「deflection pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

A first beam deflection device (43, 67 and 78) moves the scanning area (31, 33) to the interested area (27, 29), and a second beam deflection device (49, 72 and 94) works as scanning in a form of bent pattern in the scanning area (31, 33).例文帳に追加

第１のビーム偏向装置（４３，６７，７８）が、関心のある領域（２７，２９）に走査領域（３１，３３）を移動し、第２のビーム偏向装置（４９，７２，９４）は、走査領域（３１，３３）の内部で曲折模様形状の走査を行うように作用する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a display device capable of suppressing deformation such as deflection of an insulating substrate even when a semiconductor film with a desired pattern is formed on the insulating substrate.例文帳に追加

絶縁基板に所定パターンの半導体膜を形成した際でも、絶縁基板の反りなど変形を抑制した表示装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Or, a plurality of electron beams are successively made to scan as the scan starting times of the electron beams are staggered, and a pattern measurement is made at a scanning distance equal to each exposure deflection distance or above.例文帳に追加

または、複数の電子ビームの走査開始時刻をずらして順次走査することにより、個々の描画偏向距離以上の走査距離でパターン計測を行う。 - 特許庁

A desired pattern can be formed by using such substrate 100 and adjusting the exposure device based on the deflection amount of the mask substrate 100 detected by the photosensor 103.例文帳に追加

このようなマスク基板１００を用い、光センサ１０３が検知したマスク基板１００のたわみ量に基づいて露光装置を調整し、所望のパターンが形成できる。 - 特許庁

To provide a work where a stable and constant gap is formed with a photomask during exposure, even when there is deflection, and a resist pattern of uniform dimension is formed.例文帳に追加

反りを有する場合であっても、露光時にフォトマスクとの間に安定して均一なギャップが形成され、均一な寸法のレジストパターンが形成されるワークを提供する。 - 特許庁

To provide a substrate supporting device with a simple device configuration and capable of suppressing deflection of a substrate as a correction object, and a pattern correction apparatus using the same.例文帳に追加

装置構成が簡単で、かつ修正対象の基板の撓みを抑制することが可能な基板支持装置およびこれを用いたパターン修正装置を提供する。 - 特許庁

Observation devices 3 and 4 observe the pattern for measurement 15 projected on the surface of the work to be machined 20 via the reflection mirror of the deflection optical system.例文帳に追加

観測装置３，４が、加工対象物２０の表面上に映し出された前記計量用パターン１５を、偏向光学系の反射鏡を介して観測する。 - 特許庁

The convergence control part detects an angular error where the reference pattern is distorted by the earth magnetic field, based on the difference between the datum position of the reference pattern and the maximum brightness measurement position, and controls a deflection circuit so as to compensate the angular error in question.例文帳に追加

コンバージェンス制御部は基準パターンの標準位置と最大輝度測定位置との差に基づき基準パターンが地磁界により歪んだ角誤差を検出し、該角誤差が補償されるよう偏向回路を制御する。 - 特許庁

To obtain an electron beam drawing apparatus, where an electron beam is capable of reaching to a shutoff stop edge passing through a distance much smaller than a total deflection amplitude at shutoff and deflection of a beam, a time required for shutting off a beam is markedly shortened, and a drawing pattern is improved in resolution.例文帳に追加

ビーム遮断偏向時の全偏向振幅よりはるかに小さい距離で遮断絞りエッジにビームを到達させ、ビーム遮断までの時間を大幅に短縮して描画パターンのエッジ解像度を向上させることができる電子ビーム描画装置を実現する。 - 特許庁

Providing a mark pattern which has 2-dimensional periodic structure in order to compensate deflection amount and the distortion during electron-ray scanning, scanning the electron ray so that the mark pattern, which has the periodic structure, may have an angle, making an interference-fringe pattern generate, and observing this interference-fringes pattern make distortion compensation, which has higher accuracy than before, enable.例文帳に追加

電子線走査時の偏向量および歪を補正するために２次元の周期構造を有するマークパターンを設け、この周期構造を有するマークパターンと角度を成すように電子線を走査し、干渉縞パターンを発生させ、この干渉縞パターンを観察することで、従来よりも高い精度での偏向歪補正を可能とする。 - 特許庁

