「flatness」に関連した英語例文の一覧と使い方(66ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a means capable of easily controlling the supply ratio of metal and active nitrogen species and forming a nitrogen semiconductor thin film having superior crystal quality and surface flatness for a method of manufacturing the nitride semiconductor thin film in which the metal and active nitrogen species are supplied onto a substrate to react with each other.例文帳に追加

基板上に金属と活性窒素種とを供給して反応させる窒化物半導体薄膜の製造方法において、金属と活性窒素種との供給比率を容易に制御可能とし、且つ、結晶品質や表面平坦性に優れた窒化物半導体薄膜を形成可能とする手段を提供する。 - 特許庁

To provide a NiP plated aluminum alloy substrate for a magnetic disk wherein fine undulation does not occur on the surface of a NiP plated film and the surface having high flatness and high smoothness can be obtained even when a magnetic film is deposited by increasing the temperature of a substrate for enhancing magnetic characteristics and higher recording density can be realized.例文帳に追加

磁気特性を高めるため基板温度を高めて磁性膜を成膜した場合にも、ＮｉＰメッキ膜の表面において微小なうねりが発生せず、高平坦度及び高平滑度の表面が得られ、高記録密度化が可能な磁気ディスク用ＮｉＰメッキアルミニウム合金基板を提供する。 - 特許庁

In this carbon fiber bundle for woven fabrics the fiber bundle contains a sizing agent and has 30-100 flatness ratio (L/D), ≤2.5 frictional coefficient of fiber/metal and 100-1,000 poise viscosity (at 50°C) of an extract consisting essentially of a sizing agent extracted from the carbon fiber bundle for woven fabrics.例文帳に追加

サイズ剤を含有する織物用炭素繊維束であって、扁平率（Ｌ／Ｄ）が３０〜１００、繊維／金属摩擦係数が２．５以下で、前記織物用炭素繊維束から抽出したサイズ剤を主成分とする抽出物の５０℃における粘度が１００〜１０００ポイズであることを特徴とする織物用炭素繊維束。 - 特許庁

By reproducing in this way the form of the end part of each pipe in the assembly process of bevel in the same form as given in the machining process of the pipe end, the bevel is assembled while keeping the flatness of the end face of each pipe with a very high precision in the same level given in the machining process of the pipe end.例文帳に追加

このように開先組立工程の各管体の端部形状を、管端加工工程での形状と同一形状に再現することにより、各管体の端面の平面度を、管端加工時と同程度の極めて高い精度に保持して開先を組み立てることができ、高精度の開先形成が可能となる。 - 特許庁

To provide a ceramic jig for polishing wafers used in polishing a plate shape body, such as semiconductor wafers, which is able to improve flatness and parallelism of the wafers without being corroded even in alkaline chemicals and ultrasonic waves used in a cleaning process of the jig for polishing the wafer.例文帳に追加

半導体ウエーハ等の板状体の研磨加工に使用されるセラミック製ウェーハ研磨治具において、ウェーハ研磨治具の洗浄工程で使用されるアルカリ性の薬液や超音波等にも侵されることなく、ウエーハの平坦度、平行度等の精度を向上させるセラミックス製ウェーハ研磨治具を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having a high leveling effect, forming a photosensitive resin layer excellent in flatness even when a colorant is included, and reducing defects and marks of pins, and to provide a color filter and a liquid crystal display produced using the photosensitive resin composition.例文帳に追加

レベリング効果が高く、着色剤を含有する場合であっても平坦性に優れた感光性樹脂層を得ることが可能であり、かつ、ディフェクトやピン跡の発生を低減することが可能な感光性樹脂組成物、並びにその感光性樹脂組成物を用いて製造されたカラーフィルター及び液晶表示ディスプレイを提供する。 - 特許庁

To provide a coating method of a web and its coating method which depend on an intermittent coating capable of realizing a flatness of the web coating surface and a uniformity of a coating film thickness while there is no need for a high running accuracy and a high-accuracy tension-control of the web and also no influences of a deformation such as an elongation, lines and habits.例文帳に追加

