「dielectric method」に関連した英語例文の一覧と使い方(83ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a broadband DC component eliminating circuit wherein a high frequency capacitor and a low frequency capacitor are connected in parallel between board patterns opposed to each other with an interval on a dielectric board and a structure realizing ease of mount is realized by decreasing a connection length of metallic conductors such as a gold ribbon and a gold wire incurring deterioration in the high frequency characteristic and to provide an assembling method therefor.例文帳に追加

誘電体基板上で間隔を置いて向き合った基板パターン間に、高周波用コンデンサと低周波用コンデンサを並列に接続した広帯域直流成分除去回路及びその組立方法において、高周波特性の劣化を招く金リボンや金ワイヤーなどの金属導体の接続長を短縮して、実装が容易な構造を実現する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition suitable for electronic components of an integrated circuit device, a liquid crystal display, a solid-state image sensor, etc., and giving a resin film excellent in sensitivity to radiation and excellent also in light resistance and dielectric characteristics, and to provide a laminate obtained by forming a resin film using the radiation sensitive composition on a substrate and a method for manufacturing the laminate.例文帳に追加

放射線に対する感度に優れ、耐光性にも優れ、更に誘電特性にも優れた樹脂膜を与える、集積回路素子、液晶表示素子、固体撮像素子等の電子部品に好適な感放射線組成物、この感放射線組成物を用いてなる樹脂膜を基板上に形成した積層体、及びこの積層体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the group III nitride compound semiconductor light-emitting element includes a first process for forming a dielectric film on a SiC substrate or the group III nitride compound semiconductor in a pattern shape and a second process for causing the group III nitride semiconductor layer to selectively grow on the SiC substrate or the group III nitride compound semiconductor by an organic metal chemical vapor growth method, after a reactor is substituted for hydrogen atmosphere.例文帳に追加

本発明のＩＩＩ族窒化物系半化合物半導体発光素子の製造方法は、ＳｉＣ基板上またはＩＩＩ族窒化物系化合物半導体上に誘電体膜をパターン状に形成する第１工程と、リアクターを水素雰囲気に置換した後、有機金属化学的気相成長法により上記ＳｉＣ基板または上記ＩＩＩ族窒化物系化合物半導体の上にＩＩＩ族窒化物系半導体層を選択成長する第２工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

In a method for manufacturing solid electrolytic capacitor in which a conductive polyaniline layer 6 is laminated upon a dielectric coating film 4 after the film 4 is formed on a valve-action metal, the conductive polyaniline layer 6 is laminated upon the film 4 after at least either one 5 of an aniline derivative and an aniline dimer is deposited on the surface of the coating film 4.例文帳に追加

弁作用金属に誘電体皮膜４を形成した後に導電性ポリアニリン層６を積層する固体電解コンデンサ１３の製造方法において、誘電体皮膜４の表面にアニリンの誘導体又はアニリンの二量体のうち少なくともどちらか一方の物質５を付着した後に導電性ポリアニリン層６を積層することを特徴とする固体電解コンデンサ１３の製造方法。 - 特許庁

A method of forming a high dielectric film by means of semiconductor process equipment comprises the steps of positioning a semiconductor substrate in a chamber in the process equipment, forming a tantalum component containing film on the substrate, and converting the tantalum component containing film into a tantalum nitride oxide film by processing it in the reaction gas.例文帳に追加

本発明の高誘電体膜形成方法は、半導体工程装備で高誘電体膜を形成する方法において、前記工程装備の反応器内に半導体基板を位置させる段階と、前記半導体基板の上部にタンタル成分含有膜を形成する段階と、前記タンタル成分含有膜を反応気体内で処理してタンタル窒化酸化膜に変換させる段階とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

In the method of manufacturing a metal member, a metal material containing aluminum as a main component is anodized in an anodization solution having a pH of 4 to 10 and containing a nonaqueous solvent having a dielectric constant smaller than that of water and capable of dissolving water, thereby forming a nonporous amorphous aluminum oxide passivation film on a surface of the metal member.例文帳に追加

アルミニウムを主成分とする金属材料を誘電率が水よりも小さくかつ水を溶解する非水溶媒を含むｐＨ４〜１０の化成液中で陽極酸化して金属材料の表面に無孔性非晶質膜アルミニウム酸化物不動態膜を形成する金属部材の製造方法であって、化成液の粘度を制御する工程を有することを特徴とする金属部材の製造方法。 - 特許庁

