「elution pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a controlled release coated granular fertilizer whose coating film after completion of elution is well degraded, and shows a timecontrolled elution pattern of strictly suppressing initial elution and, when used in a paddy field, coating films after completion of elution do not float.例文帳に追加

溶出終了後の被膜分解性が良好で、かつ初期溶出を厳密に抑制した時限型の溶出パターンを示すとともに、水田に使用した場合には、溶出終了後の被膜が浮上しにくい時限溶出型被覆粒状肥料を提供する。 - 特許庁

To prevent a pattern from getting defective caused by elution of a quencher in a resist into a liquid, in a liquid immersion lithography.例文帳に追加

液浸リソグラフィにおけるレジスト中のクェンチャーの液体への溶出によるパターン不良を防止できるようにする。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for immersion exposure which suppresses material elution in immersion exposure, and a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

浸漬露光時の物質溶出が抑制された液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for liquid immersion lithography capable of suppressing elution of materials during liquid immersion lithography and excellent also in lithography characteristics, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

液浸露光時の物質溶出を抑制でき、リソグラフィー特性にも優れた液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a fine pattern having a favorable profile by preventing elution of an acid generating agent from a resist film into a liquid used for immersion lithography.例文帳に追加

液浸リソグラフィに用いる液体にレジスト膜からの酸発生剤の溶出を防止できるようにして、良好な形状を有する微細パターンを得られるようにする。 - 特許庁

To provide a positive resist composition improved in thickness reduction of a resist film after pattern development and deterioration of a pattern profile in normal exposure, and further improved in elution of a resist component into a immersion solution, pattern collapse or deterioration of a profile after immersion exposure in liquid immersion exposure, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

通常露光時に於ける、パターン現像後のレジスト膜厚減少、及び、パターンプロファイル劣化が改善され、更には、液浸露光時に於ける、液浸液へのレジスト成分の溶出が改善され、液浸露光後のレジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化が改善されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition which can decrease elution of substances in a liquid immersion medium used in an immersion lithography process, and to provide a method for forming a resist pattern by using the resist composition.例文帳に追加

イマージョンリソグラフィー工程において用いられる液浸媒体中への物質溶出を低減できるレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition in which a defect, a scum and an elution ratio when liquid immersion exposure are improved and favorable for a liquid immersion exposure, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

液浸露光時に於ける、欠陥、スカム、及び溶出割合が改善された液浸露光に好適なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a granular fertilizer composition capable of realizing the diversified duration of fertilizer effect or elution pattern and supplying fertilizer components suitably to crops.例文帳に追加

より多様な肥効持続期間や溶出パターンを実現することができ、作物に対してより好適に肥料成分を供給することを可能にする粒状肥料組成物等を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid immersion exposure resin of radiation sensitive composition which is good in pattern shape to be obtained, excellent in focus depth and small in the amount of elution during liquid immersion exposure.例文帳に追加

得られるパターン形状が良好であり、焦点深度に優れ、且つ液浸露光時に接触した水への溶出物の量が少ない液浸露光用感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which has greatly excellent exposure latitude, can form an excellent rectangular pattern shape, and has less elution to an immersion liquid in liquid immersion exposure, and a resist film and a pattern formation method using the composition.例文帳に追加

露光ラチチュードが大きく優れ、良好な矩形のパターン形状を形成することができ、且つ液浸露光時には液浸液への溶出が少ない感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, with which a pattern having good corner proximity and fewer developing defects can be formed, and which causes little elution of an acid into an immersion liquid and shows proper properties to the immersion liquid, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

コーナー・プロキシミティ（Corner proximity）が良好で、現像欠陥が少ないパターンを形成することが可能で、液浸液への酸の溶出が少なく、液浸液に対する追随性が良好である感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a colorant-containing curable composition having high sensitivity, wide development latitude, in particular excellent lightfastness and heat resistance as well as superior pattern forming property (developability) and excellent solvent resistance without elution of dye after cured, and capable of forming a pattern image of high resolution.例文帳に追加

