「deflection pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

A deflection electromagnet power supply controller 22 sets an excitation current set value 221 for a deflection electromagnet power supply 21 based on excitation current pattern data 401.例文帳に追加

電磁石電源制御装置22は、対して励磁電流パターンデータ401に基づき励磁電流設定値221を偏向電磁石電源21に設定する。 - 特許庁

A deflector is driven by drawing deflection data outputted from a pattern generator 1, together with the above both following deflected amounts added to the deflection data by an analog adding machine.例文帳に追加

アナログ加算器１７でパターンジェネレータ１からの描画偏向データとともに前記両追従偏向量を加算し、偏向器を駆動する。 - 特許庁

Four patterns of concentrated blow pattern, one side deflection blow pattern, scattering pattern, and other side deflection blow pattern, are obtained by rotating three wind direction adjusting louvers A to C with an angular pitch of each 45°.例文帳に追加

３つの風向調整ルーバＡ〜Ｃを４５°づつの角度ピッチで回転させることにより、集中送風パターン、一方側偏向送風パターン、拡散パターン、他方側偏向送風パターンの４つのパターンが得られる。 - 特許庁

A deflection pattern 25 of the recess pattern state is formed at the lower face of the lightguide plate 22, and a directivity conversion part 30 is installed between a light-reflecting part 25a which is an inclined face directed to the light source side of the deflection pattern 25 and a flat part 28.例文帳に追加

導光板２２の下面には凹パターン状の偏向パターン２５が形成されており、偏向パターン２５の光源側を向いた傾斜面である光反射部２５ａと平坦部２８との間に、指向性変換部３０を設ける。 - 特許庁

The first deflection pattern 32a is arranged so that a normal line erected on the deflecting inclined surface of the first deflection pattern 32a is parallel to a direction where a light source 17 is connected to the first deflection pattern 32a, when viewed from the direction perpendicular to the light emitting surface 16c of the light guide plate 16.例文帳に追加

導光板１６の光出射面１６ｃに垂直な方向から見たとき、第１の偏向パターン３２ａは、その偏向傾斜面に立てた法線が、光源１７と当該第１の偏向パターン３２ａとを結ぶ方向と平行となるように配置する。 - 特許庁

The multi-beam pattern definition device 300 includes a deflection array means 302 and a plurality of electrostatic deflector electrodes 321 for each beamlet.例文帳に追加

偏向アレイ手段３０２、各ビームレット用の複数の静電偏向電極３２１を有する。 - 特許庁

Control information required to drive an optical disk 100 is recorded as a deflection pattern 104.例文帳に追加

光ディスク１００を駆動するために必要な管理情報は偏向パターン１０４として記録する。 - 特許庁

ELECTRON BEAM DRAWING DEVICE, METHOD FOR CALCULATING ASYNCHRONOUS ROTATION DEFLECTION, AND PATTERN DRAWING METHOD例文帳に追加

電子線描画装置、非同期回転振れ量算出方法、及びパターン描画方法 - 特許庁

When synchronized with this time clock, a current reference value of a deflection electromagnet is output from the pattern memory 3 for defection electromagnet current to a deflection electromagnet current generator 6 and a coil current flows to the deflection electromagnet 10.例文帳に追加

このタイムクロックに同期し、偏向電磁石電流用パターンメモリ３から偏向電磁石の電流基準値が偏向電磁石電流発生装置６に出力され、偏向電磁石１０にコイル電流が流れる。 - 特許庁

To implement high-precision deflection control by calculating 8-pole deflection data of an electric beam pattern forming with high precision and adjusting a deflection amplifier for all of the 8 poles with high precision.例文帳に追加

電子ビーム描画の８極偏向データの演算を高精度に行うと共に、８極相互の偏向アンプのゲイン調整を高精度に行うことにより高精度の偏向制御を実現する。 - 特許庁

Data based on a forming pattern is converted to an 8-pole deflection signal by a circuit 102, and the deflected signal is applied to an 8-pole electrostatic deflection device 120 via digital/analog converting deflection amplifier 105.例文帳に追加

描画パターンに基づくデータを、回路１０２で８極用の偏向信号に変換し、この偏向信号を８極の静電偏向器１２０にディジタル／アナログ変換偏向アンプ１０５を介して印加する。 - 特許庁

The lens sheet 12 has a deflection pattern P2 formed corresponding to an optical pattern P1 of the light guide plate 11.例文帳に追加

