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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > charged particle emissionに関連した英語例文

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charged particle emissionの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 35



例文

CHARGED PARTICLE BEAM EMISSION APPARATUS AND CHARGED PARTICLE BEAM EMISSION METHOD例文帳に追加

荷電粒子ビーム出射装置及び荷電粒子ビーム出射方法 - 特許庁

CHARGED PARTICLE BEAM IRRADIATION SYSTEM AND CHARGED PARTICLE BEAM EMISSION METHOD例文帳に追加

荷電粒子ビーム照射システムおよび荷電粒子ビーム出射方法 - 特許庁

CHARGED PARTICLE BEAM IRRADIATION SYSTEM AND CHARGED PARTICLE BEAM EMISSION METHOD例文帳に追加

荷電粒子ビーム照射システム及び荷電粒子ビーム出射方法 - 特許庁

CHARGED PARTICLE EMISSION DEVICE AND ION ENGINE例文帳に追加

荷電粒子放出装置およびイオンエンジン - 特許庁

例文

MATERIAL EVALUATION METHOD AND DEVICE BY CHARGED PARTICLE EMISSION DETECTION例文帳に追加

荷電粒子放出検出による材料評価方法および装置 - 特許庁


例文

To provide a charged particle beam irradiation system and a charged particle beam emission method capable of preventing erroneous irradiation of charged particle beams in an advancing direction of the charged particle beams.例文帳に追加

荷電粒子ビームの進行方向において荷電粒子ビームの誤照射を防止できる荷電粒子ビーム照射システム及び荷電粒子ビーム出射方法を提供することにある。 - 特許庁

BEAM EMISSION CONTROL METHOD OF CHARGED PARTICLE BEAM ACCELERATOR, AND PARTICLE BEAM IRRADIATION SYSTEM USING CHARGED BEAM ACCELERATOR例文帳に追加

荷電粒子ビーム加速器のビーム出射制御方法及び荷電粒子ビーム加速器を用いた粒子ビーム照射システム - 特許庁

To provide an electrically-charged particle apparatus and its method using the electrically-charged particle emitter with a discontinuous emission pattern.例文帳に追加

不連続的放出パターンを有する荷電粒子エミッタによる荷電粒子装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle source capable of stably providing electron or ion emission.例文帳に追加

電子あるいはイオン放射が安定して得られる荷電粒子源を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a compact charged particle beam device capable of maintaining high vacuum even during emission of electron beams.例文帳に追加

電子ビームを放出中であっても高真空を維持可能な小型荷電粒子線装置を提供する。 - 特許庁

例文

Preferably, a position of an electron emission mechanism is delimited using a charged particle track.例文帳に追加

好ましくは、荷電粒子トラックを用いて電子放出機構の位置を画定する。 - 特許庁

MANUFACTURE OF CHARGED PARTICLE EMITTING DEVICE AND MANUFACTURE OF FIELD EMISSION DISPLAY DEVICE例文帳に追加

荷電粒子放出装置の製造方法、及び電界放出型ディスプレイ装置の製造方法 - 特許庁

To provide a charged particle beam irradiation system capable of securing high safety and highly accurately performing irradiation with charged particle beams, and a charged particle beam emission method.例文帳に追加

本発明の目的は、高い安全性を確保して、高精度で荷電粒子ビームを照射できる荷電粒子ビーム照射システム及び荷電粒子ビーム出射方法を提供することにある。 - 特許庁

By charged particle beams which are emitted from respective charged particle emission points (a) to (j) of an emitter array 1, images of the respective charged particle emission points are formed on a wafer 14 by a magnetic tablet lens which is constituted of a first projection lens 3 and a second projection lens 5.例文帳に追加

エミッターアレイ1の各荷電粒子放出点a〜jより放出された荷電粒子線は、第1投影レンズ3、第2投影レンズ5で構成される磁気ダブレットレンズにより、各荷電粒子放出点の像をウェハー14上に結像する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF FIELD EMISSION ELECTRON GUN, FIELD EMISSION ELECTRON GUN BY THE SAME, REGENERATION METHOD OF CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE AND FIELD EMISSION ELECTRON GUN, CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE AND FIELD EMISSION ELECTRON GUN BY THE SAME, AND MULTIPLY-DIVIDED EMITTER ELECTRODE例文帳に追加

電界放出型電子銃の製造方法、その製造方法による電界放出型電子銃、荷電粒子ビーム装置、電界放出型電子銃の再生方法、その再生方法による電界放出型電子銃、荷電粒子ビーム装置、および複数分割エミッタ電極 - 特許庁

The charged particle beam emitted from a charged particle beam generator is supplied to a scanning magnet for performing scanning on an irradiation surface vertical to a beam advancing direction, and on the basis of the position and dose on the irradiation surface of the charged particle beam which passes through the scanning magnet, the emission amount of the charged particle beams from the charged particle beam generator is controlled.例文帳に追加

