「flatness」に関連した英語例文の一覧と使い方(69ページ目) - Weblio英語例文検索

The polarization is sufficiently eliminated because the dispersibility in the matrix material is enhanced by using the fiber having the average fiber diameter within the above range, and because the flatness and transparency of a surface are improved when film-formed, and satisfactory display quality is obtained thereby.例文帳に追加

上記範囲の平均繊維径を有する繊維を用いることにより、マトリクス材料中での繊維の分散性をより高めることができるとともに、膜形成した場合の表面の平坦性や透明性を良好なものとすることができるため、偏光を十分に解消することができ、且つ、十分な表示品質を得ることができる。 - 特許庁

To provided an organic-inorganic composite resin composition suitable for insulation materials for protective films of liquid crystal elements, excellent in performance such as chemical resistance, insulation properties, flatness, heat resistance, light transmittance, and adhesive properties, and also excellent in adhesiveness and cracking resistance against heat deformation such as shrinking and swelling caused by step temperature changes in substrates after coating and curing.例文帳に追加

耐化学性、絶縁性、平坦性、耐熱性、光透過率、接着性などの性能に優れ、塗膜硬化後基板の工程温度変化による収縮、膨張などの熱変形に対する亀裂抵抗性及び接着性に優れ、液晶表示素子の保護膜用絶縁材料に適した有機・無機複合体樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Even if it does not reach derailment, overthrow, or collision, it can execute diagnosis on the flatness of wheels, diagnosis of abnormality in axles or bearings, evaluation of comfort in ride or inspection of railway, which were performed conventionally in visual search by a maintenance member or with a special abnormality diagnosis device in a periodic inspection, consequently personnel expenses or capital investment can be reduced.例文帳に追加

脱線、転覆、衝突に至らなくても、定期検査で保守点検員の目視による調査や専用の異常診断装置によって行われていた車輪のフラット或いは車軸や軸受についての異常診断、乗り心地評価、或いは軌道の検査を、通常の営業車両で実行できるようになるため、人件費や設備投資の削減ができる。 - 特許庁

To provide a metal polishing liquid achieving high precise polishing at high speed, by which dishing is lessened even in high-purity materials and erosion is suppressed on fine wirings to manufacture an LSI chip with improved flatness, and to provide a chemical mechanical polishing method using the liquid, which ensures high productivity even in manufacturing large-scale substrates.例文帳に追加

迅速な研磨速度を有し、且つ、高精細に、高純度の材料でもディッシングが少なく、微細配線でのエロージョンが抑制され、平坦性が向上したＬＳＩの作製を可能とする金属用研磨液を提供し、それを用いて、大型化した基板でも高い生産性が得られる化学的機械的研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new particulate nanocarbon material having high crystallinity and a large surface area and also high flatness, to provide its manufacturing method, to provide a particulate nanocarbon material composite having the particulate nanocarbon material having high crystallinity and a large surface area and also high evenness and to provide an electric device having a high reliability using the particulate nanocarbon material.例文帳に追加

結晶性が高く、表面積が大きくかつ平坦性の高い新規な粒子状ナノ炭素材料及びその製造方法と、結晶性が高く、表面積が大きくかつ平坦性の高い粒子状ナノ炭素材料を有する粒子状ナノ炭素材料複合体と、粒子状ナノ炭素材料を用いて高信頼性の電子デバイスを提供する。 - 特許庁

To provide an electrode plate for plasma etching improving etching characteristics and improving the yield of a silicon wafer, by fully keeping the adhesion of the electrode plate for plasma etching and a cooling plate and reducing the flatness of the electrode plate, even if the electrode plate for plasma etching is plasma consumed at the time of etching, and to provide a plasma etching device on which the same is mounted.例文帳に追加

