「flatness」に関連した英語例文の一覧と使い方(70ページ目) - Weblio英語例文検索

In a manufacturing step of the photomask, a crack assembly area 17 comprising a crack 16 distribution is formed in the mask 6 by irradiation with a femto-second pulse laser, the flatness of the mask 6 is improved by a tensile stress operated thereto and, thereby, the precision of drawing position of the circuit pattern 5 and the yield of the semiconductor wafer on which the circuit pattern is formed can be improved.例文帳に追加

フォトマスクの製造工程において、フェムト秒パルスレーザを照射することによりマスク６内にクラック１６の分布からなるクラック集合領域１７を形成させ、そこに働く引張応力によってマスク６の平坦度を改善することで、回路パターン５の描画位置精度および回路パターンが形成される半導体ウエハの歩留まりを向上させることができる。 - 特許庁

To provide a surface smoothing method for a silicon wafer before final polishing capable of previously improving the flatness of a wafer surface after rough polishing before final polishing when the final polishing is applied to the surface of the silicon wafer after the rough polishing is applied and stably securing the surface characteristic of the wafer after the final polishing in a manufacturing step of the silicon wafer, and a surface smoothing device for the method.例文帳に追加

シリコンウェーハの製造工程において、シリコンウェーハ表面に粗研磨を施した後に仕上研磨を施すに際し、粗研磨後のウェーハ表面の平坦度を仕上研磨前に事前に改善し、仕上研磨後のウェーハの表面特性を安定して確保することができる仕上研磨前シリコンウェーハの表面平坦化方法およびその表面平坦化装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method in which a single crystal can be produced with high yield using a crystal pulling process capable of manipulating the single crystal cost-efficiently in a simple form, and the single crystal can be processed by a suitable surface treatment for forming a semiconductor wafer with less defects so that the semiconductor wafer has a particularly high final flatness not limited by fluctuation of impurity concentration.例文帳に追加

単結晶を、コスト効率よく、簡単な形式で操作することができる結晶引上げプロセスを用いて、高い歩止まりで製造し、該単結晶を、欠陥の少ない半導体ウェハを形成するために適当な表面処理により処理することができ、該半導体ウェハが、不純物濃度の変動により制限されない特に高い最終フラットネスを有している方法を提供する。 - 特許庁

The connection device of the flexible printed board and electronic component is characterized by that the connection device includes a carrier of a two-layered structure for holding the electronic component in connection work, a component support plate arranged in the carrier, and a connection stage on which the carrier is mounted and which adjusts flatness of the electronic component by the component support plate and a buffering mechanism included in an attached adjustment seat.例文帳に追加

接続作業に際して電子部品を保持する２層構造のキャリアと、そのキャリア内に配置された部品支持板と、このキャリアを載置して、付設の調整台座が備える緩衝機構と部品支持板とにより電子部品の平面度調整を行う接続ステージとからなることを特徴とするフレキシブルプリント基板と電子部品の接続装置である。 - 特許庁

To provide a microfabricated PN junction interface with good flatness by reducing low-frequency noise by solving problems of cooling within a range of, especially, 270 to 150°C during formation of a P-type region as a base before an N-type impurity is added such as a P-type wafer substrate of a MOS integrated circuit and a base region of an NPN transistor of a bipolar integrated circuit etc.例文帳に追加

ＭＯＳ集積回路のＰ型ウェーハ基板やバイポーラ集積回路のＮＰＮトランジスタのベース領域など、Ｎ型不純物を添加する以前の下地となるＰ型領域形成時の特に２７０〜１５０℃の範囲の冷却には問題があり、それらの問題を解決し低周波雑音を低減し、平坦性の良い微細化ＰＮ接合界面を提供する。 - 特許庁

To provide an etching gas flow controller of a local dry etching device according to capable of facilitating the setting of optimum overhang amounts and clearance amounts corresponding to roll-off shapes different at each semiconductor wafer, capable of controlling an etching amount according to the shape of a semiconductor wafer outer peripheral part, and achieving improvement in the flatness of a semiconductor wafer outer peripheral edge such as roll-off and an SFQR.例文帳に追加

