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deflection patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 115件
Further, each character is disposed within the aperture block by disposing the character apertures corresponding to a pattern of each layer of a 2-input AND cell in the same position within each of aperture blocks 302 to 305, and a deflection signal to be input to a character selection deflector may be equal for any layer.例文帳に追加
さらに、各キャラクタのアパーチャブロック内への配置を2入力ANDセルの各レイヤーのパターンに対応するキャラクタアパーチャを、各アパーチャブロック302〜305内で同じ位置に配置することにより、キャラクタ選択偏向器に入力する偏向信号はどのレイヤーでも同じでよい。 - 特許庁
Similarly, the frequency reference value output from the frequency pattern memory 4 is corrected by a current deviation signal from the deflection electromagnet current generator 6 and output to a frequency generator 7, thereby, circuiting beams 11 are accelerated based on the corrected frequency reference value.例文帳に追加
同様に、周波数用パターンメモリ4から出力される周波数基準値が、偏向電磁石電流発生装置6からの電流偏差信号により補正され、高周波発生装置7に出力され、補正された周波数基準値を基に周回ビーム11が加速される。 - 特許庁
To provide a stamper for imprint which can cope with mass production by promptly separating a base plate from a stamper after imprint using a uniform deflection of the stamper and recovering force of the same during the imprint and by hardly causing a defect on pattern surfaces of a base plate and the stamper, and to provide an imprinting device.例文帳に追加
インプリント時のスタンパの均一な撓みとその復元力を利用してインプリント後にスタンパから基板を速やかに分離できると同時に、基板およびスタンパのパターン面に欠陥が入りにくくすることで、量産化に対応できるインプリント用スタンパおよびインプリント装置を提供する。 - 特許庁
To provide a front light capable of suppressing loss light caused in that light transmitted to a light guide plate penetrates to outside due to a deflection pattern, increasing light emitted from a light emitting surface, and suppressing noise light emitted from the light guide plate directly to observer's eyes.例文帳に追加
導光板を伝搬する光が偏向パターンから外部へ透過することによって生じる損失光を抑制して、光出射面からの出射光量を増加させ、導光板から観察者の目の方向に直接出射されるノイズ光を抑制することができるフロントライトを提供する。 - 特許庁
The distortion in the image is corrected by deriving a deflecting rotational angle to the direction of observation of the charged particle beam and deforming the deflection pattern of the charged particle beam when the deflecting direction of the charged particle beam and the inclined axis of the sample are not in parallel.例文帳に追加
本発明では、荷電粒子ビームの偏向方向と試料の傾斜軸が平行となっていない場合に、荷電粒子ビームの観察方向に対する偏向回転角を求め、荷電粒子ビームの偏向パターンを変形することにより、画像の歪みを補正することに関する。 - 特許庁
To provide a simply structured substrate exposure apparatus capable of reducing variations in a gap between a substrate to be exposed and a photomask, at a proximity exposure without having to prepare special peripheral equipment for correcting the deflection, thereby attaining reduction in the variations in the line width and the film thickness of a pattern formed on the substrate to be exposed.例文帳に追加
構造が単純であり、撓み補正に特別な周辺機材を準備することなく、被露光基板とフォトマスクとの近接露光時のギャップのバラツキを低減させ、それにより被露光基板に形成されるパターンの線幅、膜厚バラツキの低減を図ることを可能とする基板露光装置を提供する。 - 特許庁
The focused ion beam device detects the mark with a mark detecting view magnification lower than a view magnification when registering the mark, before processing the processed pattern, calculates a degree of displacement while comparing the position of the registered mark with the position of the detected mark, and detects the mark again after shifting an ion beam deflection region to restore the view magnification into that when registering the mark.例文帳に追加
加工パターンの加工前にマーク登録時の視野倍率よりも低いマーク検出用の視野倍率でマークを検出し、登録したマークと検出されたマークの位置を比較して位置ずれ量を算出し、イオンビーム偏向領域をシフトさせてマーク登録時の視野倍率に戻してマークを再検出する。 - 特許庁
Hereby, compared with a case where the peripheral part of the transparent substrate 24 is supported, a deflection quantity of the transparent substrate 24 in the exposure range A can be reduced (the transparent substrate 24 can be supported in the range of a positional error), therefore, an optical electrodeposition film by a precise exposure pattern can be formed on one surface of the transparent substrate 24.例文帳に追加