ウエブの高い走行精度と高精度張力制御が必要なく、ウエブの伸び、皺、癖等の歪みの影響も無く、ウエブ塗工面の平面性、塗工膜厚の均一性を実現できる間欠塗工によるウエブの塗工装置およびその塗工方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an ink-jet ink for color filters excellent in productivity of color filters and capable of giving a color filter excellent in flatness of a pixel part, having small variation of color density in the pixel part, and excellent in display quality with no color unevenness, a color filter using the ink, a method for manufacturing the color filter and a display device.例文帳に追加

カラーフィルタの生産性に優れ、且つ画素部の平坦性に優れ、画素部内の色濃度のばらつきが小さく、色ムラのない表示品質に優れたカラーフィルタを製造可能なカラーフィルタ用インクジェットインク、このインクを用いたカラーフィルタ、及びその製造方法、並びに表示装置を提供する。 - 特許庁

When the flatness is out of the range, the package 1 is contacted with the working surface of a blade 11a, and the ball terminal is ground so that an imaginary flat surface parallel to the one flat surface in which the ball terminals including the vertex of the most protruded ball terminal are arrayed is retracted to the one flat surface side by a predetermined distance.例文帳に追加

その平坦度が規定値範囲外のときは半導体パッケージ１を回転しているブレード１１ａの加工面に接触させ、最も突出したボール端子の頂点を含みボール端子が配列された一平面に平行な仮想平面を一定の距離だけ一平面側に後退させるように、ボール端子を研削する。 - 特許庁

On a table 18 on which an object W is placed, a standard plate having a reference plane having high flatness at its central part and an almost annular low-rigidity section having lower rigidity that the other section has at part of the outer peripheral section of the reference plane is fixed with plate springs disposed at a plurality of spots in the outer peripheral section of the standard plate.例文帳に追加

物体Ｗが載置されるテーブル１８上に、その中央部に平坦度が高い基準平面を有し、基準平面の外周部の一部に他の部分より剛性が低い概略環状の低剛性部が形成された基準板が、外周部の複数箇所に配置された板ばねによって固定されている。 - 特許庁

To provide a silver-containing composition containing acetonedicarboxylic acid silver having a high silver content, capable of obtaining a metallic silver film excellent in conductivity, flatness and adhesion even by short-time heating at a low temperature below a decomposition temperature of a silver salt, and having high storage stability, and to provide a substrate including a metal silver film formed by using the silver-containing composition.例文帳に追加

高銀含有率のアセトンジカルボン酸銀を含み、銀塩の分解温度未満の低温で、且つ短時間の加熱でも導電性、平坦性、密着性に優れた金属銀膜が得られる、保存安定性の高い銀含有組成物、およびそれを用いて形成した金属銀膜備える基材を提供すること。 - 特許庁

To provide a polishing composition in which polishing rates of a copper film, a tantalum compound barrier layer, and an SiO_2 insulating layer are substantially the same degree, and in which dishing, flatness are improved by an excess polishing method in the CMP working process of a semiconductor device having a copper film, a tantalum compound barrier layer and an SiO_2 insulating layer.例文帳に追加

銅膜、タンタル化合物のバリア層、ＳｉＯ_２の絶縁層を有する半導体デバイスのＣＭＰ加工プロセスにおいて、銅膜、タンタル化合物のバリア層、ＳｉＯ_２の絶縁層の研磨速度がほぼ同程度であり、ディッシング、平坦性がオーバーポリシング法より改善される研磨用組成物を提供する。 - 特許庁

When the quantization error is small, the dynamic image coding apparatus discriminates whether or not partial pixels of a present macro block include a visually conspicuous noise on the basis of a flatness flat and a noise Noise detected by each of 4×4 pixel blocks resulting from applying 1/16 division to the present macro block, and selects in-frame coding when the partial pixels include the visually conspicuous noise.例文帳に追加