The processing method for introducing a raw process gas inbetween a pair of electrodes, of which the opposing surface of at least one electrode is coated with a solid dielectric, and processing a substrate to be treated with the plasma provided by means of applying an electric field inbetween the electrodes, is characterized by introducing the raw process gas between the electrodes, through at least two flow-rate control units arranged in parallel.例文帳に追加

少なくとも一方の電極対向面を固体誘電体で被覆した一対の電極間に原料処理ガスを導入し、電極間に電界を印加することにより得られるプラズマで被処理基材を処理する方法であって、原料処理ガスの電極間への導入を並列にした少なくとも２つの流量制御装置を介して行うことを特徴とする放電プラズマ処理方法及びその装置。 - 特許庁

The method of manufacturing the solid electrolytic capacitor includes steps of: forming a dielectric film on the roughened surface of a positive electrode; fabricating a capacitor element by winding the positive electrode and a negative electrode via a separator; dipping the capacitor element in a substance where conductive polymeric particles are dispersed and then vibrating the substance; and drying up the substance attaching to the capacitor element.例文帳に追加

粗面化された陽極部表面に誘電体皮膜を形成する工程と、前記陽極部と陰極部をセパレータを介して巻回してコンデンサ素子を作製する工程と、前記コンデンサ素子を導電性高分子粒子が分散した分散体に浸漬し、該分散体を振動させる工程と、コンデンサ素子に付着した分散体を乾燥する工程と、を含んでいる固体電解コンデンサの製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method includes a process of forming a film-forming material layer by coating a paste composition containing an acrylic ester system resin and a solvent on a support film, transferring the film-forming material layer formed on the support film onto the surface of a glass substrate with electrodes fixed, and forming a dielectric layer on the surface of the glass substrate by baking the film-forming material layer transferred.例文帳に追加

ガラス粉末、アクリル酸エステル系樹脂及び溶剤を含有するペースト状組成物を支持フィルム上に塗布して膜形成材料層を形成し、支持フィルム上に形成された膜形成材料層を、電極が固定されたガラス基板の表面に転写し、転写された膜形成材料層を焼成することにより、前記ガラス基板の表面に誘電体層を形成する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a silane-modified polyimide siloxane resin which gives a cured film excellent in low dielectric constant, low water absorbing property and adhesion to metal foils, hardly suffering from shrinkage on curing and having no warpage while retaining high heat resistance and insulating properties inherent in polyimide resins, the resin, a resin composition, a cured film obtained by using the resin composition, and to provide a metal foil laminate.例文帳に追加

ポリイミド樹脂の本来の性能である高い耐熱性および絶縁性を保持し、かつ低誘電率、低吸水性、金属箔に対する密着性に優れるとともに、硬化収縮が極めて少なく反りのない硬化被膜を提供しうるシラン変性ポリイミドシロキサン樹脂の製造法、当該樹脂、当該樹脂組成物、当該樹脂組成物を用いて得られる硬化膜、および金属箔積層体を提供すること。 - 特許庁

In another embodiment, a method of manufacturing a transistor comprises steps of: a) providing an organic semiconductor layer adjacent to a gate electrode; b) providing an electrochemical cell in which the gate electrode is an electrode of the electrochemical cell; and c) applying a voltage to the gate electrode to cause an electrochemical reaction to form a gate dielectric between the gate electrode and the organic semiconductor layer.例文帳に追加

別の実施形態において、トランジスタを作製する方法は、：ａ）ゲート電極に隣接して有機半導体層を提供する工程；ｂ）電気化学的セルを提供する工程であって、ゲート電極が、電気化学的セルの１つの電極である、工程；ｃ）ゲート電極に電圧を印加して電気化学反応を起こし、ゲート誘電を、ゲート電極と有機半導体層との間に形成する工程、を包含する。 - 特許庁

In the manufacturing method of a plasma display panel comprising a front plate with electrodes and a dielectric layer formed on a glass substrate and a back plate, which are arranged to be opposed to each other, a plurality of layers of electrode paste are applied to defective parts in the pattern of the electrodes, thereby repairing the defective parts.例文帳に追加

