「deposition temperature」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for producing a metal-containing film in which film deposition under low temperature conditions is excellent, and capable of stable film deposition, and also capable of depositing a thin film enough in step coverage.例文帳に追加

低温条件での成膜に優れ、安定した成膜が可能であり、かつ段差被覆性に富んだ薄膜を形成することができる。 - 特許庁

To provide an ECR (Electron Cyclotron Resonance)sputtering system capable of performing the film deposition sputtering on a substrate to which the low-temperature film deposition is requested.例文帳に追加

低温成膜が要求される基板に対して、成膜スパッタリングを可能とするＥＣＲスパッタ装置を提供する。 - 特許庁

In the deposition-preventive plate for vacuum thin film deposition device, a nonmetallic stock having flexibility and having a heat resistant temperature of ≥700°C is used.例文帳に追加

柔軟な可撓性を有し且耐熱温度が７００℃以上である非金属素材を使ったことを特徴とする真空薄膜形成装置用防着板。 - 特許庁

This dielectric film deposition system has a heating source capable of preheating the inside of a chamber where the deposition is performed to a prescribed temperature.例文帳に追加

本発明の誘電体膜成膜装置は、成膜を行うチャンバー内を所定温度に予備加熱可能な加熱源を備えたものである。 - 特許庁

To provide a film deposition system capable of suppressing generation of wrinkles of a base sheet attributable to the thermal expansion caused by the temperature rising during the film deposition.例文帳に追加

成膜時の温度上昇による熱膨張に起因する基材シートのしわの発生を抑制しうる成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus and a film deposition method, sufficiently suppressing the temperature rise of a flow straightening plate.例文帳に追加

整流板の温度上昇を十分に抑制することのできる成膜装置および成膜方法を提供する。 - 特許庁

The vapor phase deposition device uses the temperature sensing element hereinbefore as a temperature sensing element for measuring a temperature of a susceptor.例文帳に追加

また、気相成長装置は、サセプタの温度を測定する測温体として、上記測温体を用いたものである。 - 特許庁

In this regard, the wafer is not carried in under high temperature conditions at the time of film deposition but carried in under conditions where the temperature is lowered by 35-45% as compared with high temperature conditions at the time of film deposition.例文帳に追加

その際、成膜時の高温状況下での搬入はせずに、成膜時の高温状態に比較して３５〜４５％温度を下げた状態でのウェハの搬入が行われる。 - 特許庁

Even when film-deposition temperature at the time of deposition reaches nearly 200°C, generation of wrinkles on the surface of the substrate 24 can be suppressed since the glass transition temperature is sufficiently higher than the heated temperature of the substrate 24.例文帳に追加

蒸着時の成膜温度が２００℃前後に達しても基板２４の加熱温度よりも、ガラス転移温度が十分に高いので基板２４の表面に生ずる皺の発生を抑制できる。 - 特許庁

To obtain a film quality equivalent to that when the process temperature is high even when the process temperature is low while allowing high speed and low temperature in a film deposition process, in the ALD deposition process utilizing plasma.例文帳に追加

プラズマを利用して行うＡＬＤ成膜処理につき、成膜プロセスの高速化と低温化とを両立させつつ、プロセス温度が低温の場合でも高温の場合と同等の膜質が得られるようにする。 - 特許庁

The method for producing the silicon film is a method of vapor-depositing the silicon film on a substrate by using a vapor-deposition source formed of Si or the Si compound, and includes controlling a temperature of the vapor-deposition source to 1,700 K or higher, and controlling a temperature of the substrate so as to be lower than the temperature of the vapor-deposition source by 700 K or more.例文帳に追加

ＳｉまたはＳｉ化合物からなる蒸着源を用いてシリコン膜を基板に蒸着するシリコン膜の製造方法であって、蒸着源の温度を１７００Ｋ以上とし、基板温度を蒸着源の温度より７００Ｋ以上低くすることを特徴とするシリコン膜の製造方法。 - 特許庁

According to this susceptor, temperature distribution of the substrate during the deposition step can be improved.例文帳に追加