量子化誤差が小さい場合には、現マクロブロックを１６分割した４×４画素のブロック毎に検出した平坦度ｆｌａｔおよびノイズＮｏｉｓｅに基づき現マクロブロックの一部画素に視覚的に目立つノイズがあるかどうかを判断し、視覚的に目立つノイズがあればフレーム内符号化を選択する。 - 特許庁

Accordingly, when the mounting surface 10a is processed, the support member 2 firmly supports the plate 10 while securing flatness of the mounting surface 10a and, even when a guide rail 17 or the like is attached to the mounting surface 10a and a mobile body 3 is mounted thereon, the support member supports the mobile body by reducing distortion and flexure.例文帳に追加

従って、支持部材２は、取付面１０ａが加工される際に、この取付面１０ａの平面度を確保しながらプレート１０をしっかりと支持すると共に、取付面１０ａにガイドレール１７等が取り付けられて移動体３が乗せられた場合でも、歪やたわみを減少させて移動体を支持する。 - 特許庁

To provide a hot plate unit of which a flatness control of the contacting part of a supporting case and a ceramic base board is unnecessary, enabled to make the contact area of the supporting case and the ceramic base board small, with small heat dispersion at the ceramic base board, and with an uniform heat distribution at the heating plane of the ceramic base board.例文帳に追加

支持容器のセラミック基板と接触する部分の平面度を管理する必要がなく、支持容器とセラミック基板との接触面積を小さくすることができ、セラミック基板からの熱の逃散が少なく、セラミック基板の加熱面の温度を均一にすることができるホットプレートユニットを提供すること。 - 特許庁

The hollow fiber membrane bundle is one prepared by parallelling many wave-formed hollow fiber membranes 41 having an outside diameter of 0.7-2.5 mm, wherein the degree of flatness of each hollow fiber membrane 41 is 0.9-1.0, the degree of bulkiness represented by the following formula is 1.45 to below 2.00.例文帳に追加

外径が０．７ｍｍ以上２．５ｍｍ以下であるウェーブを有した中空糸膜４１の多数を引き揃えた中空糸膜束であって、該中空糸膜４１の偏平率が０．９以上１．０以下でありかつ、下記式で示される嵩高度が１．４５以上２．００未満であることを特徴とする中空糸膜束。 - 特許庁

To provide a platelike composite material which has bending strength and fitting properties suitable for the construction of furniture furnished in a building, with required plate thickness and surface decorative properties and is lightweight with high design freedom in fitting of members and retained surface flatness as well as a platelike composite material which is used for easily producing the furniture.例文帳に追加

住設家具の構成に適する曲げ強さと取付け性とを有し、所要の板厚と表面化粧性を備えると共に、軽量で、部材の取り合いにおける設計の自由度の高い表面の平面性の保たれた板状複合材の提供と、これを容易に製造し得る板状複合材の提供。 - 特許庁

In the manufacturing method of a semiconductor device using the exposure device, surface flatness of the reflective mask 20 is enhanced by adjusting the internal pressure of the voids 11 after the reflective mask 20 is held on the electrostatic chuck 10 for reflective mask, thereby changing the surface shape of the electrostatic chuck 10 for reflective mask.例文帳に追加

当該露光装置を用いた半導体装置の製造方法では、反射型マスク２０を反射型マスク用静電チャック１０に保持させた後、空隙１１内の内部圧力を調整して反射型マスク用静電チャック１０の表面形状を変化させることで、反射型マスク２０の表面平坦度を高める。 - 特許庁

Since a level difference part with an upper face whose flatness is ensured is provided in a direction perpendicular to the vibration direction of a diaphragm, the stiffness of the neck of the diaphragm is reduced by decreasing the strength of the level difference part at the drive of the diaphragm with the result that the occurrence of the unnecessary peak around the higher limit frequency is suppressed.例文帳に追加