レンズシート１２には、導光板１１の光学パターンＰ１に対応する偏向パターンＰ２が形成されている。 - 特許庁

A deflection pattern 37 dented in triangular prism shape and a diffusion pattern 38 are formed on a back face of a light guide plate.例文帳に追加

導光板の裏面には、三角プリズム状に窪んだ偏向パターン３７と、拡散パターン３８とが形成されている。 - 特許庁

The control device 1 includes a timer 2, a pattern 3 memory for deflection electromagnet current, a frequency pattern memory 4, and a frequency reference value correction circuit 5.例文帳に追加

制御装置１は、タイマ２、偏向電磁石電流用パターンメモリ３、周波数用パターンメモリ４、周波数基準値補正回路５を備える。 - 特許庁

A deflector (400) for measuring a pattern is separately provided to take a pattern measurement at a scanning distance equal to each exposure deflection distance or above.例文帳に追加

パターン計測用の偏向器（４００）を別途設けることにより、個々の描画偏向距離以上の走査距離でパターン計測を行う。 - 特許庁

In one side deflection blow pattern and the other side deflection blow pattern, air capacity is different in width direction both sides of a case 2, so that an occupant can perform blow control finer than in the past.例文帳に追加

一方側偏向送風パターン及び他方側偏向送風パターンでは、ケース２の幅方向両側において風量が異なるので、乗員は従来よりも細やかな送風制御が行える。 - 特許庁

To solve the problem that a wrong image is drawn when deflection discharging of a discharge pattern is carried out because the discharge pattern written in a buffer memory is formed without a discharge direction deflection taken into account.例文帳に追加

バッファメモリに書き込まれている吐出パターンは、吐出方向の偏向を考慮せず生成されているため、吐出パターンを偏向吐出すると誤った画像が描画される。 - 特許庁

A display part 19 performing light emission display comprises an assembly of a first deflection pattern 32a and a second deflection pattern 32b provided on the lower surface of a light guide plate 16.例文帳に追加

発光表示する表示部１９は、導光板１６の下面に設けた第１の偏向パターン３２ａと第２の偏向パターン３２ｂの集合によって構成される。 - 特許庁

The deflection yoke apparatus has at least one printed circuit board 4 disposed near a deflection yoke for a correction circuit, wherein a printed wiring pattern 5 which generates magnetic field having canceling direction against the leaked magnetic field from the deflection yoke is formed on the printed circuit board 4.例文帳に追加

偏向ヨークに近接して配置された少なくとも１枚の補正回路用プリント基板４とを備えた偏向ヨーク装置において、補正回路用プリント基板４に、偏向ヨークからの漏洩磁界を打ち消す向きの磁界を発生するプリント配線パターン５が形成されている。 - 特許庁

The cell is divided in each unit lithography area having width obtained by reducing only the MSD pattern width from maximum available lithography width in charged particle beam deflection only of sub-deflection.例文帳に追加

副偏向のみの荷電ビームの偏向で描画可能な最大幅から、その長辺方向のパターン幅だけ小さくした幅を有する単位描画領域でセルを分割する。 - 特許庁

The lateral wind control amount calculation part 36 calculates the lateral wind control amount Isw* as the control component for giving an assist force corresponding to the deflection intensity in the direction opposite the deflecting direction shown by the deflection pattern Psw specified.例文帳に追加

また、横風制御量演算部３６は、特定された偏向パターンＰswに示される偏向方向と反対の方向にその偏向強度に応じたアシスト力を付与するための制御成分である横風制御量Ｉsw*を演算する。 - 特許庁

A speed deflection, following a stage movement, can be performed by connecting the switch 54 to the inspection primary electronic line high-speed deflection control circuit 43, thereby the circuit pattern is inspected.例文帳に追加

スイッチ５４を検査用一次電子線高速偏向制御回路４３に接続することによりステージ移動に追従した高速偏向が可能となり、これによって回路パターンの検査が行われる。 - 特許庁

By connecting the switch 54 to the primary electron beam high-speed deflection control circuit 43 for inspection allows high-speed deflection that follows stage movement, which conducts the inspection of a circuit pattern.例文帳に追加

スイッチ５４を検査用一次電子線高速偏向制御回路４３に接続することによりステージ移動に追従した高速偏向が可能となり、これによって回路パターンの検査が行われる。 - 特許庁