The control means 21 controls the scanning of the deflection means 2 by superposing a scan signal on a deflection signal, when electron beam profiles such as an emission pattern are displayed on a displaying means based on x-ray detection data obtained by the x-ray detection means 20.例文帳に追加

制御手段２１は偏向信号にスキャン信号を重畳して各偏向手段２を走査制御し、そのとき表示手段には前記Ｘ線検出手段２０で得られたＸ線検出データに基づいて電子ビームプロファイル、例えばエミッションパターンが表示される。 - 特許庁

To provide an electron beam lithography method in which drawing of a fine pattern can be made in high precision as prescribed on all surface of a substrate, and in a deflection control by a triangular wave deflection signal, drawing operation by electron beams is corrected and a photosensitized drawing of a prescribed element shape can be made rapidly and precisely with a constant dose.例文帳に追加

微細パターンの描画が基板の全面で所定通りに高精度に行え、三角波偏向信号による偏向制御において、電子ビームによる描画動作を修正し、所定のエレメント形状の感光描画が一定のドーズ量で高速かつ正確に描画可能とする。 - 特許庁

To provide a mask for use in an electron beam aligner correcting a variation in the line width of a pattern due to the deflection of the mask when exposure is performed using an electron beam which cannot be made parallel completely.例文帳に追加

完全に平行にはできない電子ビームにより露光を行う際に、マスクたわみによるパターン線幅のばらつきを修正する電子ビーム露光装置に使用するマスクを提供する。 - 特許庁

To realize a mark position detecting method capable of measuring a pattern larger than an exposure deflection distance and to provide an electron beam exposure technique using the same.例文帳に追加

マルチ電子ビーム描画装置において、描画偏向距離よりも大きなパターン計測を可能にするマーク位置検出方法を実現し、それを用いた電子ビーム描画技術を提供する。 - 特許庁

To provide a means for measuring change in a deflection angle speed of a beam deflecting means for the moving speed of a marking object before marking of an identification code and an arbitrary pattern.例文帳に追加

識別コードや任意のパターンのマーキング前に、マーキング対象物の移動速度に対する、前記光線偏向手段の偏向角速度の変化を計測する手段を提供する。 - 特許庁

A deflector 7 is used for transferring the pattern of a part which is not present on an optical axis 1, and a dynamic focusing coil 8 and a stigmater 9 are used for correcting blurs or distortions caused by the deflection.例文帳に追加

光軸１上にない部分のパターンを転写するために偏向器７が用いられ、偏向に伴うボケや歪みの補正にはダイナミックフォーカスコイル８とスティグメーター９が用いられる。 - 特許庁

A large number of substantially arc light deflection patterns 37 are arrayed on the back (pattern) surface of a light guide plate, to produce a visual-angle-controlled even, bright and clear image.例文帳に追加

導光板の背面（パターン）面には略円弧状をした光偏向パターン３７が多数配置され視野角が制御された,ムラのない明るく鮮明な画像を得ることができる。 - 特許庁

To provide an electron beam exposure system capable of shortening a time of waiting deflection control only in exposure of a specific pattern without remarkably revamping a conventional electron beam exposure system.例文帳に追加

従来の電子線露光装置に大幅な改造を加えることなく、特定のパターンの露光時にのみ偏向制御待ち時間を短くすることが可能な電子線露光装置を提供する。 - 特許庁

At this time, a read address transition part 2 deviates a read address given to the discharge pattern storage part 1 by a discharge period of the liquid droplets to interlock with a direction of deflection control of each discharge opening.例文帳に追加

このとき、読出アドレス遷移部２は、液滴の吐出周期で、吐出パターン記憶部１に与える読み出しアドレスを、各吐出口の偏向制御の方向に連動して偏移させる。 - 特許庁

The pattern 104 is formed on a groove wall section that is a portion of the deflection track 103 of a control information region 101 and a plurality of the patterns 104 is formed in the peripheral direction of the track in a distributed manner.例文帳に追加

