｚｒの群から選ばれる単体の炭化物もしくは窒化物またはＢもしくはＳｉの単体である。 - 特許庁

The outer electrodes 4 are constituted by firing a conductive paste, which contains glass frit of a Ba-Sr-Si-B system, glass frit of a Zn-Si-B system, and Cu.例文帳に追加

ここで、Ｂａ−Ｓｒ−Ｓｉ−Ｂ系のガラスフリットとＺｎ−Ｓｉ−Ｂ系のガラスフリットとＣｕを含有した導電ペーストの焼成により外部電極４を構成する。 - 特許庁

To provide an aluminum alloy having high strength, wear resistance and slidability by adding Zn, Cu, B and Mg to a hypereutectic Al-Si alloy.例文帳に追加

高強度で耐摩耗性及び摺動性の優れたアルミニウム合金を提供する。 - 特許庁

Metals contained in the metal alkoxide contain Al, Si, B, Zn and Bi.例文帳に追加

そして、金属アルコキシドに含まれる金属が、Ａｌ、Ｓｉ、Ｂ、Ｚｎ、およびＢｉを含む。 - 特許庁

To provide an Mo-Si-B alloy which has excellent oxidation resistance at high temperatures.例文帳に追加

高温において優れた耐酸化性を有するＭｏ−Ｓｉ−Ｂ合金を提供する。 - 特許庁

The coating elements are one or more elements selected from Mg, Al, Co, K, Na, Ca, Si, Ti, Sn, V, Ge, Ga, B, As and Zr.例文帳に追加

コーティング元素は、Ｍｇ，Ａｌ，Ｃｏ，Ｋ，Ｎａ，Ｃａ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｓｎ，Ｖ，Ｇｅ，Ｇａ，Ｂ，Ａｓ，Ｚｒから選択される一つ以上の元素である。 - 特許庁

Further, the Ni-Fe-based alloy brazing material contains ≤5% B and ≤4.5% Si, and P+B+Si is within the range of 7-13%.例文帳に追加

また、上記請求項１に加え、Ｂ：５％以下、Ｓｉ：４．５％以下を含み、かつＰ＋Ｂ＋Ｓｉ：７〜１３％の範囲であることを特徴とするＮｉ−Ｆｅ基合金ろう材。 - 特許庁

The Cr-B-Si-N alloy film 4 contains 0.05 to 10.0mass% B, 0.05 to 10.0mass% Si, 10.0 to 30.0mass% N, and the balance Cr.例文帳に追加

Ｃｒ−Ｂ−Ｓｉ−Ｎ合金皮膜４は、Ｂを０．０５〜１０．０質量％、Ｓｉを０．０５〜１０．０質量％、Ｎを１０．０〜３０．０質量％含有し、残部がＣｒである。 - 特許庁

The hard padding powder for high-frequency welding is formed of a composition containing, by weight %, over 3 to 5% C, 1.5 to 3.5% Si, 1 to 3% Mn, 3 to 8% Ni, 25 to 35% Cr, 1 to 4% B, and consisting of the balance substantially Fe.例文帳に追加

高周波溶着用硬化肉盛粉末を、重量％でC ：3超〜5％，Si：1.5〜3.5％，Mn：1〜3％，Ni：3〜8％，Cr：25〜35％，B ：1〜4％残部実質的にFeから成る組成とする。 - 特許庁

A substrate 21 (SOI substrate) equipped with a slab layer 211 composed of Si and a clad layer 212 composed of SiO_2, is used first to form holes 22 for introducing an etching agent in the slab layer 211 by dry etching ((b)).例文帳に追加

Siから成るスラブ層２１１、SiO_2から成るクラッド層２１２を備える基板２１(SOI基板)を用い、まず、ドライエッチングによりスラブ層２１１にエッチング剤導入用空孔２２を形成する((b))。 - 特許庁

Heat treatment is executed under an atmosphere including a P compound, an Si compound or a B compound (d).例文帳に追加

（ｄ）Ｐ化合物、Ｓｉ化合物、またはＢ化合物を含有する雰囲気下で熱処理を行う。 - 特許庁

The principal components of glass that constitutes the layer 3 can be Si, Al, B, Ca and O.例文帳に追加

更に、層3を構成するガラスはＳｉ、Ａｌ、Ｂ、Ｃａ及びＯを主成分とすることができる。 - 特許庁

The probe 3 and a current passage pattern 4 are formed continuously with Si prepared by doping B.例文帳に追加

探針３及び電流通路パターン４を、ＢをドープしたＳｉによって連続して形成する。 - 特許庁

A laminated body of an SiO2 film and an Si-B-O film is used as the intermediate film 32.例文帳に追加

中間膜３２としては、ＳｉＯ2膜とＳｉ−Ｂ−Ｏ膜の積層体が用いられる。 - 特許庁

In the B-MCM-48, boron is present in a tetracoordinate state in a skeleton and the molar ratio Si to B in the product after firing is ≥3.3.例文帳に追加

ホウ素が、骨格内に４配位されて存在し、焼成後の生成物中のＳｉ／Ｂモル比が３．３以上の、Ｂ−ＭＣＭ−４８。 - 特許庁

The Si(100) face (a) is constituted by only Si atoms 111, and the MgO(100) face (b) is constituted by Mg atoms 121 and oxygen (O) atoms 122.例文帳に追加

Ｓｉ（１００）面（ａ）はＳｉ原子１１１だけで構成され、ＭｇＯ（１００）面（ｂ）はＭｇ原子１２１と酸素（Ｏ）原子１２２で構成される。 - 特許庁

To form an Si epitaxial growth film in which B of a uniform B concentration is doped, a SiGe epitaxial growth film in which B is doped and a SiGe epitaxial growth film in which B and C are doped.例文帳に追加

Ｂ濃度が均一なＢがドーピングされたＳｉエピタキシャル成長膜、ＢがドーピングされたＳｉＧｅエピタキシャル成長膜、ＢとＣがドーピングされたＳｉＧｅエピタキシャル成長膜を形成する。 - 特許庁