「dielectric method」に関連した英語例文の一覧と使い方(72ページ目) - Weblio英語例文検索

A method for manufacturing the metallization film capacitor includes the steps of: depositing the metal on both sides of a broad PP film; coating dielectric comprising an organic compound on the surface of a deposited film to crosslink (to harden); and forming a thin film hybrid metallization film of the deposited film and the organic compound.例文帳に追加

広幅ＰＰフィルムの両面に金属を両面蒸着して、この蒸着フィルム面上に有機化合物からな誘電体をコーティングし架橋（硬化）させ、蒸着フィルムと有機化合物の薄膜ハイブリッド金属化フィルムを形成する。 - 特許庁

To provide a laminate comprising a fiber sheet and a synthetic resin film having superior heat resistance and impact resistance, that is suitable for molding with less peeling, and that is superior in resistance against local dielectric breakdown at high voltage, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

繊維シートと合成樹脂製フィルムとの積層体であって、耐熱性や耐衝撃性に優れ、剥離が少なくて成型に適し、さらに高電圧での局所的絶縁破壊にも優れた積層体およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the defect simulation method using the discharge tester, a test voltage 32 is applied from a high voltage generator 30 to a continuous cable via an electrode, a detector 44 recognizes and displays dielectric breakdown, and a defect counter 48 sums them.例文帳に追加

放電試験器を用いた欠陥シミュレーション方法において、高電圧発生器３０から電極を介して試験電圧３２を連続ケーブルに印加し、検出器４４により絶縁破壊を認識して表示し、欠陥カウンタ４８により合算する。 - 特許庁

To provide an application liquid for forming a silica-based coating film, which has high film strength, a relatively low dielectric constant, and excellent surface smoothness and crack resistance, and to provide a preparation method for the application liquid and a silica-based coating film obtained from the application liquid.例文帳に追加

本発明は、高い被膜強度と比較的低い比誘電率を有し、かつ表面平坦性や耐クラック性などに優れたシリカ系被膜を形成するための塗布液、その調製方法および該塗布液から得られるシリカ系被膜に関する。 - 特許庁

To provide a wiring board incorporating a capacitor, capable of preventing the insulating resistance of a dielectric layer in the capacitor from being deteriorated with the invasion of water from an outer part even when the glass component of an insulating substrate is highly crystalized, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

絶縁基板のガラス成分の結晶化度が高い場合においても外部から水分が浸入してコンデンサの誘電体層の絶縁抵抗が劣化することのないコンデンサ内蔵配線基板およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The dielectric film for the amorphous phase change optical film is film-deposited on a substrate by a sputtering method using a film-deposition device provided with a sputtering power source so constituted that 50 to 400 kHz frequency overlapping with a DC can be applied to the target.例文帳に追加

該ターゲットに５０〜４００ｋＨｚの周波数をＤＣに重畳させて印加できるように構成されたスパッタ電源を備えた成膜装置を用いて、スパッタ法により、基板上に、非結晶の相変化光ディスク用誘電体膜を形成する。 - 特許庁

To provide a cable manufacturing method for sufficiently preventing the change of the dielectric constant of aligned fixed portions during aligning and fixing wires, improving the formability of the aligned fixed portions and greatly enhancing the productivity.例文帳に追加

電線を整列固定する際に、整列固定部の誘電率の変化を十分に防止できるとともに、その整列固定部の成形性を向上させることが可能であり、しかも、生産性を十分に高めうる電線ケーブルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a flash memory cell wherein an increase in thickness of an oxide film in a dielectric film can be restrained in a heat treatment process for compensating etching damage after an etching process for forming a stack gate is performed.例文帳に追加

スタックゲートを形成するためのエッチング工程を行った後、エッチング損傷を補償するための熱処理工程で誘電体膜内の酸化膜の厚さ増加を抑制することが可能なフラッシュメモリセルの製造方法を提供すること。 - 特許庁

An electric field correction ring whereto a ceramics dielectric film is attached by a spraying method or the like in the surface of an electric field correction electrode is almost as high as an electrostatic chuck base material, and is arranged in the shoulder of the electrostatic chuck.例文帳に追加

静電チャックの肩部に、高さが静電チャック基材の高さとほぼ同一な電界補正電極の表面に溶射法などによりセラミックスの誘電体膜を取り付けた電界補正リングを配置した構造とすることにより達成される。 - 特許庁

