「dry etching system」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

DRY ETCHING SYSTEM AND METHOD FOR DETECTING END POINT OF DRY ETCHING例文帳に追加

ドライエッチング装置およびドライエッチングの終点検出方法 - 特許庁

DRY ETCHING SYSTEM AND ETCHING METHOD例文帳に追加

ドライエッチング装置及びエッチング方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE OF DETECTING END POINT OF ETCHING AND DRY ETCHING SYSTEM例文帳に追加

エッチング終点検出方法及び装置並びにドライエッチング装置 - 特許庁

To provide a dry etching method which enables dry etching at lower temperatures, and to provide a dry etching system.例文帳に追加

より低い基板温度においてドライエッチングを可能にするドライエッチング方法およびドライエッチング装置を提供する。 - 特許庁

DRY ETCHING SYSTEM AND ITS MAINTAINING METHOD例文帳に追加

ドライエッチング装置及びそのメンテナンス方法 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR DRY-ETCHING METAL NITRIDE例文帳に追加

金属窒化物を乾式エッチングする方法及びシステム - 特許庁

MANUFACTURING METHOD USING DRY ETCHING SYSTEM例文帳に追加

ドライエッチング装置を用いる製造方法 - 特許庁

SYSTEM FOR PROCESSING EXHAUST GAS OF DRY ETCHING例文帳に追加

ドライエッチング排ガス処理装置 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD AND SYSTEM例文帳に追加

ドライエッチング方法およびその装置 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR DRY ETCHING例文帳に追加

ドライエッチング方法及びドライエッチング装置 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR DRY ETCHING例文帳に追加

ドライエッチング装置及びドライエッチング方法 - 特許庁

To exhaust gas in a dry etching system efficiently.例文帳に追加

ドライエッチング装置などの排気を効率よく行う。 - 特許庁

DRY ETCHING SYSTEM HAVING FUNCTION OF INTERMEDIATE LENGTH MEASUREMENT例文帳に追加

中間測長機能を備えたドライエッチングシステム - 特許庁

PLASMA ETCHING ELECTRODE HAVING IMPROVED HEAT RESISTANCE AND DRY ETCHING SYSTEM EQUIPPED WITH IT例文帳に追加

耐熱性に優れたプラズマエッチング電極及びそれを装着したドライエッチング装置 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR DETECTING END POINT OF ETCHING AND DRY ETCHING SYSTEM PROVIDED WITH THE SAME APPARATUS例文帳に追加

エッチング終点検出方法及び装置並びに同装置を備えたドライエッチング装置 - 特許庁

To provide a dry etching system which can accomplish plasma etching with smaller power consumption.例文帳に追加

より低消費電力でプラズマエッチングが達成できるドライエッチング装置を提供する - 特許庁

DRY-ETCHING SYSTEM, METHOD OF CLEANING DRY-ETCHING SYSTEM, AND DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRO-OPTIC DEVICE例文帳に追加

ドライエッチング装置、ドライエッチング装置のクリーニング方法、電気光学装置の製造装置及び電気光学装置の製造方法 - 特許庁

To provide a dry etching method and a dry etching system without destroying a membrane and lowering etching characteristics at the time of the dry etching of membranes, such as an EB mask.例文帳に追加

ＥＢマスクなどのメンブレンのドライエッチングの際に、メンブレンを破壊することなく、且つエッチング特性を低下することないドライエッチング方法及びドライエッチング装置を提供すること。 - 特許庁

DRY ETCHING SYSTEM AND ITS PLASMA CLEANING METHOD例文帳に追加

ドライエッチング装置およびそのプラズマクリーニング方法 - 特許庁

PLASMA PROCESSING SYSTEM FOR DAMAGE-FREE DRY ETCHING OF WAFER例文帳に追加

ダメージのないウェハードライエッチングのプラズマ処理装置 - 特許庁

To provide a dry etching system and a dry etching method by which a damage to a lower layer can be eliminated and the yield of elements can be improved.例文帳に追加

