| 例文 |
dielectric methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4150件
Metallic wires 2 for forming a radio wave reception section and a thin film, made of a material whose specific dielectric constant, is greater than the 1 and covering the metallic wires are provided on a flexible insulation board 1 to form the board antenna, wherein the thin film 3 is formed by the aerosol deposition method.例文帳に追加
フレキシブル絶縁基板1上に無線電波受信部を金属配線2と、該金属配線を覆う比誘電率が1より大木材料からなる薄膜とを備え、該薄膜3をエアロゾルデポジション法によって基板アンテナを形成する。 - 特許庁
To provide nickel powder in which oxidation of the metallic nickel at binder removing time is difficult to develop, thermal shrinkage characteristic at the burning time is made close to a ceramic dielectric substance and the suitable characteristic as an inner part electrode material of a laminated ceramic condenser is given, and its production method.例文帳に追加
脱バインダー時の金属ニッケルの酸化を起こしにくく、焼成時の熱収縮特性をセラミック誘電体に近づけた、積層セラミックコンデンサの内部電極材料として好適な特性を有するニッケル粉及びその製法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device having a damascene wiring structure, which suppresses an increase in leakage current and an reduction in a dielectric constant in a Cu wiring structure due to etching damage to a fluorocarbon film, and which secures reliability.例文帳に追加
ダマシン配線構造を有する半導体装置において、フルオロカーボン膜へのエッチングダメージによるCu配線構造でのリーク電流の増加や誘電率の低下を抑制し、信頼性の担保された半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a SIMOX (Silicon Implantation of Oxygen) wafer such that an embedded oxide film has a higher dielectric constant than a silicon oxide film having the same thickness and then has a thinner electric effective film thickness than the silicon oxide film, and to provide the SIMOX wafer.例文帳に追加
埋め込み酸化膜が、同じ厚みのシリコン酸化膜と比べてより高誘電率であり、したがって、電気的な実効膜厚がシリコン酸化膜と比べてより薄いSIMOXウェーハの製造方法及びSIMOXウェーハを提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a dielectric separation wafer, in which the peripheral section of a negative resistor film applied to the backside of the wafer is hardly eroded by a developing solution at the developing of the front-surface negative resist with the developing solution, after the backside negative resist is applied in a photolithograph process.例文帳に追加
フォトリソグラフ工程において、裏面ネガレジスト塗布後の表面ネガレジスト現像処理時に、ウェーハ裏面に塗布されたネガレジスト膜の周辺部が、この現像液で溶損しにくい誘電体分離ウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an image forming device capable of preventing dielectric breakdown from being generated, and capable of forming stably an image of excellent resolution, even when forming a photosensitive layer of prescribed structure into a thin film, and an image forming method using the same.例文帳に追加
所定構造の感光層を薄膜化した場合であっても、絶縁破壊の発生を抑制して、解像度に優れた画像を安定的に形成することができる画像形成装置及びそれを用いた画像形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing an FPD which excels in work efficiency and by which constituent elements of the FPD excellent in pattern profile (e.g., a dielectric body, barrier ribs, an electrode, a resistive element, a phosphor, a color filter and a black matrix) can be favorably formed.例文帳に追加
作業性に優れ、かつパターン形状に優れたFPDの構成要素(例えば、誘電体、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリックス)を好適に形成することができるFPDの製造方法を提供すること - 特許庁
To provide a method of manufacturing laminated electronic component by which the occurrence of cracks or delaminations can be suppressed, by eliminating the processes resulting from the thicknesses of internal electrode layers, even when the number of laminated layers is increased by reducing the thicknesses of dielectric porcelain layers and the internal electrode layers.例文帳に追加