上記目的を達成するため、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、ガラス基板上に電極および誘電体層を形成する前面板と、背面板とを、対向配置して形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記電極のパターンの欠陥部に対して、複数層の電極ペーストを塗布することによって補修することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。 - 特許庁

A method of manufacturing this antenna is selected from a group, including tuning a central signal frequency, by installing a conductive or dielectric object at a desired tuner position in the vicinity of the antenna; tuning a radiation direction or a pattern, by installing a conductive reflector at a desired reflector position in the vicinity of the antenna; and correcting a bandwidth by selecting a conductive patch or object as a radiation/detection element.例文帳に追加

アンテナ近傍の所望のチューナー位置に導電性または誘電性の物体を設置して中央信号周波数をチューニングすること、アンテナ近傍の所望の反射子位置に導電性の反射子を設置して放射方向またはパターンをチューニングすること、および放射／検出素子として導電性のパッチまたは物体を選択して帯域幅を修正することからなる群から選ばれるアンテナの製造方法。 - 特許庁

This method for producing the dielectric ceramic composition comprising barium titanate, a glass component and an additive component is characterized by using a barium titanate raw material in which a (111) plane diffraction peak is observed in an X-ray diffraction using Cu-Kα beam as the X-ray source, and the half-value width of the diffraction peak is controlled to be 0.2° or less.例文帳に追加

チタン酸バリウムと、ガラス成分と、添加物成分とを有する誘電体磁器組成物を製造する方法であって、Ｘ線源にＣｕ−Ｋα線を用いたＸ線回折において、（１１１）面の回折ピークが観察され、該回折ピークの半値幅が０．２°以下に制御されたチタン酸バリウム原料を用いて、前記誘電体磁器組成物を製造することを特徴とする誘電体磁器組成物の製造方法。 - 特許庁

Also, the liquid developer is prepared by dispersing toner particles dispersed with the colorant into a carrier liquid of a high resistance low dielectric constant of volume resistivity of ≥1x10^9 Ωcm and is used for an electrophotographic printing method for directly printing to a printed fabric and the liquid developer for electrophotographic printing containing the bronze powder or the aluminum powder as the colorant.例文帳に追加

また、体積抵抗１×１０^９Ω・ｃｍ以上の高抵抗低誘電率の担体液中に、着色剤を分散させたトナー粒子を分散させてなり、電子写真方式により捺染布に直接捺染する電子写真捺染法に用いる液体現像剤であって、該着色剤としてブロンズ粉又はアルミ粉を含有することを特徴とする電子写真捺染用液体現像剤。 - 特許庁

The deposition method contains a step where plural layers in which each layer is thinner than the final thickness of the film to be deposited are deposited by PECVD(plasma enhanced chemical vapor deposition) in a reactor to deposit a dielectric film; and a step where the above reactor is subjected to cleaning between deposition for one layer and deposition for the next layer.例文帳に追加

上記課題を解決するため、本発明は、反応器中でＰＥＣＶＤ（プラズマ促進化学蒸着）により、複数の層で、その各層がデポジットすべきフィルムの最終的厚さよりも薄い厚さを有する複数の層をデポジットすることにより誘電体フィルムを形成するステップ、及び、前記反応器を、一つの層のデポジションと次の層のデポジションの間でクリーニングするステップ、を含む、デポジション法を提供する。 - 特許庁

The method includes a recess forming process in which one main face 1a of a substrate 1 composed of a dielectric single crystal is etched to form recesses 4 in the substrate 1 and a through hole forming process in which the other face 1b of the substrate 1 is mechanically processed to form a slab 10, so that the recesses 4 pass through the substrate 1 to form through holes 11.例文帳に追加

誘電体単結晶からなる誘電体単結晶基板１の一方の主面１ａをエッチングすることによって、誘電体単結晶基板１に凹部４を形成する凹部形成工程、および 誘電体単結晶基板１の他方の主面１ｂを機械加工することによって、スラブ１０を形成し、かつ凹部４を貫通させて貫通孔１１を形成する貫通孔形成工程を有する。 - 特許庁

A sintered body 19 having dielectric strips 6 and 7 and wind parts 8 and 9 is obtained by forming resist material 13 with an opening 16 formed thereon on the outer surface of a green compact 14 provided with an elimination suppression layer 15, eliminating the prescribed part of the compact 14 with the material 13 as a mask by a sand blasting method until the layer 15 is exposed and firing and obtained structure 18.例文帳に追加