Deflection pattern elements 53A, 53B are disposed in a concentric circle shape around a mid point Q of the light sources 33A, 33B.例文帳に追加

偏向パターン素子５３Ａ、５３Ｂは光源３３Ａ、３３Ｂの中点Ｑを中心として同心円状に配置する。 - 特許庁

The deflection patterns 18 are arranged along the edge of the pattern to be expressed in the display unit 19 at a constant interval.例文帳に追加

表示部１９で表現しようとする図柄の縁に沿って一定間隔毎に偏向パターン１８が並べられている。 - 特許庁

To obtain a deflection yoke, where an inverted cross mis-convergence, a B-shaped pattern and a vertical inner pin cushion distortion can be corrected.例文帳に追加

反転クロスミスコンバーゼンス、Ｂ字状パターンおよび上下インナーピン歪みを補正することができる偏向ヨークを得る。 - 特許庁

To form an optical electrodeposition film by a precise exposure pattern, by reducing deflection caused by a self-weight of a substrate, even in the case of a large-sized substrate.例文帳に追加

基板が大型化しても、基板の自重による撓みを小さくし、精密な露光パターンによる光電着膜を形成する。 - 特許庁

The tracks in the control information area 10 of this optical disk 1 are all formed in the same deflection pattern, based on the control information.例文帳に追加

光ディスク１の管理情報領域１０のトラックを、管理情報に基づいて全て同じ偏向パターンで形成する。 - 特許庁

Then, the deflection of the synthetic imaging data is corrected based on a distribution pattern showing distribution and the moving amount (S1207).例文帳に追加

そして、分配を示す分配パターンおよび動き量に基づき、合成撮像データの振れを補正する(S1207)。 - 特許庁

In one membrane region, a plurality of stencil pattern groups corresponding to deflection regions 103 are placed.例文帳に追加

１メンブレンの領域内に偏向領域１０３に対応したステンシルパターン群を複数個配置する。 - 特許庁

The phenomenon of the toe height of the raised leg to be lowered lower than the height indicated by the walking pattern data is compensated by deflection generated on a mechanical system.例文帳に追加

機械系に生じる撓みによって遊脚の足先高さが歩容データで指示される高さよりも下がる現象が補償される。 - 特許庁

On a portion of a lower surface of the deflection patterns 18, there is provided a display unit 19 for displaying a pattern by light emission.例文帳に追加

偏向パターン１８の下面の一部には、発光により図柄を表示するための表示部１９が設けられている。 - 特許庁

A deflection pattern 37 is formed on a lower face of a light guide plate 32, and a prism array 38 is formed on an upper face (light emitting face 35) thereof.例文帳に追加

導光板３２の下面に偏向パターン３７を形成し、導光板３２の上面（光出射面３５）にプリズムアレイ３８を形成する。 - 特許庁

The light deflection pattern 37 with the smaller opening angle ξA of light incidence, because of the larger curvature, spreads reflected light wider, to provide wider directivity characteristic of the light reflected by the light deflection pattern 37 and emitted from an emission surface of the light guide plate.例文帳に追加

小さな見込み角ξＡで光が入射する光偏向パターン３７では、その湾曲度合いが大きくて反射光を大きく広げるので、光偏向パターン３７で反射されて導光板の出射面から出射される光の指向特性が広くなる。 - 特許庁

At least one step of a deflection pattern prior body 6 which changes into a deflection pattern going around the outer peripheral surface of the container body 1 one time when decompression is generated in the container body 1, and makes the container body 1 shrink in the axial direction of the container body 1 is provided on the container body 1.例文帳に追加

容器本体１の内部において減圧が発生した際に、容器本体１の外周面を一回りする座屈パターンに変化し容器本体１を該容器本体１の軸方向に収縮させる座屈パターン事前体６を、前記容器本体１に少なくとも１段設ける。 - 特許庁

The light deflection pattern 37 in a position A with a large opening angle of light incident from a light source has a small curvature, and the light deflection pattern 37 at a position B with a smaller opening angle of light incident from the light source has a large curvature.例文帳に追加

光源から入射する光の見込み角が大きな位置（Ａ）の光偏向パターン３７は、湾曲度合いが小さくなっており、光源から入射する光の見込み角が小さな位置（Ｂ）の光偏向パターン３７は、湾曲度合いが大きくなっている。 - 特許庁