誘電体磁器層および内部電極を薄層化して積層数を増加した場合にも、内部電極層の厚みによる段差を無くすことができ、クラックやデラミネーションの発生を抑制できる積層型電子部品の製法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of easily manufacturing a semiconductor device, wherein a high dielectric constant film of an MIM capacitor made of a high-k material having a relative permittivity of ≥10 is not formed at the position where a transistor or wiring is provided.例文帳に追加
本発明は、比誘電率が10以上のhigh-k材料から構成されるMIMキャパシタの高誘電率膜がトランジスタや配線の設けられる箇所に形成されない半導体装置を容易に製造できる方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a plasma processing method and a plasma processing apparatus, wherein a film of good quality can be obtained by minimizing an impurity concentration of a thin film formed by a microwave plasma processing apparatus including a dielectric for introducing an electromagnetic wave into a processing chamber.例文帳に追加
電磁波を処理室へ導入するための誘電体を備えたマイクロ波プラズマ処理装置において成膜された薄膜の不純物濃度を低く抑え、良質な膜を得ることが可能なプラズマ処理方法およびプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a polymerization method using dielectric heating of unsaturated fatty acids, unsaturated fatty acid esters, unsaturated hydrocarbons, or unsaturated derivatives of these products, to provide the resulting polymers, and to provide methods for use of the polymers.例文帳に追加
不飽和脂肪酸、不飽和脂肪酸エステル、不飽和炭化水素またはこれらの生成物の不飽和誘導体の、誘電性加熱による重合方法、並びに、獲得される重合体およびこれらの重合体の使用に関する方法を提供する。 - 特許庁
To provide an optical communication module in which thermal stress and dielectric breakdown are prevented in mounting and a stress given to input output terminals is suppressed when an optical plug is put on or removed, and to provide a method of mounting the optical communication module and an electronic equipment.例文帳に追加
実装のときに熱的ストレスおよび静電気破壊が生じるのを防止でき、光プラグの着脱時の入出力端子へのストレスを抑制できる交換が容易な光通信モジュールおよびその実装方法および電子機器を提供する。 - 特許庁
To provide a nonvolatile semiconductor storage device the operating voltage of which can be lowered by efficiently applying a gate voltage upon a ferromagnetic thin film when the dielectric thin film is used as a gate insulating film, and to provide a method of manufacturing the device.例文帳に追加
ゲート絶縁膜に強誘電体薄膜を用いる場合に、ゲート電圧を強誘電体薄膜に効率よく印加することができ、低動作電圧化を図ることができる不揮発性半導体記憶装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a PDP capable of simplifying a manufacturing process and reducing manufacturing unit cost, a PDP capable of lowering discharge voltage and improving efficiency, and a green sheet with a dielectric layer and a conductive layer formed.例文帳に追加
製造工程を単純にし、製造単価を低くすることができるPDPの製造方法、放電電圧を低くし、効率を向上させることができるPDP、及び誘電体層と導電層が形成されたグリーンシートを提供する。 - 特許庁
To provide a substrate heating method and its apparatus for carrying out a crystallizing reaction uniformly all over a coated film made of ferroelectric material or high-dielectric constant material on a substrate, and for forming a thin film with good quality.例文帳に追加
基板上に塗布形成された強誘電体や高誘電率材料からなる薄膜の結晶化反応を膜全体に均一に進行させて良質な薄膜を形成することができる基板加熱処理方法およびその装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method for producing a highly reliable ceramic electronic component without the generation of crack in the case of burning even concerning a ceramic electronic component having an electrode layer containing a base metal and a dielectric layer to be made into multilayer.例文帳に追加
卑金属を含む電極層と薄層化および多層化される誘電体層とを有するセラミック電子部品であっても、焼成に際してクラック発生のない信頼性の高いセラミック電子部品を製造する方法を提供することにある。 - 特許庁
To provide a method of molding a thermosetting plastic material which measures a temperature accurately and can adjust the amount of irradiation of a microwave when the thermosetting plastic material is cured according to the dielectric heating effect by the microwave.例文帳に追加
マイクロ波による誘電加熱効果によって熱硬化性プラスチック材料を硬化させる際に、正確に温度を測定しマイクロ波の照射量を調節することが可能な熱硬化性プラスチック材料の成形方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor optical element, which can prevent any alteration product from remaining on the outermost layer of a multilayer semiconductor layer even when a thick dielectric film formed of an organic silane based material as a mask.例文帳に追加