除去抑制層１５が設けられたグリーン成形体１４の外表面上に、開口１６が形成されたレジスト材１３を形成し、レジスト材１３をマスクとして、サンドブラスト法によって、除去抑制層１５が露出するまで、グリーン成形体１４の所定部分を除去し、得られた構造物１８を焼成して、誘電体ストリップ６，７およびウイング部８，９を有する焼結体１９を得る。 - 特許庁

This application provides this method for manufacturing a plasma display panel characterized by comprising steps of: forming a barrier rib material on a lower plate, on which address electrodes and a dielectric are provided; forming a black top material comprising a photosensitive material on the barrier rib material; patterning the black top material to form the black tops; and patterning the barrier rib material using the black tops to form the barrier ribs.例文帳に追加

アドレス電極と誘電体が備えられた下板上に隔壁材料を形成する段階と、前記隔壁材料上に、感光性材料を含むブラックトップ材料を形成する段階と、前記ブラックトップ材料をパターニングしブラックトップを形成する段階と、前記ブラックトップを用いて前記隔壁材料をパターニングする段階とを備えてなることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

In a method for drying lumber by dielectric heating wherein drying treatment is applied to lumber W charged in a drying furnace 2 by applying high frequency, environment for satisfying conditions suppressing discoloration of a surface and a surface crack of the lumber is generated in a drying furnace 2 as a drying environment-generating means for generating environment for drying the lumber, and drying treatment is applied under this environment.例文帳に追加

乾燥炉２に装填された木材Ｗに高周波を印加することによる誘電加熱で乾燥処理を施す木材の乾燥方法において、木材乾燥環境を生成させる乾燥環境生成手段に、木材の表面の変色および表面割れを抑制する条件を満たす環境を乾燥炉２内に生成させ、この環境下で乾燥処理を施すようにしている。 - 特許庁

In a first step of a step of forming a panel, a bus electrode forming material layer 13 is formed on a dielectric film 12 formed on a support film 11 by the ink jet method, and in a second step, the film 12 formed with the layer 13 is transferred to the surface of the substrate 1, and in a third step, the layer 13 and the film 12 are simultaneously baked.例文帳に追加

パネル形成工程の中の第１の工程で、支持フィルム１１上に形成された誘電体フィルム１２の上に、インクジェット法によりバス電極形成材料層１３を形成し、第２の工程で、バス電極形成材料層１３が形成された誘電体フィルム１２を基板１の表面に転写し、第３の工程で、バス電極形成材料層１３及び誘電体フィルム１２を同時焼成する。 - 特許庁

In the manufacturing method of a solid electrolytic capacitor where a dielectric oxide layer is set to an anode and a solid electrolyte layer is set to a cathode, a remaining heat in the range of 40-150°C is given to the capacitor element 1 where the solid electrolyte layer is formed by a hot plate 10, thus preventing electrical characteristics such as the decrease in capacitance and increase in equivalent series resistance(ESR).例文帳に追加

誘電体酸化皮膜を陽極とし、固体電解質層を陰極とした固体電解コンデンサの製造方法において、前記固体電解質層を形成したコンデンサ素子１に、ホットプレート１０により４０〜１５０℃の範囲から余熱を与えて、吸湿を抑制している間に組立てを行うことで、静電容量の減少と等価直列抵抗（ＥＳＲ）の増大等の電気的特性の劣化を防ぐ。 - 特許庁

The measuring method of the electromagnetic characteristics using a measuring system, equipped with the electromagnetic characteristics measuring tool, includes at least a process for imparting a signal having a fixed magnitude to the electromagnetic characteristics measurement tool, and measuring the magnitude of the output signal with respect to frequency; and a process for determining the resonance frequency and the Q-value, and determining the dielectric characteristic and magnetic permeability characteristics.例文帳に追加

前記電磁気特性測定治具を備えた測定システムを用いた電磁気特性の測定方法であって、前記電磁気特性測定治具に、一定の大きさの信号を与え、周波数に対する出力信号の大きさを測定する工程と、共振周波数とＱ値とを求め、誘電特性及び透磁特性を求める工程を少なくとも含むことを特徴とする電磁気特性の測定方法。 - 特許庁