振動板の振動方向と垂直な方向に平坦性が確保された上面を有する段差部を設けているので、その駆動時に、その段差部の強度が下がり振動板のネックのスティフィネスが小さくなり、高域限界周波数付近に不要なピークが生じるのを抑制する。 - 特許庁

Furthermore, based on a measured distance from a workpiece obtained by using two laser rangefinders, a length meter and calculation device, the flatness is calculated by continuously obtaining a measured distance difference between 2 adjoining points in the longitudinal direction of a workpiece, conducting an integral calculation in each zone having the same inclination and deducting an offset amount preset for each zone.例文帳に追加

また、２台のレーザ距離計と長さ計と演算装置とを用いて求めた圧延板との測定距離をもとに、隣接する２点間の測定距離差を圧延板長手方向に連続して求め、同一傾きを有する区間ごとに積分し、各区間ごとに予め定めたオフセット量を差し引いて、平坦度を算出する。 - 特許庁

To uniformly and excellently perform etching treatment while preventing a silicon wafer from being damaged by eliminating a rotation defect by eliminating the drop of the silicon wafer from a groove of a holding bar, and to improve flatness in the outer periphery of the silicon wafer by suppressing, as small as possible, the area of the outer periphery not in contact with an etching liquid.例文帳に追加

シリコンウェーハの保持バーの溝からの脱落をなくし回転不良をなくすことで、シリコンウェーハの破損を防止しエッチング処理をムラなく良好に行えるようにするとともに、外周部でエッチング液が接触しない面積を極力小さく抑えることでシリコンウェーハの外周部の平坦度を向上させる。 - 特許庁

To provide a release film excellent in heat resistance, not to cause deterioration in flatness, excellent also in oligomer deposition-inhibiting property, even when subjected to a heat treatment at a high temperature in a processing step for applying it to various uses, further excellent in processing properties in sticking, slit/cutting or the like, and applicable to various uses.例文帳に追加

種々の用途で使用するための加工工程において高温で熱処理された場合でも、平面性が悪化せず、耐熱性に優れ、また、オリゴマーの抑止性にも優れ、さらに、張り合わせ時やスリット・裁断等の加工適性に優れ、各種用途への展開可能な離型フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a groove-machining device capable of correctly machining a groove of a predetermined shape in a side face of a tubular member by a simple mechanism by maintaining flatness (roundness) of an outer circumference and suppressing occurrence of slump in an edge part of the groove without using cutting to generate chips or without inserting a core in the diameter of the tubular member.例文帳に追加

切粉の発生する切削によらず、また、芯金をパイプ部材の径内に挿置することによらず、外周の偏平度（真円度）を保って溝の縁部におけるダレの発生を抑え、所定形状の溝をパイプ部材の側面に簡単な機構で正確に付形可能な溝の加工装置を構成する。 - 特許庁

By this, while nearly flatness of the image display region 15 is secured, the contact pressure at a barrier rib 4 by the front face substrate 2 and the rear face substrate 3 exists in the inside of at least either the front face substrate 2 or the rear face substrate 3, and the gap is hardly formed between the front face substrate 2 and the barrier rib 4.例文帳に追加

このことにより、画像表示領域１５の略平坦性は確保されたまま、前面基板２と背面基板３とが隔壁４で圧接する力を、前面基板２、背面基板３の少なくとも一方に内在した構成となり、前面基板２と隔壁４との間に隙間は生じ難くなる。 - 特許庁

To provide a metal polishing composition excellent in polishing speed of a conductor film mainly made of copper or copper alloy, having the polishing speed uniform within a plane of the conductor film and capable of production of a semiconductor device with improved flatness, and a chemical mechanical polishing method using the composition.例文帳に追加

主として銅または銅合金からなる導体膜の研磨速度に優れ、その研磨速度が導体膜の面内において均一であり、且つ平坦性の向上された半導体デバイスの作製を可能とする金属研磨用組成物、及びそれを用いた化学的機械的研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a printed material that is inexpensively manufactured through an easy process using an ink ejecting system for solving problems and to provide a printed material that prevents color mixing and a white void and has high quality and high reliability with preferable flatness of pixels by color ink.例文帳に追加