有機シラン系原料を用いた厚膜の誘電体膜をマスクとして用いる場合であっても、多層半導体層の最表層における変質物の残留を抑止することができる半導体光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
In the method for controlling the particle size of spherical metal powder, the particle size of the spherical metal powder is controlled by regulating the dielectric constant of a solvent constituting the liquid phase in the manufacture of the spherical metal powder using the liquid-phase laser ablation.例文帳に追加
液相レーザーアブレーションを用いた球状金属粉末の製造において、該液相を構成する溶媒の誘電率を調整することで、球状の金属粉末の粒径を制御する球状金属粉末の粒径制御方法である。 - 特許庁
To provide a semiconductor device and a method of manufacturing the same, stabilizing an oxide of a semiconductor, and remarkably improving the reliability and performance of the device by obtaining a dielectric layer low in defect density and high in electron mobility.例文帳に追加
半導体の酸化物を安定化させることができる上、欠陥密度が低くて電子移動度が高い誘電体層を得て、デバイスの信頼性及び性能を大幅に改善することができる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
The method of actualizing the solid electrolytic capacitor includes steps of bringing the dielectric-coated anode body into contact with a solution including a manganese oxide precursor and a dispersant, and converting the precursor into a manganese oxide solid electrolyte through thermal decomposition.例文帳に追加
該固体電解コンデンサを実現する方法として、誘電体被覆陽極体を酸化マンガン前駆体と分散剤とを含む溶液に接触させるステップと、前記前駆体を熱分解によって酸化マンガン固体電解質に変換するステップとを含む。 - 特許庁
To provide an epoxy resin composition that can impart extremely good flame retardancy and dielectric properties to a cured product thereof, the cured product, an epoxy resin, and a phenol resin that is an intermediate of the epoxy resin, and a method for producing the epoxy resin.例文帳に追加
極めて優れた難燃性と、誘電特性とを硬化物に付与することができるエポキシ樹脂組成物、その硬化物、エポキシ樹脂、及び該エポキシ樹脂の中間体であるフェノール樹脂、並びに前記エポキシ樹脂の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a high reliable semiconductor device which reduces the effect due to the diffusion of nitrogen and hydrogen from silicon nitride film for suppressing diffusion of metals from a metal wiring portion to an inter layer dielectric film, and to provide a manufacturing method for the device.例文帳に追加
金属配線部から、金属が層間絶縁膜に拡散することを抑制するためのシリコン窒化膜等から窒素や水素が拡散することによる影響を軽減した信頼性の高い半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a practically useful and alcohol-developable negative photosensitive resin composition having high transparency, a low dielectric constant, a low coefficient of thermal expansion, a high glass transition temperature and satisfactory toughness, and to provide a method for producing a fine pattern using the same.例文帳に追加
高透明性、低誘電率、低熱膨張係数、高ガラス転移温度、且つ十分な靭性を併せ持つ実用上有益で、アルコール類で現像できるネガ型の感光性樹脂組成物、及び、これを用いた微細パターンの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for producing a thermosetting resin having a dihydrobenzoxazine ring structure, which is excellent in low dielectric property and easy to purify, a thermosetting resin obtained thereby, a thermosetting composition containing the resin, and a molded product, a hardened product and electronic equipment obtained from the composition.例文帳に追加
低誘電率性に優れ、精製の容易な、ジヒドロベンゾキサジン環構造を有する熱硬化性樹脂の製造方法、熱硬化性樹脂、及びそれを含む熱硬化性組成物、並びにそれから得られる成形体、硬化体、電子機器を提供する。 - 特許庁
By using this paste for pattern formation using a binder containing an organic high polymer having a branched structure, a conductor, a resistor, a dielectric and an insulating material are manufactured, and the pattern having a high aspect ratio is formed on a green sheet by a screen printing method by using them.例文帳に追加
枝分かれ構造の有機高分子を含むものをバインダとしたパターン形成用ペーストを使用して、導電体、抵抗体、誘電体、絶縁体を作製し、これをスクリーン印刷法によりアスペクト比の高いパターンをグリーンシート上に形成する。 - 特許庁
