「dielectric method」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method capable of inexpensively manufacturing a low dielectric wiring board.例文帳に追加

安価に製造することのできる低誘電配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma display panel using the improved method for forming a stepped dielectric by differentiating the thickness of an upper-plate dielectric at each part, and its manufacturing method.例文帳に追加

上板誘電体の厚さを各部分ごとに異なる段差誘電体の形成方法を改善し、、これを用いたプラズマディスプレイパネル及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

DIELECTRIC LAYER FORMING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD FOR PLASMA DISPLAY PANEL USING IT例文帳に追加

誘電体層の形成装置及びそれを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR EVAPORATING METAL GATE ON HIGH-K DIELECTRIC FILM, METHOD FOR IMPROVING INTERFACE BETWEEN HIGH-K DIELECTRIC FILM AND METAL GATE, AND SUBSTRATE TREATMENT SYSTEM例文帳に追加

ｈｉｇｈ−Ｋ誘電膜上に金属ゲートを蒸着する方法及び、ｈｉｇｈ−Ｋ誘電膜と金属ゲートとの界面を向上させる方法、並びに、基板処理システム - 特許庁

FERROELECTRIC FILM AND ITS MANUFACTURING METHOD, DIELECTRIC ELEMENT, AND LIQUID DISCHARGE APPARATUS例文帳に追加

強誘電体膜とその製造方法、強誘電体素子、及び液体吐出装置 - 特許庁

The metal can be deposited on the dielectric through its catalyst effect by an electroless method.例文帳に追加

金属を、無電解方法によって誘電体上に堆積させることができる。 - 特許庁

To provide a dielectric waveguide in a complicated shape and a method of creating the same.例文帳に追加

複雑な形状の誘電体導波路およびその作成方法を提供する。 - 特許庁

SILICON-POLYMER DIELECTRIC FILM ON SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND METHOD FOR FORMING THE FILM例文帳に追加

半導体基板上のシリコン重合体絶縁膜及び膜を形成する方法 - 特許庁

HIGH DIELECTRIC CAPACITOR, MANUFACTURING METHOD THEREFOR AND SEMICONDUCTOR STORAGE DEVICE例文帳に追加

高誘電体キャパシタ、高誘電体キャパシタの製造方法、及び、半導体記憶装置 - 特許庁

SHEET TYPE DIELECTRIC MATERIAL AND MANUFACTURING METHOD FOR PLASMA DISPLAY PANEL USING THE SAME例文帳に追加

シート状誘電体材料およびそれを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法 - 特許庁

DIELECTRIC LAYER OF NANO-COMPOSITE, CAPACITOR HAVING THE SAME, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

ナノ複合体の誘電膜、その誘電膜を有するキャパシタ及びその製造方法 - 特許庁

LENS ANTENNA EMPLOYING COMPOSITE DIELECTRIC LENS AND ITS FOCAL LENGTH ADJUSTING METHOD例文帳に追加

複合誘電体レンズを用いたレンズアンテナおよびその焦点距離調整方法 - 特許庁

To provide a plasma display panel, a manufacturing method of an electrode embedded dielectric wall for display panels, and a manufacturing method of the electrode embedded dielectric wall for the plasma display panel.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルと、ディスプレイパネル用電極埋め込み誘電体壁の製造方法と、該プラズマディスプレイパネル用電極埋め込み誘電体壁の製造方法とを提供する。 - 特許庁

SURFACE-EMITTING SEMICONDUCTOR LASER HAVING DIELECTRIC DBR MIRROR AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

誘電体ＤＢＲミラーを有する面発光半導体レーザおよびその製造方法 - 特許庁

DIELECTRIC MULTILAYER SUBSTRATE, RESONATOR, AND FREQUENCY-ADJUSTING METHOD FOR RESONATOR例文帳に追加

誘電体多層基板および共振器および共振器の周波数調整方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING Ta2O5 CAPACITOR USING Ta2O5 THIN FILM AS DIELECTRIC FILM例文帳に追加