In this method which electrically interconnects microstrip lines 9a and 9b by overlapping a minute electrode on the conductors of the microstrip lines 9a and 9b and pressing the minute electrode with an electrode support 6 made from dielectric, the effect of positional deviation of the minute electrode is reduced by using a rhombic minute electrode 8 instead of a rectangular minute electrode 7 as a minute electrode used for interconnection.例文帳に追加

マイクロストリップ線路９ａ、９ｂの導体上に微小電極を重ねて、該微小電極を誘電体からなる電極支え６により押し付けることで、マイクロストリップ線路９ａ、９ｂを電気的に相互接続する方法において、相互接続に用いる微小電極として、長方形の微小電極７ではなく、菱形の微小電極８を用いることにより、微小電極の位置ずれの影響を小さくする。 - 特許庁

This manufacturing method of a luminescent device includes a process for preparing a discharge container 1 having a discharge space 100 in its inside; a process for forming plural electrodes 40 with the respective circumferences covered with a dielectric 30; and a process for arranging the respective electrodes 40 in the discharge space 100, so as to separate parts other than parts 40a supported by the discharge container 1 from the discharge container 1.例文帳に追加

内部に放電空間１００を有する放電容器１を用意する工程と、それぞれの周囲が誘電体３０によって被覆された複数の電極４０を形成する工程と、放電容器１によって支持される部分４０ａ以外の部分を放電容器１から離すように、放電空間１００中に各電極４０を配列する工程とを包含する、発光デバイスの製造方法である。 - 特許庁

This method comprises steps of forming film forming material layer by applying a paste phase composition containing glass powder, acrylic acid eater resin and solvent on a support film, transcribing the film forming material layer forming on the support film onto an outer surface of a glass substrate to which electrodes are fixed, and forming a dielectric layer in the outer surface of the glass substrate by sintering the transcribed film forming material layer.例文帳に追加

ガラス粉末、アクリル酸エステル系樹脂及び溶剤を含有するペースト状組成物を支持フィルム上に塗布して膜形成材料層を形成し、支持フィルム上に形成された膜形成材料層を、電極が固定されたガラス基板の表面に転写し、転写された膜形成材料層を焼成することにより、前記ガラス基板の表面に誘電体層を形成する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

In an MIS(Metal Insulator Semiconductor) type semiconductor device by the manufacturing method of forming a mixed layer composed of Si and one or more kinds of metal elements, oxidizing the mixed layer, and forming a gate insulation film; a high capacity MIS transistor element with suppressed low dielectric constant SiO_2 formation is manufactured between an Si single crystal substrate and the gate insulation film.例文帳に追加

本発明は、ＭＩＳ（Ｍｅｔａｌ Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）型半導体装置において、Ｓｉと一種以上の金属元素からなる混合層を形成し、前記混合層を酸化処理しゲート絶縁膜を形成する製造方法により、Ｓｉ単結晶基板とゲート絶縁膜間に低誘電率なＳｉＯ_２形成を抑制した高容量なＭＩＳトランジスタ素子を作製することができるものである。 - 特許庁

This method is characterized by depositing a specified microbes a substrate by setting the substrate having electrodes capable of generating a nonuniform electric field into a liquid containing microbes applying AC voltage to the electrodes to generate a nonuniform electric field and making the dielectric constant of specified microbial cells larger than that of the medium.例文帳に追加

不均一電場を発生させることが可能な電極を設けた基板を、微生物を含む液中に配置させるとともに、前記電極に交流電圧を印加して前記液中に不均一電場を発生させ、特定の微生物細胞の誘電率を媒質の誘電率より大きくすることにより、前記特定微生物を選択的に基板上に付着させることを特徴とする微生物膜の作成方法。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a glass layer capable of forming a uniform glass layer on an electrode with high workability so as not to adversely influence a discharge characteristic without mixing bubbles in a part where copper contacts glass in baking even if a dielectric layer is formed on the electrode mainly containing copper; and to provide a front plate of a plasma display panel having an accurate and uniform glass layer on an electrode.例文帳に追加

銅を主体とした電極上に誘電体層を形成しても焼成時に銅とガラスの接触した部分に気泡が混入することなく放電特性に悪影響が生じないように電極上に均一なガラス層を作業性良く形成できるガラス層の製造方法を提供し、また、電極上に高精度で均一なガラス層を備えたプラズマディスプレイパネル用前面板を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition developable with an alkaline aqueous solution, having high sensitivity and capable of easily forming a patterned thin film excellent in various characteristics such as insulating property, flatness, heat and solvent resistances, a photosensitive resin composition capable of easily forming a patterned thin film excellent in low dielectric property as well as in the above various characteristics and a processing method for each of the compositions.例文帳に追加