To provide a method of forming an alignment key of a semiconductor device, which can easily perform overlay measurement using the alignment key by forming the alignment key having a required step even after depositing a capping film on an interlayer dielectric and flattening the deposited film.例文帳に追加

層間絶縁膜上にキャッピング膜を蒸着して平坦化後にも所望の段差を有するアライメントキーを形成することで、アライメントキーを用いたオーバーレイの測定を容易に行える半導体素子のアライメントキー形成方法を提供する。 - 特許庁

The method includes etching a dielectric layer to form a cavity therein, exposing an etch stop layer located beneath the cavity, and etching the exposed etch stop layer to extend the cavity, exposing a conductive feature in a present interconnecting structure.例文帳に追加

本方法は、誘電体層をエッチングしてそこに空洞を形成し下に位置するエッチング止め層を露出し、露出したエッチング止め層をエッチングして空洞を拡張し、現存の相互接続構造における導電形状特徴を露出することを含む。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a multilayered ceramic electronic component, capable of improving a breakdown strength failure, improving the coverage of an electrode cover layer and improving lamination property even when a dielectric layer and an electrode layer are made thin in thickness.例文帳に追加

誘電体層および電極層を薄層化した場合であっても、耐圧不良の改善および電極被覆層の被覆率の向上を実現でき、かつ、積層性を向上できる積層セラミック電子部品の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The manufacturing method comprises the steps of: oxidizing the front surface of a silicon substrate by using an oxygen gas containing ozone under a reduced pressure; forming a silicon oxide film on this silicon substrate; and successively forming a high dielectric constant insulating film on the silicon oxide film, in a state of maintaining the reduced pressure.例文帳に追加

減圧下でオゾンを含む酸素ガスを用いてシリコン基板の表面を酸化し、このシリコン基板上にシリコン酸化膜を形成した後、減圧を維持した状態で、シリコン酸化膜の上に連続して高誘電率絶縁膜を形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a dielectric multilayered film filter element with which cracks and exfoliation of a multilayered film part are not caused when cutting a glass substrate for subdivision and manufactures no defective articles to improve yield.例文帳に追加

本発明は、ガラス基板を細分化するために切断した時に多層膜部に欠けや剥がれが生じなくなり、不良品の製造がなくなり、歩留まりを向上させることができる誘電体多層膜フィルタ素子の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To obtain a fragility-resistant silicide target, which is suitable for forming ZrO2.SiO2 or HfO2.SiO2 film which can be used as a high dielectric gate insulating film provided with characteristic in stead of an SiO2 film, and a method for manufacturing the silicide target.例文帳に追加

ＳｉＯ_２膜に替わる特性を備えた高誘電体ゲート絶縁膜として使用することが可能であるＺｒＯ_２・ＳｉＯ_２又はＨｆＯ_２・ＳｉＯ_２膜の形成に好適な、耐脆化性に富むシリサイドターゲット及びその製造方法を得る。 - 特許庁

To provide a complimentary MISFET which easily realizes threshold voltages required of each of a p-channel type MISFET and an n-channel type MISFET, using a high dielectric constant film as a gate insulating film, and to provide a manufacturing method of the same.例文帳に追加

高誘電率膜をゲート絶縁膜として用い、ｐチャネル型ＭＩＳＦＥＴおよびｎチャネル型ＭＩＳＦＥＴのそれぞれに要求されるしきい値電圧を容易に実現できる相補型ＭＩＳＦＥＴおよびその製造技術を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing method, which can polish the material to be polished with a high throughput, such as glass, semiconductors, dielectric substance/metal composite substances and integrated circuits, while supplying slurry on a polishing pad, and can increase the number of process wafers in the polishing pad.例文帳に追加

ガラス、半導体、誘電／金属複合体及び集積回路等の被研磨材を研磨パッド上にスラリーを供給しながら研磨をおこなう際に、スループットが高く、研磨パッドの処理ウェハー枚数を多く出来る研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a transparent dielectric material for electrode coating having little reactivity with an electrode and the like and by which a glass layer for electrode coating whose transparency is improved can be formed, a glass paste using it, a green sheet and a method for producing a plasma display panel.例文帳に追加