Data of the pattern for determination stored in a pattern data storage part 301 includes data in which light deflection surfaces 43, to which a light beam LB is radiated in formation of an electrostatic latent image of each thin-width pattern, are the same.例文帳に追加

パターンデータ記憶部３０１に記憶されている判定用パターンのデータは、各細幅パターンの静電潜像の形成において光ビームＬＢを照射する光偏向面４３が同じとなるデータを含む。 - 特許庁

The recording device includes a beam deflection section for relatively moving an irradiation position of the exposure beam with respect to a substrate; a substrate velocity adjustment section for adjusting a moving velocity of the substrate according to roughness and fineness of the latent pattern; and a deflection control section for controlling to change a deflection velocity of the exposure beam during formation of the latent pattern according to the moving velocity of the substrate.例文帳に追加

基板に対して相対的に露光ビームの照射位置を移動させて潜像パターンの記録を行なうビーム偏向部と、潜像パターンの疎密に応じて基板の移動速度を調整する基板速度調整部と、潜像パターンの形成時における露光ビームの偏向速度を基板の移動速度に対応させて変化させる制御をなす偏向制御部と、を有する。 - 特許庁

A dummy pattern is formed in a thin pattern region on a mask by utilizing phase contrast to impart the same shape as the shape of light diffracted by a dense pattern to light diffracted by the thin pattern, thereby reducing the thin-dense deflection of an element pattern formed on a wafer.例文帳に追加

マスク上の疎らなパターン領域に位相差を利用してダミーパターンを形成して、疎らなパターンの回折光を密なパターンの回折光と同じ形にすることによって、ウェーハ上に形成される素子パターンの疎密偏差を低減する。 - 特許庁

To solve the problem wherein image face curvature, pattern slippage, distortion and defocus in a pattern face are worsened and pattern accuracy on a wafer is worsened due to self weight deflection of a reticle itself, face distortion and exposure thermal distortion when the reticle is clamped and a pattern on the reticle face is projected.例文帳に追加

レチクルをクランプし、レチクル面上のパターンをウエハ上に投影する際に、レチクル自身の自重タワミおよび面歪みおよび露光熱歪みにより、像面湾曲、パターン横ずれ、ディストーション、パターン面内デフォーカスが悪化し、ウエハ上パターン精度が悪化する問題を無くする。 - 特許庁

Time clock is simultaneously transmitted serially at prescribed time intervals from the timer 2 to the pattern memory 3 for deflection electromagnet current and the frequency pattern memory 4.例文帳に追加

タイマ２から偏向電磁石電流用パターンメモリ３と周波数用パターンメモリ４に同時に、タイムクロックが所定の時間間隔でシリアルに伝送される。 - 特許庁

When deflection of the imaging data is corrected by coding exposure processing, an opening/closing pattern generation part 429 detects the periodic change of the illuminance level of the photographing object, and outputs an opening/closing pattern of a shutter according to the periodic change.例文帳に追加

コード化露光処理により撮像データの振れを補正する際に、開閉パターン生成部429は、撮影対象の照度レベルの周期変化を検出し、周期変化に応じたシャッタの開閉パターンを出力する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method enhancing a shape control property of a pattern comprising a liquid drop by avoiding flight deflection of the liquid drop and clogging of a delivery port, and a liquid drop delivery apparatus.例文帳に追加

液滴の飛行曲がりや吐出口の目詰まりを回避して、液滴からなるパターンの形状制御性を向上したパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

The film-forming method makes the mask 20 closely contact with the substrate 10 by using the deflection due to the tare mass of the substrate 10 without using a permanent magnet or a pressing device, and can form a highly precise pattern without causing the deviation of the pattern.例文帳に追加

マグネットや押圧装置を用いることなく、基板１０の自重によるたわみを利用してマスク２０と基板１０を密着させ、パターンずれ等のない高精度なパターンを形成することができる。 - 特許庁

The convergence control part detects an angular error where the reference pattern is distorted by the earth magnetic field, based on the difference between the datum position of the reference pattern and the maximum brightness measurement position, and controls a deflection circuit so as to compensate the angular error in question.例文帳に追加

コンバージェンス制御部は基準パターンの標準位置と最大輝度測定位置との差に基づき基準パターンが地磁界により歪んだ角誤差を検出し、該角誤差が補償されるよう偏向回路を制御する。 - 特許庁