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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > channel regionに関連した英語例文

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channel regionの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2944



例文

A channel proximity region 8, an intermediate region 9, a contact forming region 10, an intermediate region, and a channel proximity region are arranged in this order in the drain region 5 of the MOS-type ESD protecting device 1.例文帳に追加

MOS型のESD保護素子1のドレイン領域5に、チャネル近接領域8、中間領域9、コンタクト形成領域10、中間領域、チャネル近接領域をこの順に配列する。 - 特許庁

An N-type channel region 33 and a top gate region 34 are formed within the region encircled by the region 29.例文帳に追加

ゲートコンタクト領域29で囲まれた領域に、N型のチャネル領域33とトップゲート領域34を形成する。 - 特許庁

An MISFET employs a structure in which a source region and a drain region interpose a semiconductor region as a channel region.例文帳に追加

MISFETの構造を、ソース領域とドレイン領域でチャネル領域となる半導体領域を挟む構造とした。 - 特許庁

A channel region of the transistor is formed on a first layer, and a corresponding second source/drain region is formed on the channel region.例文帳に追加

トランジスタのチャネル領域は、第1の層上に形成され、付随した第2のソース/ドレイン領域はチャネル領域上に形成される。 - 特許庁

例文

The semiconductor layer has a channel region (5 and 6) and source/drain regions 3 formed in a region outside the channel region (5 and 6).例文帳に追加

その半導体層は、チャネル領域5,6と、チャネル領域5,6の外側の領域に形成されるソース/ドレイン領域3とを備えている。 - 特許庁


例文

The channel length direction size of the epitaxial layer, where the channel region of the second n channel type MOS transistor is formed, is smaller than the channel lengthwise direction size of the element region A1, where the first n channel MOS transistor channel region is formed.例文帳に追加

第2のNチャネル型MOSトランジスタのチャネル領域が形成されているエピタキシャル層のチャネル長方向サイズは、第1のNチャネル型MOSトランジスタのチャネル領域が形成されている素子領域A1のチャネル長方向サイズよりも小さい。 - 特許庁

The first channel region (11a) includes a first floating gate side channel region (13a) and a first control gate side channel region (12a), and the first control gate side channel region (12a) includes a high concentration pocket region (10) having high impurity concentration.例文帳に追加

ここにおいて、第1チャネル領域(11a)は、第1フローティングゲート側チャネル領域(13a)と、第1コントロールゲート側チャネル領域(12a)とを備え、第1コントロールゲート側チャネル領域(12a)は不純物濃度が濃い高濃度ポケット領域(10)を備える。 - 特許庁

The surface area of the first channel region 2 is made larger than the surface area of the second channel region 3.例文帳に追加

第1のチャネル領域2の表面積は、第2のチャネル領域3の表面積よりも広く形成されている。 - 特許庁

One side of the square channel region of a cell structure is linked with one side of an adjacent channel region.例文帳に追加

セル構造の方形のチャネル領域一辺と隣接するチャネル領域の一辺とが連結するように配置する。 - 特許庁

例文

The height of the surface 1a of the channel region 120 is higher than the surface 1b of the channel region 220.例文帳に追加

チャネル領域120の表面1aの高さはチャネル領域220の表面1bの高さよりも高い。 - 特許庁

例文

To provide a new method of giving a strain to a channel region by applying a stress to the channel region.例文帳に追加

チャネル領域に応力を印加して、チャネル領域に歪みを与えるための新たな手法を提供する。 - 特許庁

A semiconductor substrate 20 of the semiconductor device 10 has a channel region 10A and a non-channel region 10B.例文帳に追加

半導体装置10の半導体基板20は、チャネル区域10Aと非チャネル区域10Bを有している。 - 特許庁

And they converge into this channel here, which drains into this region.例文帳に追加

この水路に合流して この地域に流れ出ます - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

The second transistor region 6-2 has a second channel forming region 4-2.例文帳に追加

第2トランジスタ領域6−2は、第2チャネル形成領域4−2を有する。 - 特許庁

A first channel region that is continuous is defined between the first region and the second region.例文帳に追加

連続した第1チャネル領域が、上記第1領域と上記第2領域との間に定められる。 - 特許庁

A thin film transistor comprises a gate electrode 22, a source region 24, a drain region 25 and a channel region 26.例文帳に追加

薄膜トランジスタは、ゲート電極22と、ソース領域24、ドレイン領域25及びチャネル領域26を含む。 - 特許庁

The channel region is electrically separated from the gate electrode region by the gate dielectric region.例文帳に追加