管理情報領域１０１の偏向トラック１０３の一部の溝壁部に偏向パターン１０４を形成し、且つ、偏向パターン１０４をトラックの周方向に複数分散させて形成させる。 - 特許庁

Even if the track pitch is narrowed due to increased density, signals are prevented from deteriorating by interference from adjacent tracks, because the tracks in the control information area are formed in the same deflection pattern.例文帳に追加

高密度化のためにトラックピッチが狭まっても、管理情報領域のトラックが全て同じ偏向パターンで形成されているので、隣接トラックからの干渉により信号が劣化することが防止される。 - 特許庁

A landing correction coil 11 is placed at a rear side of a deflection yoke 8 provided to the cathode ray tube 1, and a correction current depending on the beam landing pattern is supplied to the landing correction coil 11.例文帳に追加

陰極線管１に設けられた偏向ヨーク８の後部側にランディング補正用コイル１１が配置され、ランディング補正用コイル１１にビームランディングパターンに応じた補正電流が供給される。 - 特許庁

To provide a deflection yoke capable of easily correcting left and right seagull pattern distortions of the upper edge part and the lower edge part of an image plane while effectively correcting the pin cushion distortion of the outermost circumferential part of the image plane.例文帳に追加

画面の最外周部のピン歪みを効果的に補正しつつ、画面の上側縁部および下側縁部の左右のシガールパターン歪みを容易に補正することができる偏向ヨークを提供する。 - 特許庁

Light emitted from the light source 37 is guided within the light guide plate 38, and part of the light is totally reflected on the deflection pattern 39 so as to be obliquely emitted from an upper face of the light guide plate 38.例文帳に追加

光源３７からの出射光は導光板３８内を導光し、その光の一部は偏向パターン３９で全反射され、導光板３８の上面から斜めに出射する。 - 特許庁

To provide an electron-beam tube device capable of improving the resolution of an exposure pattern by shortening the range of electron beams while maintaining the size of a maximum deflection region scanned by electron beams.例文帳に追加

電子ビームを走査する最大偏向領域の大きさを維持しつつ、電子ビームの飛程を短縮して露光パターンの分解能を向上することが可能な、電子線鏡筒装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and device for manufacturing a color filter capable of forming a fine and precise image pattern even if the base board transparent has a large area by preventing displament originating from deflection.例文帳に追加

大面積の透明基板であっても、たわみによる変位を防止して精密な画像パターンを形成しうるカラーフィルター製造装置、及びそれを用いたカラーフィルターの製造方法を提供する。 - 特許庁

As a result, the amount of deflection on the charged particle beam 9 changes so that radiation can take place on a position shifted by an offset of the wafer stage 2 and a reticle pattern image is transcribed onto a target position of wafer 1 by exposure.例文帳に追加

それにより、荷電粒子線９の偏向量が変化し、ウエハステージ２の位置ずれ分だけずれた位置に入射し、ウエハ１の目標とする位置に、レチクルのパターン像が露光転写される。 - 特許庁

The optimal correction pattern is used to compute a second load L2 corresponding to the target correction amount Tr of the deflection of the rotor 15 and apply a computed second load L2 to the rotor 15 from the load applying part 13.例文帳に追加

最適修正パターンを用いて、ロータ１５の目標となる振れ修正量Ｔｒに対応する第二荷重Ｌ２を算出し、算出された第二荷重Ｌ２を荷重印加部１３からロータ１５へ加える。 - 特許庁

When the equipment is used, the pattern is positioned to an accurate position, and high-accuracy electron beam lithography can be performed even when the height of a sample in the image forming surface of the beam changes by preventing unnecessary deflection of electrons caused by the focal point correction.例文帳に追加

本発明によれば、焦点補正による不要な電子偏向防止されてビーム結像面である試料面の高さ変化があっても正確な位置にパターン露光され高精度の電子ビーム描画が可能となる。 - 特許庁

To prevent generation of deflection in a vibration plate of an ink pressuring chamber at the time of anode-bonding a glass substrate to the surface of a silicon substrate with an ink channel pattern formed by etching for forming an ink channel of an ink-jet head.例文帳に追加