半導体ウェハ毎に異なるロールオフ形状に対応した最適なオーバーハング量、クリアランス量を容易に設定可能であり、半導体ウェハ外周縁部の形状に応じたエッチング量の制御が可能で、ロールオフ、ＳＦＱＲ等の半導体ウェハ外周縁部の平坦度をも向上できる局所ドライエッチング装置のエッチングガス流制御装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an electron emitting element and its manufacturing method, capable of realizing satisfactory surface flatness of an anodic oxide insulating layer, of realizing enhanced withstand voltage properties, and of stabilizing the trajectories of emitted electrons, and providing an electron source, a photographing device and an image forming device, each using the same and capable of improving the reproducibility (resolution) of information signals to be handled.例文帳に追加

陽極酸化絶縁層について表面の平面性を良好にできて耐圧性も向上でき、放出電子の軌道を安定化でき、これを用いた電子源，撮像装置，画像形成装置について、扱う情報信号の再現性（解像度）を向上できる電子放出素子及びその製造方法とそれを用いた電子源，撮像装置，画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide various substrates having good flatness and surface roughness in a high-precision area with the material of itself without providing a coated layer and the like, preferably a substrate for a liquid crystal display, a substrate for an electronic device such as a semiconductor wafer and information recording substrate, and further preferably, a mask substrate for EUV lithography; and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

被覆層等を設けることなくそれ自身の材料のみで、高精度領域における良好な平面度と表面粗さを兼ね備えた各種基板、好ましくは、液晶ディスプレイ用基板、半導体ウエハーまたは情報記録媒体用基板等の電子デバイス用基板、より好ましくはＥＵＶリソグラフィー用マスク基板、およびそれらの製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a liquid crystal optical modulator capable of easily obtaining excellent electrooptical characteristics at a low cost without using an alignment film such as a polyimide film causing the generation of fine dust and static electricity and deterioration in flatness of a substrate surface, and a liquid crystal-resin complex requiring photopolymerizing reaction processing and a high applied voltage, and also to provide a liquid crystal display device using the same.例文帳に追加

微細塵や静電気の発生および基板表面の平坦性の劣化を招来するポリイミド膜等の配向膜、ならびに光重合反応処理や高印加電圧が必要とされる液晶・樹脂複合体を使用することなく、良好な電気光学特性を簡易かつ低コストで得ることのできる液晶光変調器およびそれを用いた液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a semiconductor stacked structure which can improve the performance and reliability of a light emitting element or electron traveling element having n-type gallium nitride compound semiconductor layers without degrading the surface flatness and crystallinity of the compound semiconductor layers even when the concentrations of an n-type impurity in the semiconductor layers are increased, a semiconductor device provided with the structure, and a method for growing crystal.例文帳に追加

ｎ型不純物濃度を増加させた場合においてもｎ型窒化ガリウム系化合物半導体の表面平坦性や結晶性を損なうことが無く、ｎ型窒化ガリウム系化合物半導体層を有する発光素子や電子走行素子を高性能化、高信頼化することができる半導体積層構造とそれを備えた半導体素子及び結晶成長方法を提供する。 - 特許庁

The insulating layer 5 is selectively prehardened in the surface hardening exposure process only on the surface (top end face 6) of the segments subjected to surface drying and exposing by I rays and the segments not exposed by the I rays are selectively fluidized and inclined by having roundness while the flatness of the top end face 6 is maintained in the heating surfaces and finally the entire part is hardened.例文帳に追加

この絶縁層５では、表面硬化露光プロセスにおいて、Ｉ線により表面乾燥露光された部分の表面（上端面６）のみが選択的にプレ硬化されると共に、加熱プロセスにおいて、上端面６の平坦性が維持されたまま、Ｉ線により露光されなかった部分が選択的に流動して丸みを帯びて傾斜したのち、最終的に全体が硬化する。 - 特許庁