エッチング時にプラズマエッチング用電極板がプラズマ消耗しても、プラズマエッチング用電極板と冷却板との密着性が充分に保たれ、しかも電極板の平面度が小さいため、結果として、エッチング特性が向上してシリコンウェハーの歩留まりがよくなるというプラズマエッチング用電極板及びそれを装着したプラズマエッチング装置の提供。 - 特許庁

An emission unit 16 emits laser beam SHG of YAG second harmonics received from a YAG laser oscillator via an optical fiber 18 through an optical lens in a unit from an emission port at the tip, and condenses and emits the same into a peeling region HW set to each contact W at an elliptic beam spot SP_SHG with a high flatness.例文帳に追加

出射ユニット１６は、ＹＡＧレーザ発振器より光ファイバ１８を介して受け取ったＹＡＧ第２高調波のレーザ光ＳＨＧをユニット内の光学レンズに通して先端の出射口より出射し、各コンタクトＷに設定された剥離領域ＨＥ内に扁平度の高い楕円状ビームスポットＳＰ_SHGで集光照射する。 - 特許庁

To provide a conductive endless belt which realizes excellent infrared reflectance by improving the flatness of the surface and enhancing the brilliance and can perform an exact driving control while keeping the friction between the conductive endless belt and a driving member in a prescribed level as for the back surface, and to provide a production method of the conductive endless belt and an image forming apparatus using the conductive endless belt.例文帳に追加

表面の平滑度を向上して、光沢度を高めることで良好な赤外線反射率を実現するとともに、裏面については駆動部材との間の摩擦を所定に保持して正確な駆動制御を可能にした導電性エンドレスベルト、その製造方法およびこれを用いた画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To reduce possibility that an IC module is damaged and the IC module and an antenna are disconnected at a connected part without impairing flexibility and flatness even when a surface on which a non-contact IC label is adhered is curved and the non-contact IC label is incorporated in merchandise at a state that it is curled up.例文帳に追加

非接触型ＩＣラベルが貼付される面が曲面であったり、非接触型ＩＣラベルが丸まるような状態で商品に組み込まれた場合においても、柔軟性及び平坦性を損なうことなく、ＩＣモジュールが破損してしまったり、ＩＣモジュールとアンテナとが接続部分において断線してしまったりする可能性を低減させる。 - 特許庁

The inside surface of the recessed part such as the wiring trench or a via hole formed on the substrate is selectively plated by covering the the uppermost surface of the substrate with the plating inhibiter in this way to attain flatness through the whole substrate when the plating is finished at a proper point of time.例文帳に追加

このように基板の最表面をめっき抑制剤で覆う処理をめっきの前処理として基板に対して行なうことによって、基板に形成された配線用溝（トレンチ）やビアホール等の凹部内面に選択的にめっきが行なわれるため、適切な時点でめっきを終了した場合には基板全体に渡って平坦性を得ることができる。 - 特許庁

In a membrane element comprising flat films 3 arranged on both sides of the resin plate 2, with circumferential parts of the flat films 3 solvent-welded entirely with the resin plate 2, the resin plate 2 and the flat films 3 are fixed together by melting two or more continuous linear protrusions 9 with a high precision of the flatness of the resin plate 2.例文帳に追加

樹脂板２の両面それぞれに平膜３が配され、前記平膜３の周縁部が全周にわたり前記樹脂板２に溶着されてなる膜エレメントにおいて、樹脂板２と前記平膜３とを、樹脂板２の２本以上の連続した、平面度精度が高い線状突起９を溶融させることによって固定している。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor package substrate, which is easy to form many pins, easy to realize high density and miniaturization, having high reliability and no need for installing a stiffener, by improving a traditional semiconductor package substrate and enhancing a flatness of a multi-layer wiring structure film, and method for manufacturing a semiconductor device using the same.例文帳に追加