このサセプタによれば、成膜工程時における基板の温度分布を改善することができる。 - 特許庁

THERMOCHEMICAL VAPOR PHASE VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND LOW-TEMPERATURE SYNTHESIS OF CARBON NANOTUBE USING THE SAME例文帳に追加

熱化学気相蒸着装置及びこれを用いたカーボンナノチューブの低温合成方法 - 特許庁

AUSTENITIC STAINLESS STEEL FOIL FOR VAPOR DEPOSITION SUBSTRATE OF HIGH-TEMPERATURE SUPERCONDUCTING MATERIAL AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

高温超伝導材料の蒸着基板用オーステナイト系ステンレス鋼箔とその製造方法 - 特許庁

To reduce the content of chlorine in a nitride film without increasing the film deposition temperature.例文帳に追加

成膜温度を増加させることなく、窒化膜中の塩素含有量を低減する。 - 特許庁

To provide a vacuum film depositing system capable of performing film deposition at a low temperature and high in productivity.例文帳に追加

低温で成膜が可能でかつ生産性の高い真空成膜装置を提供する。 - 特許庁

DEPOSITION OF AMORPHOUS SILICON FILM BY HIGH-DENSITY PLASMA HDP-CVD AT LOW TEMPERATURE例文帳に追加

低温での高密度プラズマＨＤＰ−ＣＶＤによるアモルファスシリコン膜の堆積 - 特許庁

To manufacture a synthetic gas while reaction at high temperature and carbon deposition are kept under control.例文帳に追加

高温での反応および炭素析出を抑制しつつ、合成ガスを製造する。 - 特許庁

To improve the etching resistance of a silicon nitride film formed by low-temperature atomic layer deposition.例文帳に追加

低温ＡＬＤ法で形成された窒化珪素膜のエッチング耐性を向上させる。 - 特許庁

To form a low loss dielectric thin film by normal temperature deposition and lift-off method.例文帳に追加

低損失誘電体薄膜を常温蒸着とリフトオフ法により形成できるようにする。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor deposition device for stably controlling a temperature of a substrate on which a film is formed.例文帳に追加

膜を形成する基板の温度制御を安定して行なう真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

A substrate 34 passed through the vapor deposition and crystallization acceleration step is annealed under predetermined temperature conditions.例文帳に追加

蒸着・結晶化促進工程を経た基板３４は、所定の温度条件下においてアニールされる。 - 特許庁

To secure uniformity in deposition by facilitating temperature control in a furnace in a CVD device.例文帳に追加

ＣＶＤ装置における炉内の温度制御を容易にして成膜の均一性を確保する。 - 特許庁

Generally, when a crystal deposits, the temperature difference changes, and the degree of deposition can be detected by the change.例文帳に追加

一般に、晶析物が付着すれば、その温度差が変化し、その変化でもって、付着度合を検出する。 - 特許庁

To provide a thermophoretic deposition apparatus of particulates using a tube bundle heat exchanger of constant temperature gradient.例文帳に追加

定温度勾配チューブバンドル型熱交換器による微粒子熱泳動沈降器を提供する。 - 特許庁

The shutter material having a radiation ratio of 0.70 or above at a film-deposition temperature is used.例文帳に追加

シャッター材料は、成膜温度における放射率が０．７０以上のものを用いる。 - 特許庁

The temperature T_L of the reaction liquid L of the chemical bath deposition process is equal to or higher than 70°C.例文帳に追加

化学浴析出法の反応液Ｌの温度Ｔ_Ｌは７０℃以上である。 - 特許庁

The ceramics is amorphously formed as a film by executing the deposition at a relatively low temperature.例文帳に追加

蒸着を比較的低温で行うことにより、セラミックスはアモルファス状で成膜させる。 - 特許庁

After an amorphous layer is formed by low temperature deposition, an opening is formed by etching.例文帳に追加

低温堆積により非結晶層を形成した後、エッチングにより開口部を設ける。 - 特許庁

To provide a vaporizer enabling the low-temperature vaporization of a liquid raw material to be supplied for film deposition in a CVD apparatus.例文帳に追加