アルカリ性水溶液で現像でき、高感度であり、しかも、絶縁性、平坦性、耐熱性、耐溶剤性等の諸特性の優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感光性樹脂組成物、更には、上記諸特性と同時に低誘電特性の優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感光性樹脂組成物及びその処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a polyarylene and/or a polyarylene ether which is useful as an interlayer insulating film in a semiconductor element, etc., has a low metal impurity content, excellent dielectric constant characteristics and low leakage current characteristics and has high industrial stability and to obtain a compound for film formation using the same.例文帳に追加

本発明は、上記要求を満たすためのポリアリーレン及び／またはポリアリーレンエーテルの製造方法およびそれを用いた膜形成用組成物に関し、さらに詳しくは、半導体素子などにおける層間絶縁膜として、金属不純物の含有量が少なく、比誘電率特性、低リーク電流特性に優れた膜形成用組成物、および工業的に安定性の高い製造方法および該組成物から得られる有機膜を提供することを目的とする。 - 特許庁

The manufacturing method of a semiconductor device having the gate insulation film comprises a base film forming process of forming the base film 1004 on a semiconductor substrate 1001, a heating process of controlling pressure and heating the semiconductor substrate on which the base film 1004 is formed in a non-oxidizing gas atmosphere, and a gate insulation film forming process of forming the high dielectric constant insulation film 1005 on the heated base film 1004.例文帳に追加

ゲート絶縁膜を有する半導体装置の製造方法において、半導体基板１００１上に下地膜１００４を形成する下地膜形成工程と、下地膜１００４を形成した半導体基板を非酸化性のガス雰囲気中で、圧力を制御して加熱する加熱工程と、上記加熱した下地膜１００４の上に高誘電率ゲート絶縁膜１００５を形成するゲート絶縁膜形成工程とを備える。 - 特許庁

This method for purifying the charge transporting polymer material, comprising purifying the charge transporting polymer material from a solution of the unpurified charge transporting polymer material in an organic solvent, is characterized by controlling the dielectric constant of the organic solvent to ≤6 and including a process for bringing the solution into contact with an oxide containing at least one element selected from the group 1 to 14 elements.例文帳に追加

未精製電荷輸送性高分子材料を有機溶媒に溶解させた溶液から、電荷輸送性高分子材料を精製する電荷輸送性高分子材料の精製方法において、前記有機溶媒の誘電率が６以下であり、前記溶液を１〜１４族から選択される少なくとも１種の元素を含む酸化物に接触させる接触工程を含むことを特徴とする電荷輸送性高分子材料の精製方法。 - 特許庁

A deposition method for depositing a dielectric film containing a zirconium oxide film includes a step of depositing the zirconium oxide film on a processed substrate by supplying a zirconium material composed of a Zr compound containing a cyclopentadienyl ring in a structure and an oxidizing agent and a step of depositing a titanium oxide film on the zirconium oxide film by supplying a titanium material composed of a titanium compound containing the cyclopentadienyl ring in the structure and the oxidizing agent.例文帳に追加

酸化ジルコニウム膜を含む誘電体膜を成膜する成膜方法は、シクロペンタジエニル環を構造中に含むＺｒ化合物からなるジルコニウム原料と酸化剤とを供給して被処理基板上に酸化ジルコニウム膜を成膜する工程と、シクロペンタジエニル環を構造中に含むチタン化合物からなるチタン原料と酸化剤とを供給して前記酸化ジルコニウム膜の上に酸化チタン膜を成膜する工程とを有する。 - 特許庁

In the method of manufacturing an electronic component with a semiconductor chip connected to a substrate, a pretreatment prior to die bonding step, comprises installing a solid dielectric on at least one opposed surface of a pair of opposed electrodes under near the atmospheric pressure, introducing a process gas between the pair of opposed electrodes, applying a pulse-like electric field to obtain a plasma, and contacting the plasma with the substrate.例文帳に追加