高感度かつ広い現像ラチチュードを有すると共に、特に耐光性および耐熱性並びにパターン形成性（現像性）に優れ、かつ硬化後の染料の溶出がなく、耐溶剤性に優れ、解像度の高いパターン像を形成し得る着色剤含有硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a copolymer which is suppressed in pattern defects such as water mark and in abnormality of sensitivity or pattern shape due to elution of additives such as a radiation-sensitive acid generator and which gives surface characteristics preferable to immersion lithography, and a composition containing the copolymer.例文帳に追加

ウオーターマーク等のパターン欠陥や、感放射線性酸発生剤等の添加物の溶出による感度やパターン形状の異常等を抑えることができる、液浸リソグラフィーに好適な表面特性を与える共重合体と、該共重合体を含む組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a coated granular fertilizer having an excellent timed leaching type elution pattern in spite of being a thin coating film and containing much fertilizer components and a method of manufacturing the same without decreasing the productivity.例文帳に追加

薄い被膜であるにも拘わらず優れた時限溶出型の溶出パターンを有し、肥料成分をより多く含む被覆粒状肥料、及び生産性を下げることなくそれを製造する方法を提供する。 - 特許庁

A liquid dispense pump 2, an injector 4, a data processor, and the like are incorporated into one housing along with a column 5 and a detector 6, and a plurality of ion species and its elution pattern are stored at a memory section 16 as a measurement mode in advance.例文帳に追加

カラム５や検出器６と共に、送液ポンプ２、インジェクタ４、データ処理装置などが全て１つの筐体に内蔵され、複数のイオン種とその溶出パターンとが測定モードとして予めメモリ部１６に記憶されている。 - 特許庁

The elution of the sealing material into a liquid crystal 3 is prevented by providing a seal barrier 10 forming a pattern parallel to a seal 6 inside the seal 6 to previously prevent the abnormality of the alignment state on the periphery of the seal 6.例文帳に追加

シール６の内側にシール６と平行なパターンを形成するシールバリア１０を設けることによりシール材が液晶３中へ溶出することを防ぎ、シール６周辺の配向状態の異常の発生を未然に防止する。 - 特許庁

To provide a multi-color pattern coating material, a dispersion for the multi-color pattern coating material and production methods thereof in which formation of a colored gel having a sufficient gel strength enables suppression of the destruction of gel and the elution of color and obtaining clear multi-color patterns excellent also in water resistance of the coating material.例文帳に追加

十分なゲル強度を有する着色ゲルを形成することにより、ゲルの破壊、色の溶出を抑制することができ、かつ塗膜の耐水性にも優れた鮮明な多彩模様を得ることができる多彩模様塗料及び多彩模様塗料用分散体並びにこれらの製法を提供する。 - 特許庁

To provide a dye containing curing composition for forming high-resolution pattern images (for instance, pixels) superior light resistance, heat resistance, pattern formation and solvent resistance by suppressing elution to a developing liquid of an exposure part, and to provide a color filter using it and its manufacturing method.例文帳に追加

露光部の染料の現像液への溶出が抑制され、耐光性、耐熱性、パターン形成性（現像性）、および耐溶剤性に優れ、解像度の高いパターン像（例えば画素）を形成することができる染料含有硬化性組成物並びにこれを用いたカラーフィルターおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dye-containing hardening composition having high sensitivity and wide development latitude, excellent hardening property and no elution of the dye after hardening, excellent solvent resistance and heat resistance and forming a pattern image with high resolution.例文帳に追加

高感度かつ広い現像ラチチュードを有すると共に、特に硬化性に優れ、硬化後の染料の溶出がなく、耐溶剤性、耐熱性に優れ、解像度の高いパターン像を形成することができる染料含有硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a sulfonium salt in which when used for a resist material, there are little elution and pattern dependence (dark bright difference) to a soaking water, and which is useful as a photoacid generator of a chemistry amplification resist material, and has a fluoro alkoxy chain into a cation part.例文帳に追加