荷電粒子ビーム発生装置から出射された荷電粒子ビームを、ビーム進行方向と垂直な照射面上に走査する走査磁石に供給し、この走査磁石を通過した荷電粒子ビームの照射面上における位置及び線量に基づいて、荷電粒子ビーム発生装置からの荷電粒子ビームの出射量を制御する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam irradiation system and a charged particle beam emission method for efficiently emitting and using accumulated beam in a synchrotron and supporting the flatness of an amount of irradiated beam.例文帳に追加

シンクロトロン内の蓄積ビームを効率良く出射・利用でき、かつ照射線量の平坦度を担保することができる荷電粒子ビーム照射システムおよび荷電粒子ビーム出射方法を提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam emitting apparatus which can be miniaturized, cheaply produced, easily control emission and emit a good- quality charged particle beam.例文帳に追加

小型化が図れ、安価に製造でき、出射の調整が容易で、良質な荷電粒子ビームを出射することができる荷電粒子ビームの出射装置を得る。 - 特許庁

The electrostatic atomizer 3 impresses a high voltage between a water particle emission part 30 and an opposite electrode 31 to atomize water of the water particle emission part 30 and generate nanometer-sized charged corpuscle water.例文帳に追加

水粒子放出部30と対向電極31との間に高電圧を印加することで水粒子放出部30の水を霧化してナノメータサイズの帯電微粒子水を生成する静電霧化装置3を構成する。 - 特許庁

To provide a charged particle emission device with a high performance and a long life, capable of stably generating plasma.例文帳に追加

高性能で、安定してプラズマを発生させ且つ長寿命の荷電粒子放出装置を提供すること。 - 特許庁

By using the charged particle track, the electron emission mechanism is greatly miniaturized and is arranged by bringing mutual interval close.例文帳に追加

荷電粒子トラックを用いることによって、電子放出機構を極めて小さなものとし、互いの間隔を近接させて配置することが可能となる。 - 特許庁

The mask holder for the charged particle beam exposure comprises openings provided, according to an opening pattern of a charged particle beam exposure mask, a charged particle beam irradiating holder member, a charged particle beam emission holder member for sandwiching the mask and recesses in contact portions of the irradiation holder member or the irradiation holder member and the emission holder member with the exposure mask.例文帳に追加

少なくとも荷電粒子線露光用マスクの開口パターンに応じた開口部が設けられ、且つ該マスクを挟み込むための荷電粒子線照射側ホルダ部材と荷電粒子線射出側ホルダ部材とを有し、かつ該荷電粒子線照射側ホルダ部材、または該荷電粒子線照射側ホルダ部材と該荷電粒子線射出側ホルダ部材の、荷電粒子線露光用マスクの接する部分に窪みを設けた荷電粒子線露光用マスクホルダを提供する。 - 特許庁

The particle irradiation device is provided with a magnetic filed sensor 20 for measuring the magnetic field of the scanning electromagnet 3 and an irradiation control device 5 for controlling the emission amount of the charged particle beam 1b which has passed through the scanning electromagnet 3.例文帳に追加

走査電磁石3の磁場を測定する磁場センサ20と、走査電磁石3を通過した荷電粒子ビーム1bの出射量を制御する照射制御装置5とを備えた。 - 特許庁

To provide a charged particle beam radiation system which can stably vary necessary emission current of particle beam for scanning radiation or the like with a simple control device.例文帳に追加

スキャニング照射等で必要な粒子線の出射電流を簡便な制御機器で安定に変更可能な荷電粒子ビーム照射システムを提供すること。 - 特許庁

The secondary electron emission rate measuring instrument is manufactured so that it includes an electrostatic lens 104 for narrowing charged particle rays and a reflection electrode 105 for reflecting unneeded incident electrons, and is installed in a vacuum container, thus providing an inexpensive and compact measuring instrument as compared with the conventional measuring instrument and measuring secondary electron emission rate easily regardless of the type of a charged particle generator.例文帳に追加

二次電子放出率測定器は、荷電粒子線を絞る静電レンズ104及び不必要な入射電子を反射させるための反射電極105を含むように作製し、且つ、この装置を真空容器内に設置することで、従来の測定装置とは異なり、安価で小型の測定装置が供給できるとともに荷電粒子生成装置の種類に関わらず容易に二次電子放出率を測定することができる。 - 特許庁

For instance, the acid radical of the toner particle surface and a fluorescent organic acid are chemically bonded via metal having a valence of two or more, and electrostatically charged by the emission of exciting light.例文帳に追加