チャネル領域は、ゲート誘電体領域によってゲート電極領域から電気的に分離している。 - 特許庁

The source region and the drain region of the FET and the gate electrode stack on the channel region are formed.例文帳に追加

FETのソースおよびドレイン領域ならびにチャネル領域の上のゲート電極スタックを形成する。 - 特許庁

An n-type impurity region is provided continuously at the bottom part of the channel region at the lower parts of the source region, gate region, and drain region.例文帳に追加

ソース領域下方、ゲート領域下方およびドレイン領域下方のチャネル領域底部に連続したn型不純物領域を設ける。 - 特許庁

A channel width W of the channel region 5 is set to twice, or less than, a maximum channel depletion layer width Xdm.例文帳に追加

チャネル領域5のチャネル幅Wは、最大チャネル空乏層幅Xdmの2倍以下の値に設定される。 - 特許庁

In addition, the area of the channel formation region can be increased by making a channel width longer than a channel length.例文帳に追加

また、チャネル幅の長さをチャネル長の長さよりも長くすることでチャネル形成領域の面積を大きくする。 - 特許庁

In addition, area of the channel formation region can be increased by making channel width longer than channel length.例文帳に追加

また、チャネル幅の長さをチャネル長の長さよりも長くすることでチャネル形成領域の面積を大きくする。 - 特許庁

An impurity region is artificially and locally provided in a channel forming region in order to concentrate the stress on the impurity region formed in the channel forming region.例文帳に追加

チャネル形成領域に形成された不純物領域に応力を集中させるため、チャネル形成領域に対して人為的かつ局部的に不純物領域を設ける。 - 特許庁

The first transistor region 6-1 has a first channel forming region 4-1.例文帳に追加

第1トランジスタ領域6−1は、第1チャネル形成領域4−1を有する。 - 特許庁

The thin-film transistor (10) is provided with a channel region 11 located at the center, and the source region 12 and the drain region 13 which are arranged to the left and the right positions of the channel region 11.例文帳に追加

薄膜トランジスタ10の部分は、中央に位置するチャネル領域11、及びその左右に位置するソース領域12及びドレイン領域13を備えている。 - 特許庁

The charge storage region 250 is disposed straddling a part of a channel region 273 and a part of diffusion regions 212 and 213 arranged at both sides of the channel region.例文帳に追加

電荷蓄積領域250はチャネル領域273の一部とチャネル領域の両側に配置された拡散領域212,213の一部とに跨って存する。 - 特許庁

A p-type semiconductor region 45 is formed as a pocket region below a channel forming region 25 in a memory cell forming region.例文帳に追加

メモリセル形成領域のチャネル形成領域25の下部にポケット領域としてp型半導体領域45を形成する。 - 特許庁

To provide a channel in the sidewall of a semiconductor layer, while suppressing damages to the channel region.例文帳に追加

チャネル領域のダメージを抑制しつつ、半導体層の側壁にチャンネルを持たせる。 - 特許庁

In the channel region 111, an impurity density in a first region near the drain region 107 is lower than an impurity density in a second region other than the first region in the channel region 111.例文帳に追加

チャネル領域111において、ドレイン領域107近傍の第1領域における不純物濃度は、チャネル領域111における第1領域以外の第2領域における不純物濃度に比べて低い。 - 特許庁

In a thin film transistor 1, a lightly doped impurity region 3d is formed between a source region 3a and a channel region 3c and a lightly doped region 3e is formed between a drain region 3b and a channel region 3c.例文帳に追加

ソース領域3aとチャネル領域3cとの間に低濃度不純物領域3dが形成され、ドレイン領域3bとチャネル領域3cとの間に低濃度不純物領域3eが形成さている。 - 特許庁

A fin layer 4 has the source region 21, the channel region 22, and the drain region 23 of a P type fin FET 20, and the drain region 24, the channel region 25, and the source region 26 of an N type fin FET 30.例文帳に追加

フィン層4には、P型フィンFET20のソース領域21、チャネル領域22、ドレイン領域23と、N型フィンFET30のドレイン領域24、チャネル領域25、ソース領域26とが形成される。 - 特許庁

Under a channel region, a body region which includes a region smaller in band gap than the channel region and is higher in impurity concentration than the channel region is formed, thereby keeping the threshold voltage low and further widening the operating range.例文帳に追加

チャネル領域の下方に、チャネル領域よりもバンドギャップが小さい領域を含み、かつ、チャネル領域よりも不純物濃度が高いボディ領域を導入することにより、しきい値電圧を小さく維持しつつ、動作範囲を拡大する。 - 特許庁