本発明は上記問題を解決するためになされたものであり、インキ吐出方式を利用して簡易なプロセスで安価に製造する印刷物において、混色と白抜けを防止し、さらに着色インキの画素の平坦性が良好な、高品質で信頼性の高い印刷物を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a workpiece dimension measuring apparatus and a workpiece dimensional measuring method capable of achieving reduction of operation costs from dimension measurement up to preparation of inspection records after measurement and shortening the operation time while achieving improvement of measuring accuracy, and capable of obtaining also three-dimensional data of flatness, distortion, and so on.例文帳に追加

計測精度の向上を実現したうえで、寸法計測から計測後の検査記録作成までの作業コストの低減及び作業時間の短縮を実現でき、平坦度や捻れ等の三次元データをも得ることが可能であるワーク寸法計測装置及びワーク寸法計測方法を提供する。 - 特許庁

To provide an abrasive slurry and abrasive fine powder therein capable of attaining high abrasive speed while attaining such a high-accuracy surface polish as to be high in surface flatness, low in surface roughness and substantially produce neither surface microscratches nor micropits in making a precision polishing of electronics-related substrates or the like.例文帳に追加

エレクトロニクス関連の基板等の精密研磨において、表面平坦性が高く、表面粗さが小さく、表面の微小スクラッチや微小ピット等をほとんど生じさせないような精度の高い表面研磨を達成しつつ、かつ、速い研磨速度を達成することができる研磨材スラリー及び研磨微粉を提供すること。 - 特許庁

To provide a structure related to a concrete side ditch lid creating no rattling sound or other noises even though there are errors in shape between a side ditch lid receiving edge and the bottom surface of a lid plate which guarantees the flatness for the lid surface in the case where many side ditches continue along roads.例文帳に追加

側溝ブロックの受け縁と蓋板下面との間に形状誤差が存在する場合にも側溝蓋のがたつきや騒音の発生のないコンクリート製側溝蓋に関するもので、がたつきや騒音がなく、かつ道路側溝のように多数が連続したときの蓋表面の平坦性も保証できる構造を提供する。 - 特許庁

This prevents cracks from being generated, suppresses creep-up growth from a bottom side grown part of the trench region to suppress the increase of the film thickness of a side grown part, thereby obtaining a nitride semiconductor laser element with a nitride semiconductor grown layer having good surface flatness at a high yield.例文帳に追加

このことにより、クラックの発生を防止し、併せて、前記掘り込み領域の底面成長部からの這い上がり成長を抑制し、側面成長部の膜厚を抑えることで、表面平坦性の良好な窒化物半導体成長層が形成された窒化物半導体レーザ素子を高い歩留まりで得ることができる。 - 特許庁

To provide a polishing method which can continuously polish a substrate having an insulating film, a barrier metal film and a conductor film with the same polishing solution for metal, can obtain good flatness of a wiring portion and an insulating film convex portion, and can reduce scratches, and to provide a polishing solution for metal used therefor.例文帳に追加

絶縁膜、バリア金属膜及び導体膜を有する基板を、同一金属用研磨液で連続的に研磨することが可能であり、配線部と絶縁膜凸部の平坦性が良好で、かつ、スクラッチを低減することが可能な研磨方法及びそれに用いる金属用研磨液を提供する。 - 特許庁

The transparent layer 2 formed by the sol-gel method is a dense layer, has a high blocking effect against gas such as water vapor, and not only blocks the transmission of gas but also flattens the surface of the transparent laminated plate 1 by filling up the irregularity of the surface with the transparent layer 2 to enhance the surface flatness.例文帳に追加

ゾルゲル法で形成される透明層２は緻密な層であり、水蒸気などのガスを遮断する効果が高く、ガスが透過することを遮断することができると共に、また透明積層板１の表面の凹凸をこの透明層２で埋めて平坦にならすことができ、表面の平滑性を高めることができる。 - 特許庁