Also, the tantalum oxide film is formed by a pulse-modulated plasma CVD method, etc., and the temperature of the inner wall of its manufacturing apparatus is controlled when it is formed, so as to be able to form with a satisfactory reproducibility the tantalum oxide film having a high dielectric constant and withstanding voltage.例文帳に追加
また、酸化タンタル膜は、パルス変調されたプラズマCVD法等によって成膜され、また成膜時の装置内壁温度を制御することにより、高耐圧・高誘電率な酸化タンタル膜を再現性よく形成することができる。 - 特許庁
This pipe diameter estimation method stores a correspondence table of a pipe diameter in a reference depth to the reception signal level (S1), conducts usual survey (S2), and finds a buried depth and a dielectric constant of a soil, based on different propagation times from two lines of reception systems (S3).例文帳に追加
【解決手段】基準深度における管径と受信信号レベルとの対応テーブルを記憶させ(S1)、通常の探査を行い(S2)、2系列の受信系から異なる伝搬時間に基づいて埋設深度と土壌の比誘電率を求める(S3)。 - 特許庁
This forming method is characterized by inclusion of a process in which chemical mechanical polishing is performed on a polycrystalline silicon layer and an interlayer dielectric layer until a hard mask nitride film is exposed by means of a chemical mechanical polishing slurry for oxide films with a pH of 2 to 7 including an oxidizer.例文帳に追加
酸化剤を含むpH2〜7の酸性の酸化膜用CMPスラリーを利用し、ハードマスク窒化膜が露出するまで多結晶シリコン層及び層間絶縁膜層に対するCMP工程を行う段階を含むことを特徴とする。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a back panel of a plasma display panel including a substrate dielectric layer having a uniform thickness and a highly accurate partition formed of a little amount of partition material even if the plasma display panel is made with high accuracy and discharge cells are made in minute detail.例文帳に追加
プラズマディスプレイパネルが高精細化し放電セルが微細化しても、下地誘電体層の厚さを均一にするとともに、少ない隔壁材料で高精度の隔壁を形成できるプラズマディスプレイパネルの背面パネルの製造方法を提供する。 - 特許庁
The present invention relates to a kind of method of electron element heat conduction, and an insulating dielectric layer having high temperature resistance and high voltage resistance characteristics is formed by carrying out electrolytic oxidation processing on a surface of a highly conductive metal member having been processed, especially, by washing.例文帳に追加
本発明は一種の電子素子熱伝導の方法、特に洗浄処理を施した高伝導金属部材の表面を電解酸化加工処理により、耐高温及び耐高電圧特性を有する絶縁誘電体層を形成する。 - 特許庁
Especially, the sintered compact containing an Mg_4Nb_2O_9 crystal phase as a main phase exhibits characteristics that the dielectric constant εr is about 13, and the product Qf of the quality factor, measured by a resonance method at any frequency of 8-11 GHz, and the resonance frequency is higher than 240,000 (GHz).例文帳に追加
特に、Mg_4Nb_2O_9結晶相を主相とする焼結体は、εrがおよそ13で、共振法により8〜11GHzのいずれかの周波数で測定したQ・fが240000(GHz)を超える特性が得られる。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a PDP having such high sensitivity that can form a pattern even by a direct imaging method, excellent in workability, further, capable of suitably forming elements constituting the PDP, and excellent in pattern form (for example, dielectric layer, barrier rib, electrode, resistor, phosphor, color filter, black matrix), and to provide a transfer film suitably used for the manufacturing method.例文帳に追加
ダイレクト・イメージング法によってもパターンを形成できる高感度を有し、作業性に優れ、さらにパターン形状に優れたPDPの構成要素(例えば、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリックス)を好適に形成することができるPDPの製造方法および当該製造方法に好適に用いられる転写フィルムを提供すること。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a PDP having high sensitivity allowing a pattern to be formed by a direct imaging method, and preferably forming components of the PDP (for instance, a dielectric layer, barrier rib, electrode, resistor, phosphor, color filter and black matrix) excelling in workability and in a pattern shape, and also to provide a transfer film preferably used for the manufacturing method.例文帳に追加