電極等との反応性が小さく、かつ透明性が向上した電極被覆ガラス層を形成し得る電極被覆用透明誘電体材料、およびこれを用いたガラスペースト、グリーンシート、プラズマディスプレイの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a brominated epoxy resin for laminated boards, which is a novel brominated epoxy resin that is excellent in electrical characteristics (low dielectric constant/low dissipation factor), exhibits flame retardance and heat stability and can be widely used for manufacturing glass fiber laminated boards.例文帳に追加

優れた電気特性（低誘電率/低消耗係数）、耐燃性及び熱安定性のある新規臭素化エポキシ樹脂で、広くグラスファイバー積層板の製作に応用され得る積層板用の臭素化エポキシ樹脂の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a polishing agent and a polishing method allowing efficient and uniform polishing at high speed without scratch and also allowing easy process management in the CMP technology of smoothening an interlayer dielectric film, BPSG film, and insulation film for shallow trench isolation.例文帳に追加

層間絶縁膜、ＢＰＳＧ膜、シャロートレンチ分離用絶縁膜を平坦化するＣＭＰ技術において、研磨を研磨傷なく、効率的、高速、均一にかつ研磨プロセス管理も容易に、行うことができる研磨剤及び研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a composite sintered compact of a magnetic substance containing an Li-Zn-Cu-Fe-O spinel type crystal and having high moisture resistance and a dielectric substance, a method for producing the same and an electronic component using the same.例文帳に追加

本発明は、Ｌｉ−Ｚｎ−Ｃｕ−Ｆｅ−Ｏスピネル型結晶を含むとともに、耐湿性の高い磁性体と誘電体との複合焼結体、およびその製造方法、ならびにそれを用いた電子部品を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device efficiently and surely manufacturing the semiconductor device having an insulating film of a low dielectric constant, and not having a cap layer selectively disposed on the insulating film, and excellent in reliability.例文帳に追加

低誘電率の絶縁膜を備える一方で、当該絶縁膜上に選択的に設けられたキャップ層を備えておらず、信頼性に優れた半導体装置を効率よくかつ確実に製造することができる製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a capacitor-embedded printed circuit board and a method of manufacturing the printed circuit board in which deviation in an area of a second electrode in contact with a dielectric layer can be minimized, so that an electrostatic capacitance error of the capacitor can be decreased.例文帳に追加

本発明は、第２電極の誘電層に接する面積の偏差を最小化することができ、結果的に、キャパシタの静電容量の誤差を減らすことができるキャパシタ内蔵型の印刷回路基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor optical device for reducing a harmful influence caused by heat treatment even if there is a process for performing heat treatment after forming a dielectric film on a surface of a semiconductor layer, and to provide a semiconductor device.例文帳に追加

半導体層の表面上に誘電体膜を形成した後に熱処理を行う工程を有する場合であっても、熱処理による悪影響を低減できる半導体光デバイスの製造方法および半導体光デバイスを提供すること。 - 特許庁

To provide an inexpensive detection method for a biochemical substance in simple constitution, capable of detecting electrically a change between dielectric constants before and after reaction, in place of a conventional system for detecting optically a fluorescence labeled specimen.例文帳に追加

蛍光標識された検体を光学的に検出する従来方式に代わる方式として、反応前後の誘電率の変化を電気的に検出する方法であって、簡単な構成で安価な生化学物質の検出方法を提供する。 - 特許庁

A method comprises a process for applying high frequency voltage into a vacuum chamber 5 through a dielectric plate 4 to generate a plasma, and plasma-processing the interlayer insulating film formed in the semiconductor substrate 8 disposed in the vacuum chamber 5 by using the plasma.例文帳に追加

真空室内５に誘電体板４を介して高周波電圧を印加してプラズマを発生させ、このプラズマを用いて、真空室５内に設置された半導体基板８に形成された層間絶縁膜をプラズマ処理する工程を含む。 - 特許庁

In the coloring method, the glass surface is dipped in a molten silver salt formed by thermally melting a silver salt; the resultant glass surface containing silver ions is covered with a dielectric film and then irradiated with a laser beam to cause silver ions to agglomerate to form silver particles for coloring the surface.例文帳に追加