To provide a photosensitive permanent resist film which ensures a good film of a permanent pattern covering angular portions of a conductor circuit formed on a printed wiring board, high flatness of the whole surface of the permanent pattern, high definition and excellent production efficiency, and to provide a permanent pattern forming method using the photosensitive permanent resist film.例文帳に追加

プリント配線板上に形成された導体回路の角部を覆う永久パターンの被膜が良好であり、永久パターン全面の平坦度が高く、高精細であり、かつ生産効率の優れた感光性永久レジストフィルム及び該感光性永久レジストフィルムを用いた永久パターン形成方法の提供。 - 特許庁

A foundation layer 112 is formed so as to have recessed parts 123 or aperture parts 125 in the boundary areas between adjacent dots 121, so that the height of, for example, a shielding layer 115 formed by a color layer 114 can be reduced and the flatness of the surfaces of individual dots 121 and boundary areas between adjacent dots 121 can be secured.例文帳に追加

隣り合うドット１２１間の境界領域で凹部１２３又は開口部１２５を有するように下地層１１２を形成したので、着色層１１４による例えば遮蔽層１１５の高さを低くでき、各ドット１２１と隣り合うドット１２１間の境界領域との表面の平坦性を確保できる。 - 特許庁

As the filling material 78 is supported by the support 79, even when a process accompanied with heat treatment is performed after the oscillating board 48 is formed, shrinking deformation by the heat treatment as well as other deformation is hardly generated, and the smoothness and flatness of the surface of a silicon substrate 70 can be furthermore held.例文帳に追加

充填材７８は、支柱７９によって、支持されるので、振動板４８の形成後に熱処理を伴う工程が行われた場合であっても、その熱処理による縮み変形を起こしにくく、また、その他の変形を起こしにくくなり、シリコン基板７０の表面の平滑性や平坦性をより保てる。 - 特許庁

To provide an image forming method which can solve a problem such as difference-in-level feeling of a toner image, and bronze phenomenon at the same time, removes image inhomogeneity due to surface ruggedness formed by the toner image on recording material, does not color the brilliance of the image and can provide the high-flatness and high-quality toner image.例文帳に追加

トナー画像の段差感とブロンズ現象といった問題を同時に解決し、記録材上のトナー画像により形成される表面凹凸による画像不均一性をなくし、かつ画像の光沢に色のつくことがない、平滑性の高い、高品位なトナー画像を得ることのできる画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a contact with a structure in which barrier parts are provided in four direction around an elastic contact part to prevent intrusion of foreign materials in a movable area of the elastic contact part and flatness of a solder-jointed surface is not deteriorated when the barrier parts are formed in a bending process.例文帳に追加

弾性接触部の周囲において四方に障壁部を設けることで、弾性接触部の可動域に異物が入り込んでしまうのを抑制でき、その障壁部を折り曲げ加工で形成した際、はんだ接合面の平面度を低下させてしまうこともない構造とされたコンタクトを提供すること。 - 特許庁

To obtain a laser oscillator that suppresses the deformation of a cooling flange so as to follow a flange presser and a base when fastening and fixing the cooling flange to which an optical element is brought into contact for cooling the optical element by sandwiching the cooling flange by the flange presser and the base and precisely keeps the flatness of the optical element in contact with the cooling flange.例文帳に追加

光学素子が当接され光学素子を冷却する冷却フランジを、フランジ押さえとベースで挟んで締結固定する時に、冷却フランジがフランジ押さえやベースに倣い変形することを抑制し、冷却フランジに接触する光学素子の平面度を高精度に保つレーザ発振器を得る。 - 特許庁

To provide a mold capable of maintaining its flatness, and having an aligning structure able to be constituted so as not to hinder the hardening of a resin on the work side in imprint, a manufacturing method of mold, an imprint device and an imprint method, and a manufacturing method of a structure using imprint method.例文帳に追加