Thus, the flatness of the film 104a is improved.例文帳に追加

酸素を含む雰囲気下で半導体膜１０４ａに第１のレーザー光の照射（エネルギー密度４００〜５００ｍＪ／ｃｍ^2）を行って結晶化させた後、第１のレーザー光の照射で形成された酸化膜１０５ａを除去し、その後に酸素を含まない雰囲気下で第２のレーザー光の照射（第１のレーザー光の照射におけるエネルギー密度より高く、ショット数が少ない）を行うことで半導体膜１０４ｂの平坦性を向上させる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor integrated circuit device which improves a manufacturing margin in an wiring process and eliminates a large area pad exclusively used for connecting wires between a substrate and a semiconductor chip, by easily realizing a complete flatness of the surface of a substrate and semiconductor chip when arranging the semiconductor chip in a groove provided in a substrate such as a wafer.例文帳に追加

ウェハ等の基板に設けられている溝に半導体チップを配置する際、基板と半導体チップ表面の完全平坦性を容易に実現することにより、配線工程の製造マージンを向上させ、基板と半導体チップ間の配線接続時に使用していた配線接続専用の大面積パッドを不要とした、半導体集積回路装置の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

Non-flat etching defective peripheral portions of a wafer due to deviation of inner and outer peripheral portions of the wafer in etching and the etching quantity difference, caused by the etching solution feed rate difference or non-flat polishing defective peripheral portions of the wafer, due to its biting into the polishing cloth in mirror-surface working are ground off mechanically, to leave only the inner portion of the wafer superior in flatness.例文帳に追加

エッチング加工時のウエハ内外周の偏り及びエッチング液供給の相違に伴って生じるエッチング量の差が原因のウエハ外周の非平坦な「エッチングダレ」部分、或いは鏡面加工時の研磨クロスへの食い込みに伴って生じるウエハ外周の非平坦な「研磨周辺ダレ」部分を機械的に研削除去することにより平坦度に優れたウエハの内部のみが残る。 - 特許庁

A chart pattern image 2 is emitted from a reference point to a plurality of points on an object face Oj to be focused on a plurality of measuring points determined on the object face, a reflected image from each point is photoelectrically detected at a conjugate point of the reference point, and a flatness of the object face Oj is measured on the basis of the detected value.例文帳に追加

対象面Ｏｊ上の複数の点に対して基準点からチャートパターン像２を出射して前記対象面に設定した複数の測定点において結像させると共に、各点からの反射像をそれぞれ前記基準点の共役点において個々に光−電気的に検出し、その検出値に基づいて前記対象面Ｏｊの平面度を測定すること。 - 特許庁

An insulating film that can cope with the further reduction of the width of future TFTs, can get a sufficient insulating property and flatness even when the thickness of the film is reduced, and is typically used as an interlayer insulating film, or gate insulating film can be obtained by nitriding an applied film using a siloxane-based polymer (SiO_x film containing an alkyl group) with plasma.例文帳に追加

本発明は、シロキサン系ポリマーを用いた塗布膜（アルキル基を含むＳｉＯｘ膜）にプラズマ窒化処理を行うことによって、今後のＴＦＴにおけるさらなる微細化に対応可能な絶縁膜、且つ、膜厚を薄くしても十分な絶縁性および平坦性を有する絶縁膜を得ることができ、代表的には層間絶縁膜やゲート絶縁膜に用いる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a structure which is regulated in a wide area and can be applied to electromagnetic devices such as an optical device and a magnetic device in a simple process by removing visible scratches appearing on a high purity aluminum plate to obtain a mirror surface and then anodizing the surface to improve the surface flatness of the anodized nanostructure.例文帳に追加

高純度アルミニウム上に発生する目視可能な傷を除去し鏡面状態にした後，陽極酸化をおこない、陽極酸化ナノ構造体の表面の平坦性を向上させ，簡易な工程で光学デバイスや磁気デバイスなどの電磁気的デバイスに応用可能な、広い面積で規則化された構造体を得ることができる製造方法を提供する。 - 特許庁