The gate includes a region where the gate dopant is substantially depleted at least in a region where the channel region and the isolating region overlap and the threshold voltage in the channel corner region beneath the depletion region 34 increases as compared with the channel region between corner regions.例文帳に追加

ゲートは、少なくともチャネル領域及び分離領域とオーバラップする領域に、ゲート・ドーパントが実質的に空乏状態にされた領域34を含み、空乏領域34の下方のチャネル角部領域のしきい値電圧が、角部領域間のチャネル領域に比較して増加する。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT HAVING RECESSED CHANNEL REGION例文帳に追加

リセスチャネル領域を備えた半導体素子の製造方法 - 特許庁

A carbon nano-tube is used to the channel forming region 31.例文帳に追加

上記チャネル形成領域31にカーボンナノチューブを用いる。 - 特許庁

In the second place, an undoped diamond layer 5 is formed in a channel region.例文帳に追加

次に、チェネル領域にアンドープダイヤモンド層5を形成する。 - 特許庁

A p+ layer 10 is formed in a channel region 4.例文帳に追加

チャネル領域4にはp+層10が形成されている。 - 特許庁

In the method, a middle point in the longitudinal direction of a channel on a boundary between a channel region and an STI region is specified.例文帳に追加

その方法は、チャネル領域とSTI領域との境界における、チャネル長方向の中点を特定する。 - 特許庁

The gate impurity region 6 and/or the channel forming impurity region 2 has an impurity density difference in the channel direction.例文帳に追加

ゲート不純物領域6および/またはチャネル形成不純物領域2が、チャネル方向に不純物濃度差を有する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF ACTIVE CHANNEL REGION UTILIZING IMPROVED DROP CAST PRINT, AND DEVICE PROVIDED WITH THE SAME ACTIVE CHANNEL REGION例文帳に追加

改善されたドロップ・キャストプリントを利用したアクティブチャネル領域製造方法及びそのアクティブチャネル領域を備えた装置 - 特許庁

The boron concentration of a side channel 16 in the channel region 11 of the n-type thin film transistor 4 is made higher than that of a central portion 17 in the channel region 11.例文帳に追加

n型薄膜トランジスタ4のチャネル領域11のサイドチャネル部16のボロン濃度を、このチャネル領域11のセンタ部17のボロン濃度よりも高濃度にする。 - 特許庁

A silicon mixed crystal layer 21 generates stress to a channel region of the active region.例文帳に追加

シリコン混晶層21は、活性領域のチャネル領域に対して応力を生じさせる。 - 特許庁

The gate electrode 18 is opposed to the body region 8 with the channel region 14 interposed therebetween.例文帳に追加

ゲート電極18は、チャネル領域14を介してボディ領域8に対向している。 - 特許庁

Furthermore, an n-channel stopper region adjacent to the high-resistance region 20 is arranged.例文帳に追加

更にn^-高抵抗領域20に隣接するnチャネルストッパ領域21を配置する。 - 特許庁

Further, the channel layer is existent on the gate dielectric layer and between the source region and the drain region.例文帳に追加

さらにチャンネル層は、ゲート絶縁層上の、ソース領域とドレイン領域との間にある。 - 特許庁

The second conductive gate region 18 is formed in a depth direction across the channel region.例文帳に追加

第2導電型のゲート領域は、チャネル領域を挟んで深さ方向に形成される。 - 特許庁

An impurity region 104 in the form of a dot pattern is formed in a channel forming region 103.例文帳に追加

チャネル形成領域103に、ドットパターン上の不純物領域104を形成する。 - 特許庁

An n^+-channel source region 37 is formed on the surface layer of a base region 35.例文帳に追加

そして、ベース領域35の表面層にN^+型ソース領域37が形成される。 - 特許庁

This MOS transistor consists of a source region, a channel region, a drain region, an interlayer oxide film formed on a region between the source region and the drain region, a gate oxide film which is formed on the channel region by self alignment, and a gate electrode which is formed on the channel region via the gate oxide film by self alignment.例文帳に追加

ソース領域、チャネル領域、ドレイン領域と、ソース領域とドレイン領域との領域上に形成された層間酸化膜と、チャネル領域上に自己整合的に形成されたゲート酸化膜と、チャネル領域上にゲート酸化膜を介して自己整合的に形成されたゲート電極とからなるMOSトランジスタ。 - 特許庁

例文

Impurities concentration in the channel region 16 is reduced uniformly from the source region toward the reduced surface field region.例文帳に追加

チャネル領域16における不純物濃度は、ソース領域からリサーフ領域に向かって一様に低下している。 - 特許庁




  
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