従来の半導体パッケージ基板を改良し、多層配線構造膜の平坦性を向上させることにより、多ピン化、高密度化及び微細化が容易で信頼性が高くスティフナを装着する必要がない新規な半導体パッケージ基板の製造方法及びそれを使用する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing composition capable of keeping high flatness of a metal surface polished by chemical mechanical polishing (CMP) and a polishing composition for two-stage polishing achieving high polishing speed ratio between the copper layer in the first stage polishing and the barrier layer in the second stage polishing to enable the selective polishing of the copper layer.例文帳に追加

ＣＭＰによる研磨後の金属表面の平坦性を高度に保持することができる研磨組成物、さらには高度の表面平坦性を与え、しかも２段研磨において、第１段研磨における銅層と第２段研磨におけるバリア層との研磨速度の比が高く、銅層を選択的に研磨することのできる研磨組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a filter with an indicator comprising a filter main body in a part of which an indicator part can have a high size precision and high surface flatness and by causing no unevenness in partial ventilation inhibition in the entire surface and which has a good appearance immediately before starting the use, a method and an apparatus for manufacturing the filter.例文帳に追加

フィルタ本体の一部に、高い寸法精度および高い表面平坦度でインジケータ部を形成可能で、インジケータ部の全面において部分的な通気阻害性のムラが発生せず、しかも使用開始直後までのフィルタ本体の美感も良好なインジケータ付フィルタおよびその製造方法ならびにその製造装置を提供する。 - 特許庁

In the cascade connected multistage power amplifier, the amplifier of a final stage is set to obtain desired characteristics closely to the center of a band to be used and the operating band of the amplifier of a driving stage is deviated to compensate lowering of a gain on the low frequency side and high frequency side of the band to be used so that gain flatness can be provided.例文帳に追加

縦続に接続された多段電力増幅器において、最終段の増幅器を使用帯域の中心付近で所望の特性が得られるように設定し、駆動段の増幅器を使用帯域の低周波側および高周波側で利得の低下を補うように動作帯域をずらすことにより利得平坦性を実現する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is excellent in performances, such as transmissivity, insulation, flatness, and chemical resistance, and also made suitable to use as an interlayer insulation film in a LCD manufacturing process securing the reliability in the following processes by minimizing the gas leakage especially through the high heat resistant interlayer insulation films.例文帳に追加

透過率、絶縁性、平坦性、耐化学性などの性能に優れるだけでなく、特に高耐熱特性を通した層間絶縁膜で発生されるガス抜けを最少化させて、後工程の信頼性を確保することによってＬＣＤ製造工程の層間絶縁膜として使用するのに適した感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a microphone element mounting board which can assure the flatness of a mounting area, can improve a cleaning property by discharging a plating solution invading into a hollow part satisfactorily when the board is immersed into the plating solution and is excellent in the mountability of a microphone element and electric connectivity between wiring conductors.例文帳に追加

搭載領域の平坦性を良好にできるとともに、基板をめっき液中に浸漬した場合に、空洞部に侵入しためっき液の排出を良好なものとして洗浄性を向上することが可能であり、マイクロホン素子の搭載性、配線導体間の電気的接続性に優れたマイクロホン素子搭載基板を提供すること。 - 特許庁

To provide a raw material wafer for polishing that can be produced without the use of a special jig during a polishing process into a mirror-surfaced wafer with little peripheral sagging and the high flatness of at least 0.15 μm or below in SFQR, and is shaped to have, if necessary, a little sagging or rather a little bound in the peripheral portion thereof.例文帳に追加

研磨工程において特別な治具等を用いなくても、外周ダレが少なくＳＦＱＲが０．１５μｍ以下となる高平坦度の鏡面ウエーハとすることができ、必要に応じて、ウエーハ周辺部がほんのわずかダレていたり、逆にほんのわずかハネている形状の鏡面ウエーハとすることもできる研磨用原材料ウエーハを提供する。 - 特許庁

In the metallic composite pipe 1 having the padding layer 3 composed of Cr-Ni base alloy formed with the build-up welding on the inner peripheral surface 6 of the pipe base material 2 composed of the heat resistant metal containing at least either one of Fe or Ni as the main component, the surface 4 of the padding layer 3 is applied to the flatness treatment with a plastic working.例文帳に追加