銀塩を加熱溶解させてなる銀溶融塩中に浸漬することによって銀イオンを含有したガラス表面に誘電体膜を被覆した後に、レーザビームを照射することで、銀イオンを凝集させて銀微粒子とし着色させる。 - 特許庁

The electrostatic printing method forms an etching-resistive toner resin pattern directly on a conductive layer on the surface of a dielectric material (i.e., a PCB-precursor) which can be used for production of a printed circuit board(PCB's).例文帳に追加

プリント回路板（ＰＣＢ’ｓ）の製造に用いることができる誘電材料の表面上（すなわちＰＣＢ−前駆体上）の導電性層上にエッチング−抵抗性トナー樹脂のパターンを直接形成するための直接静電印刷法を記載する。 - 特許庁

To provide a thin film transistor having a gate insulating film which has a high relative dielectric constant and can lower a threshold voltage or operating voltage even when using a substrate made of an organic material such as plastic, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

プラスチックなどの有機材料で構成された基板を用いた場合であっても、高い比誘電率を有し、閾値電圧または動作電圧を低減することができるゲート絶縁膜を備えた薄膜トランジスタおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a laminated ceramic electronic component that suppresses elution of elements constituting a green sheet as ions and suppresses a defect of a capacitor element body, and whose breakdown voltage, dielectric loss, and high-temperature load lifetime are excellent.例文帳に追加

グリーンシートを構成する元素がイオンとして溶出することを抑制し、コンデンサ素子本体の欠損を抑え、しかも耐電圧、誘電損失および高温負荷寿命が良好な積層型セラミック電子部品の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an electric contact having excellent breaking performance, dielectric-strength characteristics, and welding resistance, and further provide its manufacturing method, an electrode for a vacuum bulb and the vacuum bulb using it, and a vacuum interrupter.例文帳に追加

本発明の目的は、遮断性能、耐電圧特性及び耐溶着性のいずれも優れた特性を有する電気接点とその製造法及び真空バルブ用電極とそれを用いた真空バルブ並びに真空遮断器を提供することにある。 - 特許庁

To provide an epoxy resin composition giving a cured product having mechanical strength to resist the generation of cracks in processing and low dielectric loss tangent while suppressing the generation of void in the cured product and provide a method for producing the composition and a cured product of the epoxy resin.例文帳に追加

硬化物中のボイドの発生を抑制し、加工時にクラックが生じることのない機械的強度を有するとともに、低い誘電正接を持つエポキシ樹脂組成物およびその製造方法ならびにエポキシ樹脂硬化物を提供する。 - 特許庁

The purge step after feeding a raw material gas and a reactive gas is composed of a vacuum purge and a gas purge steps, and a dielectric is formed by an ALD film forming method consisting of a gas flow sequence of more divided reactive gas feed steps.例文帳に追加

原料ガスおよび反応ガス供給後のパージステップを真空パージとガスパージの２段階パージとし、且つ、反応ガス供給ステップをさらに細分化したガスフローシーケンスからなるＡＬＤ成膜法により誘電体を形成するようにした。 - 特許庁

This is a method of removing a photoresist 16 and/or residues after etching from an exposed low K dielectric layer 14 and makes a non-oxygen plasma, having electrically neutral particles and charged particles, by exposing a non-oxygen gas to an energy source.例文帳に追加

フォトレジスト16および／またはエッチング後の残留物を露出した低ｋ誘電体層14から除去する方法で、無酸素ガスをエネルギー源にさらすことにより、電気的に中性な粒子と荷電粒子を有する無酸素プラズマを作り出す。 - 特許庁

To provide a producing method of a hard coating film which metallic oxide sol has excellent coating properties to a base material, and which can form a coating film having uniformity, high hardness, excellent water repellency, photocatalytic nature and high dielectric properties.例文帳に追加

金属酸化物ゾルの基材に対する塗布性に優れ、しかも均質で、かつ高い硬度と優れた撥水性、光触媒性および高誘電性を有する塗膜を形成することのできる硬質塗膜の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a separation analytical device for analyzing a micro impurity element in material efficiently in a short time, a continuous flow analytical method, high purity tantalum or a high purity tantalum compound, and a highly dielectric membrane formed by using it.例文帳に追加

材料中の微量不純物元素を短時間で効率的に分析する分離分析装置、連続流れ分析方法、高純度タンタルまたは高純度タンタル化合物及びそれを用いて形成された高誘電体薄膜を提供する。 - 特許庁