誘電体膜としてＴａ２Ｏ５薄膜を用いるＴａ２Ｏ５キャパシターの製造方法 - 特許庁

To provide a dielectric ceramic having a high dielectric constant, good temperature characteristics and high reliability and a method for producing the same, with respect to a BaTiO_3-based dielectric material used for a multilayer ceramic capacitor, and to provide a ceramic powder suitable for the dielectric ceramic and a method for producing the same.例文帳に追加

積層セラミックコンデンサに用いられるＢａＴｉＯ_3系誘電体材料に関し、誘電率が高く、温度特性が良好で、かつ信頼性の高い、誘電体セラミックおよびその製造方法、ならびに、上述の誘電体セラミックに適したセラミック粉末およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a {100} oriented or uniaxially oriented dielectric layer, or a (001) epitaxial film dielectric layer, deposited on a generally applicable substrate, to provide a method of producing the dielectric layers, and to provide a dielectric member or a piezoelectric member produced by the method, an inkjet head, and an inkjet recording device.例文帳に追加

汎用基板上に｛１００｝配向あるいは一軸配向の誘電層あるいは（００１）エピタキシャル膜の誘電層およびそれらの誘電層を成膜する事が出来る製造方法およびそれから得られる誘電体あるいは圧電体、インクジェットヘッド、インクジェット記録装置を提供すること。 - 特許庁

Alternatively, the film-forming method comprises the steps of: forming the first dielectric film (PZT thin film 3a) with high orientation on the substrate 1; and forming the second dielectric film (PZT film 5a) with the high orientation inherited from the first dielectric film on the first dielectric film, by the method of spraying the fine particles.例文帳に追加

又は、基板１上に、高配向な第一の誘電体膜（ＰＺＴ薄膜３ａ）を形成した後、前記第一の誘電体膜上に、当該第一の誘電体膜の配向を引き継いだ高配向な第二の誘電体膜（ＰＺＴ膜５ａ）を微粒子吹き付け法によって形成する。 - 特許庁

A dielectric film deposition method is used as a means for solving the problems, characterized in that anti-oxidation films to prevent the oxidation and diffusion of a lower electrode are inserted and deposited in the interface of the substrate and dielectric film, and the interfaces of the dielectric films, in a method of depositing the dielectric film on a substrate.例文帳に追加

基板上に誘電膜を蒸着する方法において、基板と誘電膜の界面と、誘電膜間の界面とに下部電極の酸化及び拡散を防止する酸化防止膜を挿入して蒸着することを特徴とする誘電膜蒸着法を課題の解決手段とする。 - 特許庁

To provide an oxide dielectric having high Q value, high dielectric constant and excellent stability to temperature by reducing the quantity of impurity in a TiO_2-ZrO_2-SnO_2-based oxide dielectric, and a method of manufacturing the oxide dielectric at a low cost.例文帳に追加

ＴｉＯ_２−ＺｒＯ_２−ＳｎＯ_２系の酸化物誘電体の不純物を低減することで、Ｑ値、誘電率、温度安定性が高い酸化物誘電体を提供することと、該酸化物誘電体を、低コストで得る製造方法を提供すること - 特許庁

To provide a method and an apparatus for uniformly depositing a silicon oxide layer having a low dielectric constant for use as a gap fill layer, a pre-metal dielectric layer, an inter-metal dielectric layer, a shallow trench isolation dielectric layer, etc., in sub-micron devices.例文帳に追加

サブミクロン素子におけるギャップ充填層、プリメタル誘電体層、インターメタル誘電体層、浅いトレンチ分離誘電体層等として使用するための低誘電率を有する酸化珪素層を均一に堆積するための方法と装置とを提供する。 - 特許庁

To provide a precursor composition of a low dielectric constant film used for manufacturing a low dielectric constant film that is suppressed in degradation of hydrophobic properties even through being irradiated with UV and is suppressed in increase of a dielectric constant, and a method for manufacturing the low dielectric constant film.例文帳に追加