ＦｅとＮｉとの少なくともいずれかを主成分とする耐熱性金属からなる管基材２の内周面６に、肉盛溶接にて形成されたＣｒ−Ｎｉ系合金からなる肉盛層３を有する金属複合管１において、該肉盛層３の表面４は、塑性加工により平滑化処理がなされたものとする。 - 特許庁

The method for correcting the glass blank includes: a supply step for supplying softened plate-like glass blanks 3 on a carrier belt 20 for continuously carrying the glass blanks 3 in a heating furnace 50; and a correction step for correcting the flatness of each glass blank 3 by carrying the glass blanks 3 while applying a load to the glass blanks 3 on the carrier belt 20 in the heating furnace 50.例文帳に追加

軟化した板状ガラスブランクス３を、加熱炉５０内で連続的に搬送する搬送ベルト２０上に供給する供給ステップと、加熱炉５０内で、搬送ベルト２０上のガラスブランクス３に対して荷重を負荷しながらガラスブランクス３を搬送することによって、ガラスブランクス３の平坦度を矯正する矯正ステップと、を備える。 - 特許庁

To provide a girder end structure which dispenses with a sole plate wherein, in the case of a composite girder prepared by combining a steel member with concrete, a steel plate is used for a lower flange and the sole plate needs to be installed in order to secure the flatness of the lower flange in supporting a girder end by a support for avoiding an increse in machining cost and installation cost.例文帳に追加

鋼部材とコンクリートとを結合させた複合桁では、下フランジに鋼板を用いるため、桁端部を支承部に支持させる際に下フランジの平面度を確保する必要からソールプレートの取付が要求されるが、その加工コストや取付作業のコストが増大するため、ソールプレートを必要としない桁端部構造を提供する。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive resin composition which is excellent in resolution, insulation, flatness, chemical resistance and adhesive force and exhibits superior sensitivity, film retention and UV transmittance particularly in the formation of organic insulating films of a high-aperture-ratio liquid crystal display and a reflective liquid crystal display as compared with conventional photosensitive resins, whereby it is suitable for use as organic insulating films.例文帳に追加

解像性、絶縁性、平坦性、耐化学性及び接着力の全てに優れ、特に高開口率液晶表示素子と反射型液晶表示素子の有機絶縁膜の形成時に感度、残膜率及びＵＶ透過率が従来の感光性樹脂に比べて優れ、有機絶縁膜として使用するのに適するネガティブ感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

At this time, if the deposited surface is put to face upward, along with the structural relaxation, caving-in of a membrane surface is apt to occur toward a pore region inside the membrane and, as a result, a flatness of the deposited surface is damaged, and a device in which such a damaged layer is used is risked to invite luminance unevenness of emitted light and shortened service life.例文帳に追加

そのとき、成膜表面を上向きにすると、前記構造緩和に伴って、膜内部の空隙領域に向かって膜表面の陥没が起こりやすくなる結果、成膜表面の平坦性が損なわれ、これを用いて作製したデバイスは、発光の輝度ムラや、寿命の低下を招く恐れがあるが、本発明によればこの問題が回避される。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for manufacturing the polarizing plate, in which productivity of a saponification process is high and safeness and environmental properties are improved by decrease in the concentration of an alkali solution used in the saponification process and by reduction of immersion time, to provide a high-quality polarizing plate with less irregular adhesiveness and degradation in flatness, and to provide a display device using the plate.例文帳に追加

ケン化処理工程の生産性が高く、ケン化処理に用いるアルカリ液濃度の低下、浸漬時間の短縮により安全性・環境性が向上した新しい偏光板の製造方法とその製造装置、接着性のムラや平面性劣化の少ない高品位の偏光板及びこれを用いた表示装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide an isolated foam material for polishing which has a longer life than a conventional pad, further obtains well-balanced flatness of a device surface after polishing and uniformity on the wafer surface, and realizes polishing with high accuracy as the polishing layer of a polishing pad used for flattening the surface of the device wafer of a semiconductor such as an inter-layer insulating film, a metal wiring or the like.例文帳に追加