To stably ensure sealability of each of a large number of cans with screw wherein the mouth/neck part thereof is formed integrally out of a metal sheet by a method wherein the top of an outward curled part of the mouth thereof is formed simply in flatness, and to heighten therewith the entire strength at the mouth/neck part against a vertical load applied from above.例文帳に追加

金属薄板により口頸部が一体成形されるネジ付き缶について、外巻きのカール部の頂部を常に同じような平坦面に簡単に形成できるようにすることで、多数の缶のそれぞれの密封性を安定的に確保できるようにすると共に、上方からの垂直荷重に対する口頸部の全体的な強度を更に高められるようにする。 - 特許庁

To provide a cutting method maintaining a high sharpness without damaging a cutting edge of a blade, wearing a side surface and depositing a cutting chip on the side surface even in the case where cutting is repeated against a large number of objects in a manufacturing step of a hollow fiber membrane module to stably feed the hollow fiber membrane module having a good flatness of the formed cutting surface.例文帳に追加

中空糸膜モジュールの製造工程において多数の対象物に対して切断を繰り返した場合であっても、ブレードの刃が破損したり、側面が摩耗したり、切りカスが側面に付着したりすることなく高い切れ味が維持する切断方法を提供し、形成される切断面の平滑性が良好な中空糸膜モジュールを安定に供給する。 - 特許庁

The resin composition comprises resin ingredients and glass fiber, wherein the resin ingredients comprise 50-90 mass% of a polyarylate resin and 50-10 mass% of a polycarbonate resin, the content of glass fiber is 40-10 mass% based on 60-90 mass% of the resin ingredients and the flatness ratio of the glass fiber is 1.5-10.例文帳に追加

本発明の樹脂組成物は、樹脂成分とガラス繊維とを含む樹脂組成物であって、前記樹脂成分はポリアリレート樹脂５０〜９０質量％とポリカーボネート樹脂５０〜１０質量％とを含有し、かつ前記樹脂成分６０〜９０質量％に対してガラス繊維４０〜１０質量％を含むものであり、前記ガラス繊維の扁平率が１．５〜１０であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for forming a carbon protective film, method for producing magnetic recording medium, magnetic recording medium and magnetic recording/reproducing system for improving flatness of the carbon protective film by reducing particle generation in a plasma CVD apparatus, and producing the magnetic recording medium having high recording density and excellent recording/reproducing characteristic.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置内におけるパーティクルの発生を低減して炭素保護膜表面の平坦性を向上させ、高い記録密度を有し、且つ記録再生特性に優れた磁気記録媒体を製造することが可能な炭素保護膜の形成方法及び磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体並びにこの磁気記録媒体を用いた磁気記録再生装置を提供する。 - 特許庁

To provide a composition forming a cured film having high flatness and preferably used for forming a protective film for optical devices having high transparency and surface hardness and various kinds of excellent resistances and excellent preservation stability as the composition, to provide a method for forming the protective film using the composition and to provide the protective film formed from the composition.例文帳に追加

平坦性の高い硬化膜を形成することができ、透明性および表面硬度が高く、各種の耐性に優れた光デバイス用保護膜を形成するために好適に用いられ、かつ組成物としての保存安定性に優れる組成物、その上記組成物を用いた保護膜の形成方法、および上記組成物より形成された保護膜を提供すること。 - 特許庁

To provide a release film which shows an excellent process suitability of the rate of dimensional change under heating tension in manufacturing a ceramic sheet, an excellent heat shrinkage balance in drying a ceramic slurry and an excellent flatness and sufficiently meets performance requirements as a release film for manufacture of ceramic sheets and a release film roll capable of giving the release film.例文帳に追加

セラミックシートを製造する際の加熱張力下における寸法変化率が工程適正に優れるとともに、セラミックスラリーを乾燥する際の熱収縮バランスにも優れ、同時に、平坦性に優れ、セラミックシート製造用離型フィルムとして求められる性能を十分に満足することのできる離型フィルム、およびかかる離型フィルムを得ることができる離型フィルムロールを提供すること。 - 特許庁