インクジェットヘッドのインク流路を形成するために、インク流路パターンがエッチング形成されたシリコン基板の表面にガラス基板を陽極接合する際に、インク圧力室の振動板に撓みが発生しないようにすること。 - 特許庁

In order to plot the pattern of an oblique line of 45°, coordinates of a field are inclined by 45°, and a deflection signal applied to each electrode of a positioning deflector 10 of eight electrodes is applied to an adjacent electrode arranged at intervals of 45°.例文帳に追加

４５°の斜線のパターンを描画するには、フィールドの座標を４５°傾け、８極の位置決め偏向器１０の各電極に印加する偏向信号を、４５°の間隔で配置されている隣の電極に印加するように制御する。 - 特許庁

Blanking by a blanking control unit 31 is eliminated by making the circumferential direction movement velocity Vsub of a substrate and a beam deflection velocity Vbeam higher in a segment R2 in which a drawing pattern is sparse, and making Vsub and Vbeam lower in segments R1 and R3 which are dense.例文帳に追加

描画パターンが疎である区間Ｒ２は基板周方向の移動速度Ｖsub及びビーム偏向速度Ｖbeamを速くし、密である区間Ｒ１，Ｒ３Ｖsub及びＶbeamを遅くすることで、ブランキング制御部３１によるブランキングをなくす。 - 特許庁

The projection aligner comprises an optical system for illuminating a reticle, and an optical system for projecting the pattern of the reticle onto a wafer wherein the illumination optical system comprises an optical deflection element for converting a light incident to an optical integrator into a ring-like light and the optical deflection element has a variable position in the direction perpendicular to the optical axis in the optical path.例文帳に追加

レチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンをウエハ上に投影する投影光学系とを有する投影露光装置において、前記照明光学系は、オプティカルインテグレータに入射する光を輪帯状の光に変換する光偏向素子を有し、該光偏向素子は光路内における光軸に垂直な方向の位置が可変であること。 - 特許庁

At pattern drawing, the positional deviation amount of a sample is acquired from the pre-stored data based on the temperature fluctuation of the sample stage, and the positional deviation amount is corrected by a deflection control system 115 or a laser measurement system 109, and an electron lens control system 117.例文帳に追加

パターン描画時に、試料ステージの温度変動をもとに、予め記憶しておいたデータから試料の位置ずれ量を求め、偏向制御系１１５またはレーザ測定系１０９、電子レンズ制御系１１７で位置ずれ量の補正を行う。 - 特許庁

The lateral wind control judging part 33 judges the chief lateral wind receiving region on the basis of the lateral wind receiving condition of each region shown by the fed lateral wind information Ssw and specifies the deflection pattern Psw corresponding to the applicable lateral wind receiving region.例文帳に追加

横風制御判定部３３は、入力された横風情報Ｓswに示される各領域の横風受風状態に基づいて主たる横風受風領域を判定し、その横風受風領域に対応する偏向パターンＰswを特定する。 - 特許庁

To provide a device and method forming a controllable and predictable liquid adhesive filament-pattern by eliminating or suppressing the influence of the manufacturing defects or the deflection of the adhesive filament.例文帳に追加

製造上の欠陥の影響や接着材フィラメントを偏向させる原因の影響を除去する又は出来るだけ少なくする装置及び方法を提供し、これによってより一層制御可能な及び予見可能な液体接着材フィラメント・パターンを作り出す。 - 特許庁

In case of failure, a low-beam emitting device 8 controls the reflected light L6 from a reflection type digital light deflection device 2 during non-energization period to use it as a light distribution pattern P for low beam and emit it to a road surface.例文帳に追加

故障が発生した場合において、ロービーム照射装置８により、無通電時の反射型デジタル光偏向装置２からの反射光Ｌ６を制御してすれ違い用の配光パターンＰとして使用して路面などに照射することができる。 - 特許庁

To provide a mask for charged particle beam exposure eliminating thermal deflection and displacement of a membrane due to heat storage during exposure without blocking formation of a fine mask pattern, and to provide a method of manufacturing the mask for charged particle beam exposure.例文帳に追加

