「flatness」に関連した英語例文の一覧と使い方(71ページ目) - Weblio英語例文検索

The member for cell transcription comprises a cell transcription membrane composed of a cell transcription substrate having a cell transcription layer on one side, a stationary part for maintaining the flatness of cell transcription membrane during a cell culture, a gripping part that is connected to the stationary part and arranged on a face side on which the cell transcription layer of the cell transcription membrane is not formed.例文帳に追加

本発明は、片面に細胞転写層を有する細胞転写基材からなる細胞転写膜と、細胞培養時において、上記細胞転写膜の平坦性を維持する固定部と、上記固定部に接続し、かつ上記細胞転写膜の上記細胞転写層が形成されていない面側に配置された把持部と、からなることを特徴とする細胞転写用部材を提供することにより、上記課題を解決するものである。 - 特許庁

To provide a resin composition capable of producing an optical film superior in compatibility, a phase separation being suppressed, easy to form a film superior in moldability, showing a positive wavelength dependency and having superior transparency at the same time, highly suppressing fine defects such as a dotted defect and also capable of producing a molded article superior in transparency, homogenuity, flatness and less in birefringence.例文帳に追加

本発明は、相溶性に優れ、相分離が抑制され、フィルム化が容易で成形加工性に優れた樹脂組成物であって、正の波長依存性を示し、優れた透明性を有するとともに、点状欠陥などの微細な欠陥を高度に抑制した光学フィルムを製造でき、また、透明性、均質性および平滑性に優れ、複屈折率の小さい成形体を製造できる樹脂組成物を提供することを課題としている。 - 特許庁

To provide a polishing method of a silicon wafer, which polishes the surface of the silicon wafer by applying a predetermined polishing liquid to the surface of a polishing pad and relatively sliding the polishing pad on the silicon wafer fixed by a carrier, and which maintains excellent polishing uniformity and flatness especially for a wafer of a large diameter and effectively suppresses noise generated from the carrier during the polishing.例文帳に追加

本発明の目的は、研磨パッドの表面に、所定の研磨液を塗布し、キャリアによって固定されたシリコンウェーハに対し前記研磨パッドを相対的に摺動させることで、シリコンウェーハ表面を研磨するシリコンウェーハの研磨方法であって、特に大口径のウェーハに対して、優れた研磨均一性及び平坦度を維持するとともに、研磨中にキャリアから発生する騒音を有効に抑制できる研磨方法を提供することにある。 - 特許庁

The solar cell unit 10 includes: at least a resin sheet (resin foamed sheet) 11 that has micro air bubbles superior in smoothness that is equivalent to the flatness of a solar cell; a solar cell 12; an EVA sheet 14 made of thermosetting resin; and a reinforced glass 15 provided on the EVA sheet 14, wherein the solar cell 12 is pinched with the resin foamed sheet 11 and the EVA sheet 14.例文帳に追加

太陽電池ユニット１０は、太陽電池セルの平坦性に追随できるような平滑性に優れる微細気泡を有する樹脂シート（樹脂発泡シート）１１と、太陽電池セル１２と、熱硬化性樹脂であるＥＶＡシート１４と、ＥＶＡシート１４の表面に設けられた強化ガラス１５とから少なくとも構成され、樹脂発泡シート１１とＥＶＡシート１４とによって太陽電池セル１２が挟み込まれた構造である。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a silicon single crystal wafer that simply and effectively reduces minute waviness in a nanotopography region existing on the surface of a general (mirror surface-polishing) silicon wafer, reduces the manifestation of film thickness irregularity of a thin film by the CMP polishing treatment, and has improved nanotopography flatness where reduction in performance in the CMP process is not induced when performing the STI device element separation method.例文帳に追加

ＳＴＩデバイス素子分離手法を実施するに際し、一般のミラー（鏡面研磨）シリコンウエハ表面に存在するナノトポグラフィー領域の微小うねりを簡易に、かつ、有効に減少させ、前記ＣＭＰ研磨処理により形成する薄膜の膜厚ムラの発現を減少させ、ＣＭＰ工程におけるパフォーマンス低下を誘引することがないナノトポグラフィー平坦性が改善されたシリコン単結晶ウエハの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mirror polishing method for grinding silicon wafer without causing machining damage such as scratching and forming a deteriorated layer by machining on a grinding silicon wafer surface, causing little surface roughness, generating little rolled edge, obtaining a high flatness easily, needing little amount of polishing, improving a throughput, having no problem in treating etching waste liquid and causing no damage to a polishing device and jigs.例文帳に追加

研削シリコンウエハ表面にスクラッチや加工変質層の形成などの加工ダメージを与えることがなく、表面粗さが小さく、エッジ部ダレの発生も少なく、高平坦度が容易に得られ、必要研摩量も少なくて済み、スループットが向上し、しかも、エッチング廃液の処理問題もなく、さらにアルカリ廃液の処理問題ならびに研摩装置および治具の損傷等もない研削シリコンウエハの鏡面研摩方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a highly reliable optical semiconductor device in which distortion of a translucent lid due to thermal record of the optical semiconductor device can be prevented, distortion of the translucent lid can be prevented even when the translucent lid is made thin as the optical semiconductor device is reduced in size, flatness of the translucent lid can be ensured, and a normal electric signal can be delivered to an external apparatus or element.例文帳に追加

光半導体装置への熱履歴により発生する透光性蓋体の歪を防止することができ、また、光半導体装置の小型化に伴い透光性蓋体が薄型化されたとしても、透光性蓋体に生じる歪を防止でき、透光性蓋体の平坦度を確保することができ、正常な電気信号を外部の機器や素子などに送ることが可能な信頼性の高い光半導体装置を提供すること。 - 特許庁

The woven fabric is obtained by using a multifilament yarn with a flat cross section as warps and wefts, in which the crosssectional shape of filament is in 1.5-8 flatness ratio and shrinkage percentage in boiling water is 5-10%.例文帳に追加

フィラメントの断面形状が扁平率１．５〜８、沸騰水収縮率が５〜１０％の範囲内にある扁平断面マルチフィラメント糸条を経糸および緯糸として用いた織物であって、該織物の断面において、織物を構成する経糸および緯糸のフィラメントの長軸ａ方向が織物の水平方向となす角度（θ）の余弦（ｈｉ）の総和平均で表した水平度指数（ＨＩ）が０．８５〜１．０となるようにフィラメントの扁平断面の長軸ａが織物の水平方向に配列しており、かつ該織物の分解糸条の残留沸騰水収縮率が０．５〜３．０％の範囲内にあるエアバッグ用ノンコート織物。 - 特許庁

To provide a dust collector capable of ensuring the dust collection efficiency not less than the theoretical value, obtaining the stable dust collection performance when the humidity is high and a dust collection unit is stained, and obtaining high dust collection performance without damaging flatness of an electrode.例文帳に追加

放電を用いたイオン化手段と、電圧印加電極とアース電極からなる集塵部、そして送風ファンの順で構成される電気集塵式集塵装置において、集塵装置に導入された粉塵はイオン化手段で帯電し、電極を一定間隔で積層して電圧を印加することで電界を形成する後段の集塵部で除去されるが、電気集塵装置の理論式から導き出される理論値よりも集塵効率を高くすることができないという課題があり、理論値よりも集塵効率を高いものにすることが要求されている。 - 特許庁