モールドの平坦性を維持することができ、インプリントにおいて被加工物側の樹脂の硬化を妨げないように構成することが可能な位置合わせ構造を有するモールド、モールドの製造方法、インプリント装置及びインプリント方法、インプリント方法を用いた構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a filter for reducing color uneveness and display speed uneveness, by being discharged in a shading layer opening part, improving the flatness of a formed coloring layer and uniformizing the distance between the color filter and an opposite TFT substrate in an LCD panel in an ink jet system, and to provide a method for manufacturing the color filter.例文帳に追加

インクジェット方式において、遮光層開口部内に吐出、形成された着色層の平坦性を向上させ、ＬＣＤパネルに於けるカラーフィルタと対向するＴＦＴ基板との距離を均一化させる事により、色ムラや表示速度ムラの低減が可能なカラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法の提供すること。 - 特許庁

The polishing pad is structured as combination of doughnut-like forms and hardness of the combined artificial leather pads are changed so that the difference of surface roughness in polishing surfaces of the outer circumferential part and the inner circumferential part of the workpiece, is reduced and uniformity of accuracy of parallelism/flatness and the like is enhanced and thus production efficiency is improved.例文帳に追加

研磨パッドをドーナツ状の形状の組み合わせとし、その組み合わせている人工皮革パッドの硬度を変化させることにより、ワークの外周部と内周部での研磨面の面粗さのバラツキの減少、平行・平坦度等の精度の均一性が図られ生産効率の向上を達成する。 - 特許庁

This prevents cracks from occurring, suppresses creep-up growth from a bottom side growth part of the trench region to restrain the film thickness of a side face growth part, thereby obtaining a nitride semiconductor laser element formed with a nitride semiconductor growth layer having excellent surface flatness at a high yield.例文帳に追加

このことにより、クラックの発生を防止し、併せて、前記掘り込み領域の底面成長部からの這い上がり成長を抑制し、側面成長部の膜厚を抑えることで、表面平坦性の良好な窒化物半導体成長層が形成された窒化物半導体レーザ素子を高い歩留まりで得ることができる。 - 特許庁

To provide technology capable of finishing a wafer of high flatness without a taper shape, outer peripheral sag, etc. without requiring extensive improvement of a double side polishing device especially even in the case of polishing the wafer by using a hard polishing cloth on the both side polishing device furnished with a carrier not to autorotate but to take a circular motion.例文帳に追加

両面研磨装置、特に、自転しない円運動をするキャリアを備える両面研磨装置において硬質研磨布を用いて研磨を行う場合でも、装置の大きな改良を必要とせず、テーパ形状や外周ダレ等のない高平坦度のウエーハに仕上げることができる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a color filter substrate and its manufacturing method with which appearance of a gap part is suppressed while assuring surface flatness of a droplet ejected into a color pixel region and variation in color tones of color pixels is suppressed even if a size of the color pixels is large and further to provide a liquid crystal display device, its manufacturing method and an electronic appliance.例文帳に追加

色画素のサイズが大きくても、色画素の領域内に吐出した液滴の表面の平坦性を確保するとともに空隙部の発生を抑え、色画素の色調のバラツキが抑制されたカラーフィルタ基板及びその製造方法、液晶表示装置及びその製造方法並びに電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide a method of polishing a semiconductor device by which the remaining film of a conductor film and a barrier metal film can be continuously polished by the same metal polishing liquid in a substrate comprised of an insulation film, a barrier metal film and a conductor film, flatness is enough for a wiring part and a convex of the insulation film and scrtch can be reduced.例文帳に追加

絶縁膜、バリア金属膜及び導体膜を有する基板を、同一金属用研磨液で連続的に導体膜の残膜とバリア金属膜とを研磨することが可能であり、配線部と絶縁膜凸部の平坦性が良好で、かつ、スクラッチを低減することが可能な半導体デバイスの研磨方法を提供する。 - 特許庁