半導体チップを基板に接続してなる電子部品の製造方法において、ボンディング工程の前処理として、大気圧近傍の圧力下、対向する一対の電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該一対の対向電極間に処理ガスを導入してパルス状の電界を印加することにより得られるプラズマで基板を接触処理することを特徴とする電子部品の製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the nonvolatile memory cell comprises the steps of: forming a tunnel oxide film, a floating gate electrode, a dielectric film, and a control gate electrode; forming a source and drain region by processing a source/drain ion implantation; forming an oxide layer on the source and drain region by selectively processing oxidation; and forming a spacer on the both sides of the floating gate electrode and the control gate electrode.例文帳に追加

半導体基板上部にトンネル酸化膜、フローティングゲート電極、誘電体膜及びコントロールゲート電極を形成する段階と、ソース／ドレインイオン注入工程を行ってソース及びドレイン領域を形成する段階と、選択的酸化工程を行って前記ソース及びドレイン領域上に酸化層を形成する段階と、前記フローティングゲート電極及びコントロールゲート電極の両側面にスペーサを形成する段階とを含んでなる。 - 特許庁

The method for manufacturing an aluminum foil roughed and anodized as a support and a silver complex diffused transfer reversal material containing photosensitive silver halide emulsion coating comprises the step of corona treating the roughed and anodized foil in a corona station having a roller and at least one electrode coated by using a dielectric coating before the foil is coated with a photosensitive layer.例文帳に追加

本発明に従えば、支持体としての粗面化され且つ陽極酸化されたアルミニウム箔ならびに感光性ハロゲン化銀乳剤コーティングを含む銀錯体拡散転写反転材料を製造する方法であり、該粗面化され且つ陽極酸化されたアルミニウム箔を、該箔が感光層によりコーティングされる前に、ローラー及び誘電コーティングを用いてコーティングされている少なくとも１つの電極を含むコロナステーションでコロナ処理することを特徴とする方法が提供される。 - 特許庁

The method for manufacturing the ceramic capacitor includes a step of preparing a first raw material powder including the powder of the dielectric ceramic component, a step of preparing a second raw material powder including a compound containing an alkali metal element, a step of forming a molded article by molding the first raw material and the second raw material, and a step of simultaneously firing the molding and a composition containing an alkali metal element.例文帳に追加

本発明に係る誘電体セラミックの製造方法は、誘電体セラミック成分の粉末を含む第１の原料粉末を用意する工程と、アルカリ金属元素を含有する化合物を含む第２の原料粉末を用意する工程と、前記第１の原料粉末と前記第２の原料粉末とを成形して成形体を得る工程と、前記成形体とアルカリ金属元素を含む組成物とを同時に焼成する工程と、を備えることを特徴としている。 - 特許庁

The method for producing the dielectric ceramic material by reacting an alkaline earth metal compound with a titanium dioxide in a solid phase reaction includes a pulverizing and mixing step where a mixed powder including the powder of the alkaline earth metal compound and the powder of the titanium dioxide is pulverized and mixed in the coexistence of an ammonia compound and a calcination step to obtain the powder of a titanic acid alkaline earth metal salt by calcining the pulverized and mixed powder.例文帳に追加

アルカリ土類金属化合物と二酸化チタンとを固相反応により反応させて誘電体セラミックス材料を製造する方法であって、前記アルカリ土類金属化合物の粉末及び二酸化チタン粉末を含有する混合粉末を、アンモニア化合物の共存下で粉砕混合する粉砕混合工程と、粉砕混合された前記混合粉末を焼成してチタン酸アルカリ土類金属塩の粉末を得る仮焼工程とを備えているようにした。 - 特許庁

The discharge plasma treatment method impresses an electric field between at least a pair of round pole electrodes with at least one side of opposing surfaces covered with a solid dielectric material, and treats a treated object with glow discharge plasma generated by introducing treatment gas between electrodes, at least one of the round pole electrodes making up a pair is an electrode with both ends bent toward a different direction from a discharge area.例文帳に追加

少なくとも一方の対向表面が固体誘電体で被覆された少なくとも一対の丸棒状電極間に電界を印加し、電極間に処理ガスを導入して発生するグロー放電プラズマで被処理体を処理する放電プラズマ処理方法であって、前記対となる丸棒状電極の少なくとも一方の電極が、両端を放電空間と異なる方向に湾曲させた電極であることを特徴とする放電プラズマ処理方法および装置。 - 特許庁