To provide a transversal type filter in which at least one of electrode fingers of an input side IDT (Inter Digital Transducer) electrode and an output side IDT electrode provided on a piezoelectric substrate is weighted, the transversal type filter having a wide bandwidth, high flatness and high selectivity by suppressing diffraction of elastic waves to be output from an end surface of the weighted IDT electrode.例文帳に追加

圧電基板上に設けた入力側ＩＤＴ電極及び出力側ＩＤＴ電極の少なくとも一方の電極指に重み付けを行ったトランスバーサル型フィルタにおいて、この重み付けを行ったＩＤＴ電極の端面から出力される弾性波の回折を抑えて、広帯域幅、高平坦性及び高選択性のトランスバーサル型フィルタを提供すること。 - 特許庁

This method comprises a step of supplying a substrate which already has an element structure which results in uneven topography, a step of forming the film, and while forming the film, performing ion bombardment to promote gap-filling of the film, and a step of continuously performing the ion bombardment up to a specified time, after stopping the film formation to improve the extent of the flatness of the film.例文帳に追加

既に素子構造を具備し地勢の高低が起伏している基板を提供するステップ、上記基板上にフィルムを形成しフィルムの形成の際イオンボムバードメントを進行してフィルムのギャップフィリングを増進するステップ、上記フィルムの形成を停止した後再び持続的にイオンボムバードメントを特定時間まで進行してフィルムのフラット程度を改善するステップとを備えてなる。 - 特許庁

This optical inspection device includes: a stage on which an object to be inspected is placed; a photographing unit for photographing the object to be inspected placed on the stage; an illuminating unit for radiating light to the object to be inspected; and a rolling member for supporting the edge of a region photographed by the photographing unit to maintain the flatness of the photographing region.例文帳に追加

本発明の光学検査装置は、検査対象物が載置されるステージと、前記ステージに載置された検査対象物を撮影する撮影ユニットと、前記検査対象物に光を照射する照明ユニットと、撮影領域の平坦度を維持するために、前記撮影ユニットによって撮影される領域のエッジを支持するローリング部材（ｒｏｌｌｉｎｇ ｍｅｍｂｅｒ）と、を備える。 - 特許庁

To provide a cleaning agent for a magnetic disk having proper etching characteristics without deteriorating flatness of a magnetic disk substrate surface, exhibiting good dispersibility of particles eliminated from the substrate surface, achieving excellent particle removing characteristics, and enabling very efficient advanced cleaning allowing improvement of an yield in production and cleaning in a short time.例文帳に追加

磁気ディスク基板表面の平坦性を損ねることなく適度なエッチング性を有すると共に基板表面から脱離したパーティクルの分散性も良好であり、優れたパーティクルの除去性を実現し、製造時における歩留まり率の向上や短時間での洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にする磁気ディスク用基板洗浄剤を提供する。 - 特許庁

A central region of a second substrate is pressed to extrude bubbles from an edge, then only an outer peripheral region is pressed to crush an edge beat part, and finally the whole second substrate including the central region and the outer peripheral region is pressed by uniform pressing force, whereby this semiconductor bonding substrate without causing a bonding failure due to inclusion of bubbles and excelling in flatness can be provided.例文帳に追加

第二基板の中央領域を押圧してエッジから気泡を押し出し、次に外周領域だけを押圧してエッジビート部を押し潰し、最後に中央領域と外周領域とを含む第二基板全体を均一な押圧力で押圧することによって、気泡の内包による接合不良がなく、かつ平坦性に優れた半導体接合基板を得る事ができる。 - 特許庁

First, the image of the protrusion is taken out as gradation data for each pixel, flatness of gradation of the sounding pixels is checked for each pixel, the gradation processing to perform filter processing to the object pixel is performed when it is not flat, and the gradation data to which the gradation processing is performed is binarized so that the image of the protrusion is converted into binary data (steps S17, S27).例文帳に追加