ダイレクト・イメージング法によってもパターンを形成できる高感度を有し、作業性に優れ、さらにパターン形状に優れたPDPの構成要素(例えば、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリックス)を好適に形成することができるPDPの製造方法および当該製造方法に好適に用いられる転写フィルムを提供すること。 - 特許庁
First the ferroelectric film 317 is deposited to be thick, and then, the ferroelectric film 317 is flattened by a CMP method with the interlayer dielectric 316 as a stopper, which can be deposited with a uniform thickness on an entire wafer, to form the ferroelectric film 317a.例文帳に追加
まず、強誘電体膜317を厚く堆積し、その後に、ウエハ全体で膜厚を均一に堆積可能な層間絶縁膜316をストッパとして、CMP法で強誘電体膜317を平坦化して、強誘電体膜317aを形成する。 - 特許庁
To solve the problem that shavings occurring in a field layer during CMP process of an embedded dielectric in an element separation process using an STI method cause the occurrence of the leak current and the thinner line of a gate electrode mask, and thereby cause a decrease in yield and reliability.例文帳に追加
STI方式を用いた素子分離工程において、埋め込み絶縁膜の平坦化研磨時にフィールド層で発生する削りこみが、リーク電流発生や、ゲート電極マスクの細線化の原因となり、歩留まり低下や信頼性低下を招いている。 - 特許庁
To provide an organic thin film transistor which can operate with low voltage and which is easy to commercialize by forming a gate dielectric layer on a plastic or glass substrate, in a low-temperature process with a thickness of several nanometers, and to provide a fabrication method thereof.例文帳に追加
プラスチック基板やガラス基板などに低温工程で形成するものの、数nmの厚みでゲート絶縁膜を形成することによって、低電圧で動作が可能であり、且つ商用化が容易な有機薄膜トランジスタ及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a composition which is capable of forming a silicone-based film that is usable suitably as an interlayer insulation film in a semiconductor element or the like and has an appropriate uniform thickness and besides is excellent in the dielectric constant characteristics and film strength, and to provide an insulation film and also a manufacturing method thereof.例文帳に追加
半導体素子などにおける層間絶縁膜として使用するのに適した、適当な均一な厚さを有するシリコーン系膜が形成可能な、しかも誘電率特性、膜強度に優れた組成物、絶縁膜、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a polymer suitably used for film formation and its producing method and a composition including the same for forming a film capable of baking in a short time and imparting a film having low dielectric constant, excellent in heat resistance, modulus of elasticity and resistance to cracking.例文帳に追加
膜形成に好適に用いられる重合体及びその製造方法、この重合体を含有し、短時間焼成が可能であり、耐熱性、弾性率及びクラック耐性に優れ、低誘電性の膜を得ることができる膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device manufacturing method wherein sufficient resist residual film is ensured on a shoulder part of a large area resist pattern when an interlayer dielectric is etched and dimension shift after etching is restrained, and a semiconductor device manufacturing system.例文帳に追加
本発明は、層間絶縁膜のエッチング時の大面積レジストパターン肩部においても十分なレジスト残膜を確保してエッチング後の寸法シフトを抑制する半導体装置製造方法および半導体装置製造システムを提供することを課題とする。 - 特許庁
To provide a method for producing a reliable ceramic circuit board which has high withstand voltage characteristics and excellent resistance to the heat cycle as well as a high bending strength (deflective strength), and which rarely causes fractures or dielectric breakdowns even if a high bending load is applied.例文帳に追加
高い耐電圧特性および優れた耐熱サイクル特性に加えて、高い曲げ強度(抗折強度)を有し、大きな曲げ荷重が作用した場合においても割れや絶縁破壊を招くことが少なく信頼性が高いセラミックス回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a production method by which a molded article of a composite material having excellent adhesion between a cycloolefin resin and a fiber material, and suitably usable for an insulating layer or the like of a wiring board because of the low dielectric constant can be produced with fewer working processes in high productivity.例文帳に追加
シクロオレフィン樹脂と繊維材料との密着性に優れ、誘電率が低く配線基板の絶縁層等に好適に用いられる複合材料成形体を、作業工程が少なく高い生産性で製造できる製造方法を提供する。 - 特許庁