例えば、トナー粒子表面の酸基と蛍光性を有する有機酸を2価以上の金属を介して化学結合させ励起光の照射により帯電するようにする。 - 特許庁

A plurality of patterns different in area density are drawn by changing a proximity effect correction coefficient for every reference emission amount of a charged particle beam, and dimensions of the patterns after the drawing are measured.例文帳に追加

面積密度の異なる複数のパターンを荷電粒子ビームの基準照射量毎に近接効果補正係数を変えて描画し、描画後のパターンの寸法を測定する。 - 特許庁

To provide a beam emission control method of a charged beam accelerator, capable of reducing the cost of an exposure dose control system and lessening errors of exposure dose, and to provide a particle beam irradiation system using the accelerator.例文帳に追加

照射線量制御システムのコストを低減し、かつ照射線量誤差を小さくすることができる荷電粒子ビーム加速器のビーム出射制御方法及びその加速器を用いた粒子ビーム照射システムを提供する。 - 特許庁

To provide a particle beam radiation system and its control method, which are capable of accurately detecting and evaluating actual exposure dose in a therapy using charged particle beams by appropriately executing a beam emission in abnormal conditions during spot irradiation.例文帳に追加

スポット照射中における異常発生時のビーム出射処理を適切に行うことにより、荷電粒子ビームを用いた治療における実照射線量の検出および評価を正確に行うことができる粒子線照システムおよびその制御方法を提供する。 - 特許庁

For the charged particle beam method and apparatus, a primary electron beam is used to irradiate a sample, thereby inducing emission of secondary and back scattered electrons respectively, having information as to the form structure and the material structure of the sample.例文帳に追加

荷電粒子ビーム法および装置は、一次電子ビームを使用して試料を照射し、試料が、試料の形状的構造および材料的構造それぞれに関する情報を有する二次および後方散乱電子の放出を誘起するようにする。 - 特許庁

The current value and the irradiation energy of the charged particle beams, the electric field on the surface of the substrate to be inspected, the emission efficiency of the secondary electrons and back scattered electrons, etc., all taken into consideration, the electrical resistance and the electrical capacity are determined so as to match with those of the inspection image.例文帳に追加

一方で、荷電粒子ビームの電流値および照射エネルギー、被検査基板表面での電場、二次電子および後方散乱電子の放出効率等を考慮し、検査画像と一致させるように電気抵抗や電気容量を決定する。 - 特許庁

To provide a radiation detector needing an extremely short period (a sub-nanosecond order or less) from the rise of light emission to extinction thereof and capable of measuring a radiation quantity, in relation to a radiation detector for ionizing radiation of a γ ray, an X-ray, an electron beam, a heavy charged particle beam, neutron radiation and the like.例文帳に追加

γ線、X線、電子線、重荷電粒子線および中性子線等の電離性放射線の放射線検出装置に関し、発光の立ちあがりから消滅に至る時間が極めて短く(サブナノ秒オーダー又はそれ以下)、かつ放射線量を測定することのできる放射線検出装置に関する。 - 特許庁

The electrical resistance and capacitance of the surface of the wafer 9 are determined so as to agree with a check image, taking the current value and irradiation energy of the charged particle beam, an electric field, and the emission efficiencies of secondary electrons and back-scattered electrons on the surface of the wafer 9 into consideration.例文帳に追加

一方で、荷電粒子ビームの電流値および照射エネルギー、被検査基板表面での電場、二次電子および後方散乱電子の放出効率等を考慮し、検査画像と一致させるように電気抵抗や電気容量を決定する。 - 特許庁

To solve the problem that the conventional secondary electron emission rate measuring instrument is in a large scale including a charged particle generation source; a sample holder, an incident current measuring instrument; a radiation electron current measuring instrument; and an apparatus for controlling them although the measurement of secondary electron emission rate is essential to the development of a plasma display or the like.例文帳に追加

二次電子放出率の測定はプラズマディスプレイの開発などに欠かせないが、従来の二次電子放出率測定装置は荷電粒子発生源、サンプルホルダー、入射電流測定装置、放出電子電流測定装置、及びそれらの制御用装置を含んだ大掛かりなものであり、購入、維持に多額の費用が必要である。 - 特許庁

例文

This health care instrument exerts the synergistic effects of the skin penetration of infrared rays of long and short wavelengths, the skin penetration of charged particles, and the magnetic line operation by using a complex magnet obtained by mixing and molding rare earth permanent magnet powder, a far-infrared radiation material, and intermediate infrared radiation and discharged particle emission material powder and heating them.例文帳に追加

希土類永久磁石の粉末と遠赤外線放射材料及び中間赤外線放射及び荷電粒子放出材料粉末を混合し成型した後、加熱処理して得られた複合体磁石を用いることにより、長短波長の赤外線の皮膚浸透作用と荷電粒子の皮膚浸透作用及び磁力線作用の相乗効果を発揮させた。 - 特許庁

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