CVD装置での成膜に供する液体原料を低温度で気化できる気化器を提供する。 - 特許庁

The deposition of the dielectric mask film 17 is made at substrate temperature of 200 degrees C or above.例文帳に追加

誘電体マスク膜１７の堆積は摂氏２００度以上の基板温度において行われる。 - 特許庁

A low cost H_2 with high thermal conductivity is introduced into a deposition chamber, and a temperature rises.例文帳に追加

製膜室に安価で熱伝導率の高いＨ_２を導入して昇温する。 - 特許庁

METHOD OF DEPOSITING SILICON OXIDE FILM BY PLASMA ENHANCED ATOMIC LAYER DEPOSITION AT LOW TEMPERATURE例文帳に追加

低温でプラズマ励起原子膜の成膜によりシリコン酸化膜を成膜する方法 - 特許庁

The thin film 2 is grown by using pulsed laser deposition at room temperature and is annealed in atmosphere.例文帳に追加

薄膜２は、パルスレーザ堆積法を用いて室温下で成長させ、大気中でアニールする。 - 特許庁

The cooling temperature of the substrate during deposition is preferably set in the range from -120°C to -20°C.例文帳に追加

また、成膜時の基板冷却温度は、−１２０℃〜−２０℃の範囲であることが好ましい。 - 特許庁

To provide a silicon nitride film which has a high barrier property, transparency and an excellent adhesion property and a manufacturing method for high-speed deposition at a low temperature.例文帳に追加

バリア性が高く、透明で密着性に優れた窒化シリコン膜を、低温で高速成膜する。 - 特許庁

To provide an atomic layer deposition (ALD) process for forming a silicon dioxide thin film at low temperature.例文帳に追加

低温で二酸化ケイ素の薄膜を形成するための原子層堆積（ＡＬＤ）プロセスが提供される。 - 特許庁

The cold and hot gases from the vortex tube are adapted to control the temperature of the deposition device.例文帳に追加

渦巻管からの低温ガス及び高温ガスは、塗布装置の温度を制御する。 - 特許庁

To prevent the deterioration, etc., by a temperature rise of a substrate during deposition by enhancing the performance of cooling the substrate.例文帳に追加

基体に対する冷却性能を高めて、成膜時の基体の温度上昇による劣化等を防止する。 - 特許庁

The coloring matter has a high decomposition temperature, which is advantageous in various kinds of baking processes and vapor deposition processes.例文帳に追加

また分解温度が高いため、各種ベークプロセスや真空蒸着プロセスにおいて有利である。 - 特許庁

The deposition of the dielectric mask film 17 is made at temperature of 300 degrees C or below.例文帳に追加

誘電体マスク膜１７の堆積は摂氏３００度以下の温度において行われる。 - 特許庁

To increase an ash deposition allowance amount and to suppress an excessive rise of a temperature at an exhaust gas downstream side part.例文帳に追加

アッシュ堆積許容量を増大させるとともに、排ガス下流側部位の過昇温を抑制する。 - 特許庁

The problem is solved by investigating the pretreatment method for a mica substrate and the conditions such as degree of vacuum, vapor deposition temperature, vapor deposition rate, and film thickness in the vacuum deposition method.例文帳に追加

真空蒸着法において、雲母基板の前処理方法および蒸着の際の真空度、蒸着温度、蒸着速度、膜厚等の条件を検討することにより、上記課題を解決した。 - 特許庁

To provide a film deposition method and a film deposition apparatus capable of executing the film deposition of a metallic film containing less impurities at low temperature and with excellent step coverage.例文帳に追加

不純物が少ない金属膜を低温でかつ良好なステップカバレッジで成膜することができる成膜方法および成膜装置を提供すること。 - 特許庁

The dielectric film deposition method to the optical fiber end face comprises starting deposition after preheating the inside of a hermetic space where the deposition to the fiber end face is performed to a prescribed temperature.例文帳に追加

本発明の光ファイバ端面への誘電体膜成膜方法は、ファイバ端面への成膜が行われる密閉空間内を所定温度に予備加熱してから成膜を開始するものである。 - 特許庁