微細なマスクパターンの形成を阻害することなく、露光時の蓄熱に起因したメンブレンの熱たわみ及び位置ずれを解消することを可能とする荷電粒子線露光用マスク及び荷電粒子線露光用マスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a phosphor screen of a cathode-ray tube, and a method for manufacturing a cathode-ray tube, capable of eliminating deviation between an electron beam track and a phosphor layer pattern after the inside of the cathode-ray tube is vacuum-pumped, so that color deflection is reduced in use.例文帳に追加

陰極線管内部を真空排気した後の電子ビーム軌道と蛍光体層パターンとのずれをなくし、使用に際して色ズレが少ない陰極線管の蛍光面の作製方法および陰極線管の製造方法を提供すること。 - 特許庁

A scanning exposure type projection optical system, which forms a pattern image of a mask M on a plate by moving the mask M and a plate P relatively to the projection optical system, has at least one deflection member, and the continuation direction of the periodic waving of the reflecting surface of the deflection member is made to cross the direction orthogonal to the scanning direction of the mask and plate.例文帳に追加

マスクＭおよびプレートＰを投影光学系に対して相対的に移動させることによりマスクのパターン像をプレート上に形成する走査露光型の投影光学系において、投影光学系は、少なくとも１つの偏向部材を有し、偏向部材の反射面に存在する周期性を持つうねりの連続方向をマスクおよびプレートの走査方向と直交する方向と交差する方向とした。 - 特許庁

Light emitted from the point light source 24 propagates while being closed within the light guide plate 25 and the light totally reflected by the deflection pattern 26 is emitted from a light emission surface 28 toward an oblique direction with respect to the normal direction of the light emission surface 28.例文帳に追加

点光源２４から出射された光は、導光板２５内に閉じ込められて伝搬し、偏向パターン２６で全反射された光は、光出射面２８に立てた法線方向に対して斜め方向に向けて光出射面２８から出射される。 - 特許庁

The magnetic recording medium includes a servo area including a pattern of a magnetic material or a nonmagnetic material utilized as a servo signal, wherein a burst mark of a burst part for detecting the deflection of the servo area is formed of the isolated nonmagnetic material surrounded by the magnetic material.例文帳に追加

サーボ信号として利用される磁性体または非磁性体のパターンを含むサーボ領域を有し、前記サーボ領域の偏差検出用バースト部のバーストマークが、磁性体によって囲まれた孤立した非磁性体で形成されている磁気記録媒体。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color-filter substrate which reduces deflection of a photomask by a simple method and forms a plurality of color filters by performing patterning processes, such as pattern exposure and developing, by using the photomask that is fixed and held in a mask holder.例文帳に追加

フォトマスクのたわみを簡易な方法で減少させ、マスクホルダーに固定保持さしたフォトマスクを用いてパターン露光、現像等のパターニング処理を行って複数の着色フィルタを形成するカラーフィルタ基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

At a position opposed to the light incident face 46 of the light guide plate 42, a prism sheet 45 is arranged, while at a position opposite to a face in which a deflection pattern 47 is formed on the opposite side to the light incident face 46 of the light guide plate 42, a reflecting plate 44 is arranged.例文帳に追加

導光板４２の光入射面４６と対向する位置にはプリズムシート４５を配置し、導光板４２の光入射面４６と反対側の偏向パターン４７を形成された面と対向する位置には反射板４４を配置する。 - 特許庁

Uneven deflection of the upper surface of the top plate of the step part 3a is eliminated by the reinforcement pipe or the reinforcement bar to give the feeling of stability, storage of rain is eliminated by the inclination of the upper surface of the top plate, and the excellent slip-proof effect is demonstrated by the uneven pattern.例文帳に追加

補強パイプ又は補強棒で踏台部３ａの天板上面の撓みをベコツキを無くして安定感を付与し、天板上面の傾斜により雨水の滞溜をなくすと共に、凹凸模様によって良好な滑り止め作用を発揮させる。 - 特許庁