下層のダメージを軽減し、素子の歩留りを向上することのできるドライエッチング装置及びドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR DRY ETCHING AND METHOD AND SYSTEM FOR FORMING GATE ELECTRODE例文帳に追加

ドライエッチング方法及び装置並びにゲート電極形成方法及び装置 - 特許庁

SUPPLY SYSTEM AND SUPPLY METHOD OF TETRAFLUOROETHYLENE GAS TO DRY ETCHING UNIT例文帳に追加

ドライエッチング装置へのテトラフルオロエチレンガス供給装置及び供給方法 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD AND SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR LASER ELEMENT例文帳に追加

ドライエッチング方法およびドライエッチングシステム、並びに半導体レーザ素子製造方法 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR DRY ETCHING AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ドライエッチング方法、ドライエッチング装置及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

To provide a method and a system for dry-etching a metal nitride such as a titanium nitride or the like.例文帳に追加

チタン窒化物等の金属窒化物をエッチングする方法及びシステムについて開示している。 - 特許庁

A dry etching system (MERIE system) allows dry etching to a chromic half-tone phase shift film.例文帳に追加

金属薄膜のドライエッチング加工において、エッチングガスとして、酸素含有ガスとハロゲン含有ガスとからなる反応性イオンエッチングガスにさらに還元性のガスを添加した混合ガスを用いる。 - 特許庁

The system has a function of verifying the pattern line width with the dimensional specification; and if the line width fails the specification, the system has a function of automatically performing feedback and continuing the dry etching in the vacuum chamber for dry etching.例文帳に追加

パターン線幅を寸法規格と照合し、寸法規格に至らない際には、自動でフィードバックしてドライエッチング用真空チャンバー内でドライエッチングを継続して行う機能を備えたこと。 - 特許庁

The system is equipped with a scanning electron microscope 30 for measuring a pattern line width in a vacuum chamber 20 for dry etching so as to carry out intermediate length measurement of a pattern line width while a dry-etched photomask substrate 10 is mounted in the vacuum chamber for dry etching.例文帳に追加

ドライエッチング用真空チャンバー２０にパターン線幅を測長する走査型電子顕微鏡３０を備え、ドライエッチングしたフォトマスク基板１０をドライエッチング用真空チャンバー内に載置した状態でパターン線幅を中間測長する。 - 特許庁

In the dry etching system 102, a reaction chamber 106 is evacuated by means of a dry pump 112 upon finishing dry etching and a vacuum pressure gauge 108 delivers a measurement start command signal 18 when the pressure drops below a reference level.例文帳に追加

ドライエッチング装置１０２では、ドライエッチング終了後、ドライポンプ１１２による反応チャンバー１０６の真空引きが行われ、真空圧力計１０８は、圧力が基準値を下回ったとき計測開始指令信号１８を出力する。 - 特許庁

To obtain a method of detecting the end point of etching which can detect the end point of etching with good accuracy and a device for the same and a dry etching system having this device.例文帳に追加

エッチング終点を精度よく検出することができるエッチング終点検出方法及びその装置、並びに同装置を有するドライエッチング装置を得ること。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for detecting the end point of etching by which the end point of etching can be detected with high precision and to provide a dry etching system provided with the same apparatus.例文帳に追加

エッチング終点を精度よく検出できるエッチング終点検出方法及び装置並びに同装置を備えたドライエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To prevent the occurrence of contamination and dust in the etching chamber of a plasma etching system which dry-etches a wafer by blowing an etching gas upon the wafer from an exhaust nozzle.例文帳に追加

噴出ノズルからエッチングガスをウエーハに吹付けてドライエッチングする装置において、エッチング室内の汚染やダストの発生を防止する。 - 特許庁

To provide dry etching method and system in which etching rate can be raised at the end portion of a body to be etched and in-plane etching rate can be made uniform.例文帳に追加

ドライエッチング方法およびその装置に関し、被エッチング体の端部のエッチング速度を上げ、かつ、面内のエッチング速度を均一化することができるドライエッチング方法およびその装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Thereafter, the emitter contact layer 7 and the emitter layer 6 are removed sequentially by ICP system dry etching using the resist pattern 9 as a mask.例文帳に追加