まず、突出物の像を画素ごとに階調データとして取り出し、各画素ごとにその周辺の画素の階調の平坦度を調べ、平坦でない場合には対象画素にフィルタ処理を行うような階調処理を行ない、前記階調処理の行なわれた階調データに対して二値化を行ない突出物の像を二値化データに変換する（ステップＳ１７、Ｓ２７）。 - 特許庁

In the image processing apparatus, etc., a gradation conversion function expressed by using a variable for specifying gradation conversion characteristics is used, a value of the variable is determined based on flatness of the pixel value histogram of an image obtained by converting an object image by the gradation conversion function, and the object image is subjected to gradation conversion by a gradation conversion function determined by the determined variable.例文帳に追加

階調変換特性を特定するための変数を用いて表わされる階調変換関数を使用し、該階調変換関数により対象画像を変換して得られる画像の画素値ヒストグラムの平坦度に基づいて前記変数の値を決定し、決定された該変数値により定まる階調変換関数により前記対象画像を階調変換する画像処理装置等とする。 - 特許庁

To provide a substrate, a member for display composed of this substrate, and a display using this wherein insulating performance is superior, displaying malfunction caused by insulation breakdown of an insulator layer does not occur, flatness of the surface of the insulator layer is high, and even if an electrode is formed by a photosensitive paste method, development residue does not remain, and manufacturing with a superior yield is possible.例文帳に追加

絶縁性能に優れ、絶縁体層の絶縁破壊に起因する表示不良を発生することがないばかりか、絶縁体層表面の平坦度が高く、電極を感光性ペースト法により形成しても現像残渣が残ることがなく、歩留まり良く製造可能な基板、この基板からなるディスプレイ用部材およびこれを用いたディスプレイを提供する。 - 特許庁

To provide a miniature motor of good assemblability where flatness, thinness and miniaturization are attained through a structure different from conventional one by imparting a role as a base to a circuit board mounting an IC, such as, a driver and employing a structure for mounting many coils directly on the circuit board pattern, and low cost and high reliability are attained by reducing the number of components.例文帳に追加

ドライバなどのＩＣを搭載した回路基板をベースとしての役割を持たせるとともに、直に回路基板パターンに多数のコイルを実装する構造を採用することにより、従来例とは異なる構造によって、平形，薄形および小形化を実現し、加えて部品点数も少なくしてローコスト，高信頼性を得た、組立性が良好な小形モータ装置を提供する。 - 特許庁

When the floating surface of the magnetic head slider is brought into contact with a lap surface to be lapped, lapping is performed in the state of increased rigidity applied therebetween and, by controlling standard deviation between the flatness of the lapped floating surface and the recessed amount of the floating surface and a magnetic element part, the magnetic head slider capable of low float driving is efficiently produced.例文帳に追加

磁気ヘッドスライダの浮上面と研磨盤表面とを接触させて浮上面を研磨する際に、両者の間に作用する剛性を高めた状態で加工を施し、加工された浮上面の平面度及び浮上面と磁気素子部とのリセス量の標準偏差とを制御することによって、低浮上駆動を可能にする磁気ヘッドスライダを効率良く生産することが出来る。 - 特許庁

This oxide superconducting laminated substrate 1 is manufactured by joining an oxide superconducting crystal substrate 3 having high flatness and high crystal properties to a high strength reinforcing crystal substrate 5, while interposing between them, an intermediate layer 7 consisting of a material having a lower melting point than that of the constituent oxide superconducting single crystal or polycrystal of the oxide superconducting crystal substrate 3.例文帳に追加

高い平坦性と高結晶性を有する酸化物超電導結晶基板３と、高強度の補強用結晶基板５とが、酸化物超電導結晶基板３を構成する酸化物超電導単結晶または酸化物超電導多結晶の融点よりも低融点の材料からなる低融点層を最外層に有する中間層７を介して接着された酸化物超電導積層基板１。 - 特許庁

To provide a ceramic wiring board in which a semiconductor component and a wiring structure can be formed conveniently with high precision even if the wiring structure is complicated or shrunk due to reduction in size or high integration of the semiconductor component being mounted, a dielectric layer around a conductor element is scarcely deformed, and flatness on the major surface of a substrate for forming component connection pads can be enhanced.例文帳に追加