このため、透明基板24の外周部を支持する場合と比較すると、露光範囲Aでの透明基板24の撓み量を小さくすることができるので(位置誤差範囲内で透明基板24を保持できるので)、精密な露光パターンによる光電着膜を透明基板24の一面に形成することができる。 - 特許庁
On a conductor part 72 formed of copper foil constituting the wiring pattern on the circuit board 6 which supplies currents to deflection coils 4a and 4b of the cathode-ray tube, an auxiliary conductor part 76 is formed of wiring solder and if the conductor part 72 cracks, the currents are continuously supplied by the auxiliary conductor part 76.例文帳に追加
陰極線管の偏向コイル4a、4bに電流を供給する回路基板6上配線パタ−ンを構成する銅箔で形成された導体部72上に線状のハンダで形成された補助導体部76を形成し、導体部72にクラックが生じた場合に補助導体部76により電流を流し続ける。 - 特許庁
To provide a molding apparatus and a manufacturing method for molding a disk substrate which does not cause a face deflection and a worse tilt in an axial direction by easily exactly removing a disk substrate from a mold for molding a concave and convex pattern i.e., so-called a pit or a pre-groove composing a recording track and to provide a substrate manufactured thereby.例文帳に追加
凹凸パターンであるいわゆるピット、あるいは記録トラックを構成するプリグルーブを成形するための金型からディスク基板の容易且つ確実な離型を行ない、成形されるディスク基板に面振れ、軸方向のチルトの悪化を生じさせることのないディスク基板成形用金型装置及び製造法とそれらで製造された基板を提供すること。 - 特許庁
The light beam deflection part 4 produces a striped pattern, not by shielding light from the light source 30, but by deflecting the progress direction of light form the light source 30, so that most part of the light emitted from the light source 30 contributes to generating slit-shape light beams L1 to L4.例文帳に追加
光線偏向部4は光源30からの光を遮光することによって縞状パターンを生成するのではなく、光源30からの光の進行方向を偏向することによって縞状パターンを生成するものであるため、光源30から放射される光の大部分はスリット状の光束L1〜L4の発生に寄与することになる。 - 特許庁
A drawing control unit 100 for deflecting an electron beam to perform drawing on a desired position of a sample surface makes graphic data include specified information on a least deflection address unit (LSB) and retrieves LSB every time it calls the graphic data within a pattern from a buffer memory, thereby allowing the changeover of LSB by a gain switch 7 of an analog control unit 6.例文帳に追加
電子ビームを偏向して試料面の所望の位置へ描画する描画制御部100は、描画パターンの図形データに最小偏向アドレス単位(LSB)の指定情報を持たせ、パターン内の図形データをバッファメモリ1から呼び出す度にLSBを取り出し、アナログ制御部6のゲイン切替7によってLSB切替を可能にしている。 - 特許庁
The vehicle light includes a first lens being a convex lens arranged on an optical axis and a planar light source arranged in the vicinity of a rear side focal point of the first lens, and forms a first light distribution pattern having a horizontal and a slanted cut-off lines at the top end part on the irradiation surface by deflection controlling the direct light from the planar light source by the convex lens.例文帳に追加
車両用灯具は、光軸上に配置された凸レンズである第1レンズと、第1レンズの後側焦点近傍に配置された面状光源とを備え、面状光源からの直射光を凸レンズで偏向制御することにより、照射面上で上端部に水平および斜めカットオフラインを有する第1配光パターンを形成する。 - 特許庁
In a projector 10, a light source 30 generating a projection light for projecting a striped pattern to the object is provided and a light beam deflection part 4, splitting the light from the light source 30 into a plurality of slit-shape light beams L1 to L4 by deflecting the light direction from the light source 30 corresponding to the radiation angle from the light source 30, is provided.例文帳に追加
投影装置10には、対象物に縞状パターンを投影するための投影光を発生させる光源30が設けられるとともに、その光源30からの放射角度に対応して光源30からの光の進行方向を偏向することにより、光源30からの光を複数のスリット状の光束L1〜L4に分割する光線偏向部4が設けられる。 - 特許庁
By such a structure, the deflecting condition of the ultraviolet irradiating the farm field 3 is maintained in the vicinity of the transmission through the covering film 4 to attain light distribution equal to a light deflection pattern in an airy region in the farm field 3, and thereby the pollinating insects 2 make accurate recognition of the direction so as to exactly fly toward farm crops 31 or nest boxes 32 placed in the farm field 3.例文帳に追加
これにより、圃場3に照射される紫外線の偏光状態を被覆フィルム4の透過前後で維持することができ、圃場3内において天空の偏光パターンと同等の配光状態を実現でき、受粉用昆虫2が方向認識を的確に行い、圃場3内にある農作物31や巣箱32に向かって正確に飛翔できる。 - 特許庁
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