レジスト材料に用いた場合に液浸水への溶出およびパターン依存性（ダーク・ブライト差）が少なく、化学増幅レジスト材料の光酸発生剤として有用である、カチオン部分にフルオロアルコキシ鎖を有するスルホニウム塩の提供。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, capable of forming a resist pattern improved in the elution of a generated acid, line edge roughness, development defects and generation of scums, less liable to profile degradation, and having proper conformability with an immersion liquid in immersion exposure, and to provide a pattern forming method that uses the composition.例文帳に追加

発生酸の溶出、ラインエッジラフネス、現像欠陥、スカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide: a new photoacid generator, suitable as a photoacid generator of a resist material, that controls elution in water especially in ArF immersion exposure, suppresses formation of foreign matter characteristic of immersion exposure, satisfies problems of density dependency and exposure margin, is effectively used, etc.; a resist material using the generator; and a pattern forming method.例文帳に追加

紫外線、遠紫外線、電子線、ＥＵＶ、Ｘ線、エキシマレーザー、γ線、又はシンクロトロン放射線の高エネルギー線に感応し、下記一般式（１ａ）又は（１ｂ）のいずれかで示されるスルホン酸を発生する化学増幅型レジスト材料用の光酸発生剤。 - 特許庁

To provide liquid for liquid immersion exposure exhibiting a large refractive index in the liquid immersion exposure, capable of preventing elution or dissolution of the components of a photoresist film or its overlying film, and suppressing defect at the time of forming a resist pattern.例文帳に追加

液浸露光方法において、屈折率が大きく、フォトレジスト膜あるいはその上層膜成分の溶出や溶解を防ぎ、レジストパターンの生成時の欠陥を抑えることができる液浸露光用液体およびその液体を用いた液浸露光方法の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a coloring agent-containing hardening composition having high sensitivity, high transmittance, high resolution, wide development latitude, excellent in solvent resistance, light resistance, heat resistance and pattern forming property (developing property), free from elution of a dye, excellent in liquid storage property when it is prepared as a liquid composition, and having high productivity.例文帳に追加

高感度、高透過率、高解像力、広い現像ラチチュードを有し、耐溶剤性、耐光性、耐熱性、パターン形成性（現像性）に優れ、しかも染料の溶出がなく、液状組成としたときの液保存性に優れ、生産性の高い着色剤含有硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

The coated granular fertilizer has the surface coated with the coating film containing a low density ethylene homopolymer having physical properties of the following (a)-(c) and one or more kinds selected from polysaccharide and its derivatives and has the timed leaching type elution pattern.例文帳に追加

表面が被膜によって被覆された被覆粒状肥料であり、被膜が、下記（ａ）〜（ｃ）の物性を有する低密度エチレン単独重合体、及び多糖類ならびにその誘導体から選ばれた１種以上を含有する被膜であり、時限溶出型の溶出パターンを有する被覆粒状肥料。 - 特許庁

To provide a resist composition for immersion exposure which inhibits elution into an immersion medium and does not impair the function of resist in an immersion exposure technique, has a high contact angle to the immersion medium, and is capable of forming a fine resist pattern, and a method for manufacturing a semiconductor device using the same.例文帳に追加

液浸露光技術において、液浸媒体への溶出を抑制してレジストの機能を損なわず、前記液浸媒体に対して高い接触角を有し、微細なレジストパターンを形成可能な液浸露光用レジスト組成物、及びそれを用いた半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a printed wiring board allowing for stable and accurate appearance quality check of the opening pattern of a via or stable and accurate check for the presence or absence of the occurrence of elution of copper (Cu) at a land exposed at an opening of a via which has strong correlation with the occurrence of defects in an opening pattern of such a via, and to provide a method of manufacturing the printed wiring board.例文帳に追加