実装される半導体部品の小型化ないし高集積化に伴い、組み込まれる配線構造が複雑化ないし微細化しても、これらを簡便かつ高精度に形成でき、また、導体要素の周囲にてセラミック誘電体層の変形がほとんど生じず、部品接続用のパッドが形成される基板主表面の平坦性を大幅に向上できるセラミック配線基板を提供する。 - 特許庁

In the blank 1 of the aluminum alloy sheet, which has the soft part 2 formed by heating and quenching treatment preliminarily and partially to a hard steady part 3 and is formed into a prescribed product shape such as the automotive panel by press forming and the press-formable flatness is secured in overall with beads 4a, 4b, 4c, 4d which are formed continuously at least over the region of the soft part 2.例文帳に追加

加熱および急冷処理によって形成された軟質部２を硬質な定常部３に対して予め部分的に有し、プレス成形により自動車パネルなど所定の製品形状に成形されるアルミニウム合金板ブランク１であって、少なくとも軟質部２の領域に亙って連続的に形成されたビード４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄによって、プレス成形可能な平坦度を全体に亙って確保する。 - 特許庁

In the perpendicular magnetic recording medium including a substrate 1, a soft magnetic layer 3 formed on one principal surface side of the substrate 1, a non-magnetic layer 4 formed in contact with the soft magnetic layer 3, an intermediate layer 6 formed on the non-magnetic layer 4 and a perpendicular recording layer 7 formed in contact with the intermediate layer 7, an acene coated film is used as the intermediate layer for enhancing surface flatness.例文帳に追加

基板１と、前記基板１の一主面側に形成された軟磁性層３と、前記軟磁性層３に接触して形成された非磁性層４と、前記非磁性層４上に形成された中間層６と、前記中間層６に接触して形成された垂直記録層７とを備えた垂直磁気記録媒体において、前記中間層として表面平坦性を向上させるため、アセン塗布膜を用いる。 - 特許庁

A patterned magnetic recording medium with high surface flatness without resist residue is obtained by applying a resist, injecting ions, removing a usual resist mask layer 6 as well as a release layer 5a between the resist mask layer 6 and the magnetic recording layer 4 together with the resist residue 6a, and depositing a protective layer 5b on the magnetic recording layer 4 where an exposed magnetic recording area and a non-recording area are patterned.例文帳に追加

レジスト塗布し、イオン注入後、通常のレジストマスク層６除去だけでなく、レジストマスク層６と磁気記録層４の間にある剥離層５ａをレジスト残り６ａとともに除去し、露出した磁気記録領域と非記録領域がパターン化された磁気記録層４に保護層５ｂを成膜することにより、レジスト残りを皆無にした、高表面平坦度のパターンド磁気記録媒体を得ることができる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a polarizing and splitting element and a polarizing and splitting element capable of improving yield in photo-lithography and dry etching which are processes for forming diffraction gratings on a double diffraction film by sticking an optical anisotropic film on an optically transparent substrate wafer so as to improve the flatness, and further, to provide a hologram laser unit and an optical pickup unit improved in reliability.例文帳に追加

本発明は、光学的透明基板ウェハに光学的異方性膜を平坦性が向上するように貼り付け、複屈折膜上に回折格子を形成する工程であるフォトリソグラフィー、ドライエッチングにおいて歩留りを向上できる、偏光分離素子の製造方法及び偏光分離素子、更に信頼性の向上したホログラムレーザユニット及び光ピックアップ装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the method, by performing on fabrics such as a bandage, the widening step before the soaking step, and the cloth-spreading step after the soaking step, flatness of the fabric and linearity of the end can be ensured and dimensional stability can be obtained without performing after the soaking step, a heat treatment under tension and for improving dimensional stability.例文帳に追加