Furthermore, as the piezoelectric body formed so as to have the orientation by the sputtering method has high dielectric strength, a voltage applied to the piezoelectric actuator 134 is made high (one example, ≥3 kV/mm and ≤25 kV/mm), and the amount of the displacement of the vibrating plate 130 can be made large.例文帳に追加
更に、スパッタ法により配向を有するように形成された圧電体は、耐電圧が高いので、圧電アクチュエータ134印加する電圧を高くして(一例で3kV/mm以上、25kV/mm以下)、振動板130の変位量を大きくすることできる。 - 特許庁
Disclosed are the nitride semiconductor light-emitting element including a reflective layer 105 made of a dielectric, a transparent conductive layer 106, a p-type nitride semiconductor layer 109, a light-emitting layer 110, and an n-type nitride semiconductor layer 111 in this order; and the method of manufacturing the same.例文帳に追加
誘電体からなる反射層105、透明導電層106、p型窒化物半導体層109、発光層110およびn型窒化物半導体層111をこの順で含む窒化物半導体発光素子およびその製造方法である。 - 特許庁
To provide: an insulating film, suitable to be used as an interlayer insulating film for a semiconductor element and so on, excellent in film characteristics such as dielectric characteristics, especially in mechanical strength; and a manufacturing method capable of efficiently manufacturing the insulating film.例文帳に追加
本発明は、半導体素子などにおける層間絶縁膜として使用するのに適し、誘電特性などの膜特性、特に、機械強度に優れた絶縁膜、および、該絶縁膜を効率よく製造することができる製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide an optoelectronic apparatus capable of preventing an element substrate from causing large difference in level thereon by making an anodizing film used as a dielectric layer in the retention capacitance thin in thickness, and to provide an electronic apparatus and a method for manufacturing the optoelectronic apparatus.例文帳に追加
保持容量において誘電体層として用いる陽極酸化膜を薄くすることにより、素子基板上に大きな段差が発生することを防止可能な電気光学装置、電子機器、および電気光学装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a coating composition capable of producing a porous siliceous film equipped with an excellent mechanical strength and also a very low dielectric constant stably and equipped with chemical resistance against various chemicals jointly, and a method for producing a siliceous material by using the same.例文帳に追加
優れた機械的強度を備え、かつ非常に低い誘電率を安定的に示し、各種の薬剤に対する耐薬品性を兼ね備えた多孔質シリカ質膜を製造することができるコーティング組成物とそれを用いたシリカ質材料の製造法の提供。 - 特許庁
To provide a composition capable of forming a silicone-based film suited for use as an interlayer insulating film of a semiconductor element or the like and having an adequate uniform thickness and excellent in dielectric constant characteristics and film strength, and an insulating film and to provide a method for producing the film.例文帳に追加
半導体素子などにおける層間絶縁膜として使用するのに適した、適当な均一な厚さを有するシリコーン系膜が形成可能な、しかも誘電率特性、膜強度に優れた組成物、絶縁膜、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for forming the lower electrode of a capacitor which has a plug capable of preventing the electric defective of a plug for connecting a lower electrode with a semiconductor substrate, which occurs at manufacture of a capacitor having a high dielectric film, and the oxidation of the lower electrode.例文帳に追加
高誘電体膜を有するキャパシタの製造工程時に生じる下部電極と半導体基板とを接続するプラグの電気的な欠陥及び下部電極の酸化を防止することができるプラグを有するキャパシタの下部電極形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide an electromagnetic induction type inspection device and method therefor capable of inspecting and detecting all of the inspecting object regardless of dielectric body and electromagnetic body highly precisely and capable of measuring the object regardless of the size of the object, and capable of easily performing miniaturization.例文帳に追加
誘電体、磁性体を問わずあらゆる検査対象物を高感度、高精度で検査、検出することができ、また被検査物の大きさに関係なく測定でき、小型化を容易にできる電磁誘導型検査装置および検査方法を提供する。 - 特許庁
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