ビアの開口パターンの外観品質を安定的に正確に検査することを可能とした、あるいはそのようなビアの開口パターンの不具合の発生と強い相関関係のある、ビアの開口にて露出するランド部における銅（Ｃｕ）の溶出の発生の有無を安定的に正確に検査することを可能とした、プリント配線板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polymer for forming an overlay film on a photoresist without causing intermixing with the photoresist film and for forming an overlay film that keeps a stable coating film without elution into a medium during liquid immersion exposure, that induces no deterioration of a pattern figure when the film is subjected to not to liquid immersion exposure but to dry exposure, and that is easily dissolved in an alkali developing solution.例文帳に追加

フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト上に被膜を形成でき、液浸露光時の媒体に溶出することなく安定な被膜を維持し、さらに液浸露光でないドライ露光を行なった場合からのパターン形状劣化がなく、かつアルカリ現像液に容易に溶解する上層膜を形成する。 - 特許庁

To provide a resin composition for forming a resist protective film for forming a protective film that does not have affinity with respect to an immersion liquid, can suppress the elution of low-molecular weight components from a resist layer or swelling in a resist film, can be removed easily in a process of alkali development after exposure, and can provide a preferable pattern profile.例文帳に追加

液浸液に対しては親和性を有さず、レジスト層からの低分子成分の溶出やレジスト膜の膨潤を抑制することができるとともに、露光後のアルカリ現像のプロセスで容易に除去でき、良好なパターンプロファイルを得ることができる保護膜を形成できるレジスト保護膜形成用樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which may suppress the elution of a photoacid generator to an immersion liquid and have an excellent immersion liquid follow-up property and further is excellent in roughness characteristics, and an actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

光酸発生剤の液浸水への溶出の抑制と優れた液浸液追随性との両立を可能とし、さらにラフネス特性にも優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a polymer for forming an overlay film on a photoresist without causing intermixing with the photoresist film, and for forming an overlay film that keeps a stable film without inducing elution into a medium on liquid immersion exposure, that induces no deterioration of a pattern figure when the film is subjected not to liquid immersion exposure but to dry exposure, and that is easily dissolved in an alkali developing solution.例文帳に追加

フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト上に被膜を形成でき、液浸露光時の媒体に溶出することなく安定な被膜を維持し、さらに液浸露光でないドライ露光を行なった場合からのパターン形状劣化がなく、かつアルカリ現像液に容易に溶解する上層膜を形成する。 - 特許庁

The decorative glass article for building 10 is composed of a glass sintered compact in which glass tubes 10b consisting of glass having the amount of alkali elution based on JIS R-3502 of 0.3 mg or less are welded together, and has a wavelike uneven pattern 10c with a height difference originated from the shapes of glass tubes 10b of 1.0 mm or more on a design surface 10a.例文帳に追加

本発明の建築用装飾ガラス物品１０は、ＪＩＳ Ｒ−３５０２に基づくアルカリ溶出量が０．３ｍｇ以下であるガラスからなるガラス管１０ｂが互いに熔着したガラス焼結体よりなり、意匠面１０ａにガラス管１０ｂの形状に起因する高低差が１．０ｍｍ以上の波型凹凸模様１０ｃを有する。 - 特許庁

To provide a flexible base material for preventing the generation of ion migration due to the dissolution or elution of the metal components of a barrier layer in a cover lay or moisture or the like containing chlorine components, and for preventing the generation of etching residue by surely dissolving the barrier layer in etching solution with hydrochloric acid as main components in the case of forming a pattern.例文帳に追加

バリア層の金属成分が塩素成分を含有するカバーレイや水分などに溶解あるいは溶出することによるイオンマイグレーションの発生を防止でき、その一方で、バリア層をパターン形成の際に塩酸を主成分とするエッチング液に確実に溶解させて、エッチング残渣の発生も防止できるフレキシブル基材を提供する。 - 特許庁