本発明の実施形態に係る伸縮性布帛の製造方法においては、伸縮性包帯のような布帛について、浸漬工程の前に幅出工程を行い、浸漬工程の後に拡布工程を行うことにより、浸漬工程の後に寸法安定性を向上させるためのテンションをかけながらの加熱処理を行わなくても、布帛の平坦性、端部の直線性を確保することができ、寸法安定性が得られる。 - 特許庁

To provide a polishing solution for polishing hard barrier layers and layer insulation films while the surface of cupper or a cupper alloy in a recess is protected during polishing to obtain a polished superior-flatness clean substrate surface, in the manufacturing of an electronic apparatus such as a semiconductor device, and to provide a high reliability chemical/mechanical polishing method superior in microprocessing, thinning, and dimension accuracy.例文帳に追加

半導体デバイスなど電子機器の製造において、硬いバリア層や層間絶縁膜を研磨する際に、凹部の銅或いは銅合金表面を研磨中に保護することにより、研磨後に平坦性に優れた清浄な基体表面が得られる研磨液、及び前記研磨液を用いて生産性が高く、微細化、薄膜化、寸法精度に優れ、信頼性の高い化学機械研磨を行う研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of polishing ionic organic crystal, and the ionic organic crystal polished by the method of polishing the ionic organic crystal having excellent flatness with no characteristic degradation of the ionic organic crystal which is a polished material in a precision polishing method of a soft fragile material such as an ionic organic nonlinear optical material in a method of polishing an optical material used as a nonlinear optical material.例文帳に追加

非線形光学材料として使用する光学材料の研磨方法において、特にイオン性有機非線形光学材料などの軟脆弱材料の精密研磨方法に関し、被研磨材料であるイオン性有機結晶の特性劣化がなく、平坦性の良好なイオン性有機結晶の研磨方法及び該イオン性有機結晶の研磨方法により研磨したイオン性有機結晶を提供する。 - 特許庁

Since each cantilever spring member is independent mechanically, an engaging force can be applied efficiently to conduct the contacts of the print control circuit and the ink cartridge regardless of difference in the thickness, flatness, or central alignment between two sets of contact caused by tolerance of manufacture, deposition of dry ink or slight misalignment of contacts to be engaged.例文帳に追加

各片持ち梁式のばね部材の機械的な独立は、製造の公差、乾燥されたインクの堆積物、又は、接点の重ね合せにおける僅かなミスアライメントによって生じられる２組の接点の間における厚さ、平面さ、又は、中央での位置合わせの差に関わらず制御回路の接点とインクカートリッジの接点との間が導通するよう係合力を効率的に加えることを可能にさせる。 - 特許庁

In producing a phosphor sheet forming a phosphor layer on the sheet shape substrate in a vacuum chamber, at least the middle of the substrate electrostatically attracted in a substrate holding means placed in the vacuum chamber so that the film formation of the phosphor layer is performed in a state that the flatness of the substrate surface is raised.例文帳に追加

真空チャンバ内で、シート状の基板に蛍光体層を成膜する蛍光体シートの製造に際し、前記真空チャンバ内に設けられた前記基板の保持手段において、前記基板の少なくとも中央部を静電吸着することにより、前記基板表面の平面性を高めた状態で、前記蛍光体層の成膜を行うことを特徴とする蛍光体シートの製造方法並びにこれを用いる装置。 - 特許庁

An SiC monocrystal substrate is mechanically lapped using a lapping plate formed with a predetermined flatness manufactured by a facing process of cutting the surface of the lapping plate made of material quality having a predetermined hardness and generating two kinds of grooves by machining, a shaving process of shaving with a circular-arc shaving tool, and a process of charging the lapping plate after the shaving process using a charging ring.例文帳に追加

所定の硬度の材質よりなる前記ラッピング定盤の表面を平坦に切削するとともに２種類の溝を加工生成するフェージング工程と、円弧状のシェービング治具でシェービングするシェービング工程と、該シェービング工程後のラッピング定盤をチャージングリングを用いてチャージングする工程とにより製作される所定の平坦度に形成されたラッピング定盤を使用して、ＳｉＣ単結晶基板をメカニカルラッピングする。 - 特許庁