紫外線が照射されても疎水性の低下が抑えられ、誘電率の上昇が抑制された低誘電率膜を製造するための低誘電率膜の前駆体組成物、及び、低誘電率膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dielectric ceramic having a high moisture resistance, a method for manufacturing the same and a multilayer ceramic capacitor using the dielectric ceramic.例文帳に追加

耐湿性の高い誘電体セラミックおよびその製造方法ならびにその誘電体セラミックを用いた積層セラミックコンデンサを提供する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF CRYSTALLINE DIELECTRIC THIN FILM, CRYSTALLINE DIELECTRIC THIN FILM MANUFACTURED BY SAME, AND THIN-FILM CAPACITOR HAVING SAME例文帳に追加

結晶質誘電体薄膜の製造方法およびそれにより製造された結晶質誘電体薄膜並びにこれを具備する薄膜キャパシタ - 特許庁

To provide a composition for forming a porous dielectric film and a method for forming a porous dielectric film or its pattern using the same.例文帳に追加

多孔性絶縁膜を形成するための組成物及びこれを用いた多孔性絶縁膜またはそのパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a dielectric film capable of forming the dielectric film with high productivity and suppressing deterioration of the performance of a device (film quality) performance.例文帳に追加

生産性高く形成できるとともに、デバイス（膜質）性能の劣化を抑えることができる誘電体膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

CAPACITIVE AND RESISTIVE DEVICE, HIGH DIELECTRIC CONSTANT ORGANIC DIELECTRIC LAMINATE, PRINTED WIRING BOARD INCORPORATED WITH THESE DEVICES, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

容量性／抵抗性デバイス、高誘電率有機誘電ラミネート、およびそのようなデバイスを組み込むプリント配線板、ならびにその作製の方法 - 特許庁

Based on the parameter, a transmission property index U^* related to the dielectric action is calculated by a finite element method in a dielectric U^* calculation means 3.例文帳に追加

パラメータに基づいて、誘電作用に関する伝達特性指標Ｕ^*を、誘電Ｕ^*計算手段３で有限要素法により計算する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a dielectric multilayer film filter with improved wavelength selectivity and to provide a manufacturing device for a dielectric multilayer film filter.例文帳に追加

波長の選択性を向上させた誘電体多層膜フィルタの製造方法および誘電多層膜フィルタの製造装置を提供する。 - 特許庁

INORGANIC POWDER-CONTAINING RESIN COMPOSITION, FILM-FORMING MATERIAL LAYER, TRANSFER SHEET, METHOD FOR MANUFACTURING DIELECTRIC LAYER-FORMING SUBSTRATE AND THE DIELECTRIC LAYER FORMING SUBSTRATE例文帳に追加

無機粉体含有樹脂組成物、膜形成材料層、転写シート、誘電体層形成基板の製造方法、及び誘電体層形成基板 - 特許庁

A method for attaching the dielectric film showing the low dielectric constant to the semiconductor and/or the integrated circuit is provided by chemical vapor deposition (CVD).例文帳に追加

化学蒸着(CVD)により半導体及び／又は集積回路に低誘電率を示す誘電性フィルムを付着する方法が提供される。 - 特許庁

PRODUCTION METHOD OF LOW DIELECTRIC CONSTANT MATERIAL, LOW DIELECTRIC CONSTANT MATERIAL, AND INSULATING FILM AND SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE MATERIAL例文帳に追加

低誘電率材料の製造方法および低誘電率材料、並びにこの低誘電率材料を用いた絶縁膜および半導体装置 - 特許庁

FORMING METHOD OF LOW DIELECTRIC CONSTANT INSULATING FILM FOR SEMICONDUCTOR DEVICE, AND SEMICONDUCTOR DEVICE AND LOW DIELECTRIC CONSTANT INSULATING FILM FORMING DEVICE BY MEANS THEREOF例文帳に追加

半導体装置の低誘電率絶縁膜形成方法、その方法を用いた半導体装置および低誘電率絶縁膜形成装置 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a dielectric film with small leak current and high dielectric constant which is suitable for larger capacity of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の大容量化に適したリーク電流が少なく、かつ高い誘電率を有する誘電膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a tantalum nitride oxide film as a novel dielectric film with superior high dielectric film characteristics and stability.例文帳に追加