To obtain a solid electrolytic capacitor provided with a solid electrolyte on a valve action metal substrate having a dielectric film in which failure of bonding to the anode lead part is suppressed, and a method for producing solid electrolytic capacitor with high yield.例文帳に追加

誘電体皮膜を有する弁作用金属基板上に固体電解質を設けてなる固体電解コンデンサにおいて、陽極リード部との結合不良が少なく、製造収率が高い固体電解コンデンサ及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electrode foil for an aluminum electrolytic capacitor capable of raising the capacitance of an electrode foil in a breakdown voltage region of ≥170 V and reducing the dielectric loss (tan δ) and the leakage current.例文帳に追加

１７０Ｖ以上の耐電圧領域における電極箔の静電容量を高めることができ、かつ誘電体損失（ｔａｎδ）、漏れ電流を低減させることができるアルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a depositing method for a low dielectric constant insulating film that can exclude nitrogen from a formed film while improving the depositing rate, or can control the nitrogen content insomuch that it has no effect on a resist's crosslinking reaction.例文帳に追加

成膜レートを向上させつつ、形成膜中に窒素を含まないようにし、或いはレジストの架橋反応に影響を与えない程度に窒素含有量を抑制することができる低誘電率絶縁膜の成膜方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide a high dielectric capacitor which can eliminate its weak point by preventing the penetration of hydrogen ions when succeeding heat treatment is performed by forming diffusion preventing film on the side section of a storage electrode and the upper part of a plate electrode and a method of manufacturing the capacitor.例文帳に追加

ストレージ電極の側部及びプレート電極の上部に拡散防止膜を形成して後続熱処理時の水素イオンの侵透を防止することにより、前記短所を解消できる高誘電体キャパシタ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To maintain operating characteristic of a peripheral circuit by a method wherein distance between an intralayer micro lens and a light receiving part formed in a semiconductor substrate is reflected on value on design in which condensing efficiency is considered, and the interlayer dielectric of the peripheral circuit is kept thick.例文帳に追加

層内マイクロレンズと半導体基板に形成された受光部との間の距離を、集光効率を考慮した設計上の値に作り込むとともに周辺回路部の層間絶縁膜を厚く保ち、周辺回路部の動作特性を維持する。 - 特許庁

An element dielectric film part 5a is formed in a horse-shoe shape on an inside periphery of the first interlayer insulating film 3, and a second electrode (an upper electrode) 6a is formed in the concave part by leveling the first interlayer insulating film 3 by the chemical mechanical polishing method.例文帳に追加

その後第１層間絶縁膜３を化学機械研磨法で平坦化することにより、第１層間絶縁膜３の内周に素子誘電体膜部５ａをＵ字形状に形成し、その凹部に第２電極（上部電極）６ａを形成する。 - 特許庁

To provide a metal vapor deposition film manufacturing method in which problems of insufficient insulation or insufficient dielectric losses are solved, and a margin with sufficient insulation property on a vapor-deposited film during high-speed vapor deposition is formed.例文帳に追加

絶縁が不十分となることや、誘電損失が不十分となることを解消させるとともに、高速蒸着における蒸着金属膜に十分な絶縁性を付与したマージンを形成する蒸着フイルムの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method by which the fall of a resist selection ratio can be prevented and, in addition, no damage is given to a low-dielectric constant interlayer insulating film covered with a resist mask and composed of an SiOCH- or SiOC-based material in dry-etching the interlayer insulating film.例文帳に追加

レジストマスクで覆われたＳｉＯＣＨ或いはＳｉＯＣ系材料の低誘電率層間絶縁膜をドライエッチングする場合に、対レジスト選択比が低下することが防止でき、その上、層間絶縁膜にダメージを与えることがないようにする。 - 特許庁

To provide a diamond semiconductor device with a concentration of an electric field at a channel part and a gate insulating layer reduced, having a uniform insulating layer, preventing a dielectric breakdown, and reducing a defect in the vicinity of an interface between the channel part and the insulating layer, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

チャネル部及びゲート絶縁層における電界集中が緩和され、絶縁層が均一で、絶縁破壊を防ぎ、チャネル部及び絶縁層の界面近傍の欠陥を低減したダイヤモンド半導体素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