A method of producing an inductor with high inductance includes: forming a removable polymer layer on a temporary carrier; forming a structure including a first coil, a second coil, and a dielectric layer on the removable polymer layer; forming a first magnetic glue layer on the removable polymer layer and the structure; removing the temporary carrier; and forming a second magnetic glue layer under the structure and the first magnetic glue layer.例文帳に追加

高インダクタンスを持つインダクタを製造するための方法であり、前記方法は：一時的キャリア上に除去可能なポリマー層を形成し；前記ポリマー層上に、第１のコイル、第２のコイル及び誘電層を含む構造を形成し；前記除去可能なポリマー層及び前記構造上に第１の磁性接着層を形成し；前記一時的キャリアを除去し；及び前記構造及び前記第１の磁性接着層の下に第２の磁性接着層を形成する、ことを含む。 - 特許庁

A method of controlling driving of a micro machine device 11 having first and second electrodes 24 and 25 and a dielectric layer 26 between them contains steps of applying a control voltage VC between the first and second electrodes 24 and 25, generating an electrostatic force on the electrodes 24 and 25, causing the first electrode 24 or the second electrode 25 to move, and reversing the polarities of the control voltage VC within a predetermined cycle.例文帳に追加

互いに対向する第１の電極２４と第２の電極２５を有しかつそれらの間に誘電体層２６が形成されてなるマイクロマシンデバイス１１の駆動制御方法であって、第１の電極２４と第２の電極２５との間に制御電圧ＶＣを加えることによって、第１の電極２４と第２の電極２５とに静電力を作用させて第１の電極２４または第２の電極２５を変位させるとともに、制御電圧ＶＣの正負極性を所定の周期以内で反転させる。 - 特許庁

The method of cleaning reflective photomask blanks 10 in which the conductive film is formed on one surface of a glass substrate and attractively held by the electrostatic chuck using the organic dielectric for the attractive holding surface is characterized in installing the mask blanks 10 in a spin cleaning apparatus 20 with the conductive film up and in cleaning the surface of the conductive film by supplying a 0.1 to 5 normal alkali metal hydroxide aqueous solution from a cleaning discharge port 23.例文帳に追加

ガラス基板の一方の面に導電膜が形成され、吸着保持面に有機系の誘電体を用いた静電チャックにより、該導電膜が吸着保持される反射型マスクブランクス１０の洗浄方法であって、マスクブランクス１０を導電膜を上にしてスピン式洗浄装置２０に設置し、洗浄吐出口２３より、０．１〜５規定のアルカリ金属水酸化物水溶液を供給して前記導電膜表面を洗浄することを特徴とする反射型マスクブランクスの洗浄方法。 - 特許庁

The treatment method for a treatment object, which generates glow discharge plasma by impressing an electric field from a power supply between opposing electrodes having two or more discharging spaces formed with three or more electrodes covered with a solid dielectric at least on one of the opposing surfaces under pressure near atmospheric pressure, supplies additional gas for every treatment gas introduced to the above two or more discharge spaces, and controls a discharge starting timing.例文帳に追加

大気圧近傍の圧力下、対向面の少なくとも一方を固体誘電体で被覆した３つ以上の電極によって形成された２つ以上の放電空間を有した対向電極間に一つの電源から電界を印加することによってグロー放電プラズマを発生させて被処理体を処理する方法において、前記２つ以上の放電空間に導入する処理ガス毎に添加ガスを供給して、放電開始タイミングを調整することを特徴とする放電プラズマ処理方法および装置。 - 特許庁

To provide a phase transition type optical information recording medium capable of enhancing self reliability without reducing frequencies of repetitive recording/erasure, securing a wide process margin and enhancing initialization characteristics and repetitive characteristics of the optical information medium by incorporating a new material into a dielectric layer adjacent to an Ag or Ag alloy layer of a sulfuration resistant layer or a reflection layer in order to prevent influence of oxygen and its manufacturing method.例文帳に追加

相変化型光情報記録媒体において、酸素の影響を防ぐべく新たな材料を耐硫化層または反射層のＡｇまたはＡｇ合金層と隣接する誘電体層に含ませることにより、繰り返し記録・消去の回数を低下させることなく保存信頼性を向上することができ、広いプロセスマージンを確保でき、光情報媒体の初期化特性、繰り返し特性を向上することができる相変化型光情報記録媒体およびその製造方法を提供する。 - 特許庁