優れた高誘電体膜特性と安定性を有する新しい誘電体膜としてのタンタル窒化酸化膜を形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a piezoelectric element having a dielectric layer having excellent characteristics by suppressing deviation in the composition of a dielectric in the layer.例文帳に追加

層内で誘電体の組成の偏りが抑制され特性が良好な誘電体層を有する圧電素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device that forms a high dielectric insulation film having higher dielectric constant, and to provide a substrate processing apparatus.例文帳に追加

より高い誘電率を有する高誘電率絶縁膜を形成する半導体装置の製造方法及び基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a dielectric film by which it is suppressed that the dielectric film at the end part of a base material is made thick even when the dielectric film is formed on the surface of the base material by a method using electrophoresis.例文帳に追加

電気泳動法を利用した方法により基材の表面上に誘電体膜を形成した場合でも基材端部における誘電体膜の厚膜化を抑制することができる誘電体膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a highly dielectric elastomer composition compounded with highly dielectric ceramic powder containing Li as a constituting element and obtained by a combustion synthesis method at a low cost, by which the specific dielectric constant of the composition can be improved.例文帳に追加

燃焼合成により低コストで得られるＬｉを構成元素として含む高誘電性セラミックス粉末を配合した高誘電性エラストマー組成物において、その比誘電率を向上させ得る製造方法を提供する。 - 特許庁

The dielectric layer 5 can be formed by introducing a III-group raw material gas in the epitaxial furnace and laminating an AIN dielectric layer by the MOCVD method while introducing an oxide raw material and in addition to the formation of the dielectric layer, the dielectric layer 5 can be formed using a dielectric limitlessly as far as it can be grown by the MOCVD method.例文帳に追加

誘電体層５は、エピタキシャル成長炉内に３族原料ガスを導入し、酸素原料を導入しながらＭＯＣＶＤ法によりＡｌＮ誘電体層を積層して誘電体層５とするほか、ＭＯＣＶＤ法にて成長できる誘電体であれば制限無く使用して、誘電体層５を形成することができる。 - 特許庁

When a dielectric thin film is formed on a substrate by a chemical vapor growth method, a method of manufacturing a semiconductor device comprises the process for depositing a part of the dielectric thin film on the substrate, the process for heat-treating this dielectric thin film and moreover, the process for depositing the dielectric thin film at a deposition rate higher than that of the dielectric thin film.例文帳に追加

基板上に、化学気相成長法により誘電体薄膜を形成するときに、基板上に誘電体薄膜の一部を堆積する工程と、この誘電体薄膜を熱処理する工程と、さらに上記誘電体薄膜の堆積速度より速い堆積速度で、誘電体薄膜の堆積を行う工程を含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing wiring board including a built-in capacitor for improving accuracy of capacitor capacitance by reducing variation in film thickness of a dielectric material, and enabling high dielectric constant and highly sophisticated functions of the dielectric material.例文帳に追加

誘電体の膜厚のバラツキを低減しキャパシタ容量の精度を向上し、誘電体の高誘電率化や高機能化を可能とするキャパシタ内蔵プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a dielectric ceramic thick film having satisfactory dielectric properties without performing heat treatment at the time of forming a dielectric ceramic thick film on a substrate made of metal or the like by an aerosol gas deposition process.例文帳に追加

エアロゾルガスデポジション法により、金属などの基板上へ圧電セラミック厚膜を形成し、熱処理なしに良好な圧電特性を有する圧電セラミック厚膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a forming method of a dielectric substrate in which contactness between a side wall and a dielectric in a via hole is excellent and contactness between one surface and the other surface of a dielectric substrate can be maintained.例文帳に追加

ビアホール内でその側壁と導電体との密着性が良く、誘電体基板の一方の面と他方の面の気密性を保つことができる誘電体基板の形成方法を提供する。 - 特許庁