その後、レジストパターン９をマスクとして、ＩＣＰ方式ドライエッチングにより、エミッタコンタクト層７とエミッタ層６とを順次除去する。 - 特許庁

GLASSY CARBON-GRAPHITE COMPOSITE RING FOR MOUNTING SILICON WAFER AND DRY ETCHING SYSTEM COMPRISING IT例文帳に追加

シリコンウェハー搭載用ガラス状カーボン−グラファイト複合リング及びそれを装着したドライエッチング装置 - 特許庁

The nozzle-wafer relative velocity to be given to the dry etching system as a command value is calculated by using these data.例文帳に追加

このデータを用いてドライエッチング装置に指令値として与えるためのノズル・ウェハ相対速度を計算する。 - 特許庁

METHOD OF CLEANING DRY-ETCHING SYSTEM, METHOD OF MANUFACTURING ELECTROOPTIC DEVICE, AND PROGRAM FOR REALIZING THE MANUFACTURING METHOD WITH COMPUTER例文帳に追加

ドライエッチング装置のクリーニング方法、電気光学装置の製造方法およびそれをコンピュータで実現するためのプログラム - 特許庁

It is important for a dry etching condition, which can form the needlelike projection 501 on the polyimide resin 201, not to use fluorine system gas for a reactant gas of a dry etching system, and to make a ratio of argon gas flowing rate with respect to that of oxygen gas be 20% or less.例文帳に追加

このポリイミド樹脂２０１上に針状突起物５０１を形成できるドライエッチング条件は、ドライエッチング装置の反応ガスにフッ素系ガスを使用しないことおよび、酸素ガス流量に対するアルゴンガス流量比を２０％以下にすることが重要である。 - 特許庁

This grinding system is composed at least of a chuck table 11 for holding a plate matter, grinding means 12a and 12b for grinding the plate matter held by the chuck table 11, a cleaning means 13 for cleaning the ground plate matter, and a dry etching means 14 for dry etching the cleaned plate matter, thus realizing efficient grinding up to dry etching steps.例文帳に追加

少なくとも、板状物を保持するチャックテーブル１１と、チャックテーブル１１に保持された板状物を研削する研削手段１２ａ、１２ｂと、研削済みの板状物を洗浄する洗浄手段１３と、洗浄済みの板状物をドライエッチングするドライエッチング手段１４とからなる研削システムを構成し、研削からドライエッチングまでを効率良く行う。 - 特許庁

To provide a method and a system for dry etching and a method and a system for forming a gate electrode in which excellent shape controllability of a metal layer is exhibited in etching and ER microloading can be suppressed sufficiently.例文帳に追加

エッチングにおけるメタル層の形状制御性に優れると共に、ＥＲマイクロローディングを十分に抑制できるドライエッチング方法及び装置並びにゲート電極形成方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a dry etching system having a function of intermediate length measurement for producing a photomask in which the pattern line width of a dry-etched metal film always satisfies dimensional specifications.例文帳に追加

ドライエッチングした金属膜のパターン線幅が常に寸法規格を満たしたフォトマスクを作製する中間測長機能を備えたドライエッチングシステムを提供する。 - 特許庁

To provide a device and method for dry etching, simplifying a gas supply system and capable of improving the anisotropy of an etching shape.例文帳に追加

ガス供給系の簡略化を図るとともに、エッチング形状の異方性を向上することができるドライエッチング装置及びドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dry etching system capable of surely detecting the end point of etching by detecting minute changes in emission intensity of plasma.例文帳に追加

プラズマの微小な発光強度の変化の検出によるエッチングの終点の検知を確実に行うことができるドライエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device by which dimensional conversion difference of an etching pattern can be controlled over a wide range by taking a measure other than the resizing of a photomask, and to provide a dry etching system.例文帳に追加

フォトマスクのリサイズ以外の方策で対処すべく、大きい範囲で寸法変換差を制御し得る半導体装置の製造方法及びドライエッチング装置を提供する。 - 特許庁