層間絶縁膜や金属配線等の、半導体のデバイスウエハの表面平坦化加工に用いられる研磨パッドの研磨層として、従来パッドに比べてライフが長い上に、研磨後のデバイス表面の平坦性とそのウエハ面内均一性のバランスの良い、高精度な研磨を実現する研磨用独立発泡体を提供する。 - 特許庁

To uniformly make flatness in the total surface of a semiconductor substrate, and attain uniform polishing up to in the vicinity of a wafer edge, in a polishing device or a polishing pad for use in a mechanical flatting process smoothing by polishing a surface of an insulation layer or metal wiring formed on the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板の上に形成された絶縁層または金属配線の表面を研磨により平滑にする機械的な平坦化工程で使用するための研磨装置または研磨パッドにおいて、半導体基板全面が均一に平坦化されまたウェーハエッジ近くまで均一な研磨が達成できる技術を提供するものである。 - 特許庁

One film piece generating a curl after cutting off because of residual stress and the other film piece are mutually set in an almost X-shape or an almost O-shape to be laminated and the formed laminate is molded so as to set off the residual stress distributed in the thickness direction of the film to obtain the film laminate having no curved strain or curl and excellent in flatness.例文帳に追加

残留応力のために切り取り後にカールを生じた一方のフィルム片と他方のフィルム片とを互いに略Ｘ字型、あるいは略Ｏ字型にセットして貼り合わせ、フィルム厚さ方向に分布する残留応力を相殺して成形することにより、湾曲歪みやカールの無い平面性に優れたフィルム積層体が得られる。 - 特許庁

A suction hole in a region extending from an ink discharge region where ink jet heads 1Y-1K abutting on the back face of the carrying belt 5 discharge ink and a flat plate 9 secures the flatness of the carrying belt 5, to the surface-moving-direction downstream side of the carrying belt 9, is larger than a suction hole in the ink discharge region.例文帳に追加

搬送ベルト５裏面に当接してインクジェットヘッド１Ｙ〜１Ｋがインクを吐出するインク吐出領域における搬送ベルト５の平面度を確保する平面板９のインク吐出領域から搬送ベルト９の表面移動方向下流側に延在した領域における吸引孔を、インク吐出領域における吸引孔よりも大きくした。 - 特許庁

To provide a manufacturing method capable of manufacturing a conductive separator for a fuel cell in which there is no need of using a complicated metal mold such as compression molding, transfer molding, and injection molding, in which manufacturing is possible even in the case conductive particles are highly filled in order to be made superior in conductivity, and which is superior in flatness or the like.例文帳に追加

圧縮成形、移送成形、射出成形等のように複雑な金型を用いる必要がなく、導電性に優れたものとするために導電性粒子を高充填した場合であっても製造が可能であり、かつ、平坦性等に優れた燃料電池用導電性セパレータを製造することができる製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing multilayer printed circuit board in which dummy lands are provided in order to eliminate, during the stacking process, deterioration of flatness of surface, generation of voids, and fall of bonding force and measures are taken so that the dummy lands are no longer left within a product after the boring by drills are performed to form through-holes.例文帳に追加

多層プリント基板の製造において、積層プレス時に表面平滑度の劣化やボイドの発生、接着力の低下などが生じないようにダミーランドを設けると共に、該ダミーランドがスルーホール形成のためのドリル穴開け加工後には製品内に残留していないように工夫された多層プリント基板製造方法を提供すること。 - 特許庁

WAFER-FLATNESS EVALUATION METHOD AND DEVICE FOR IMPLEMENTING THE EVALUATION METHOD; WAFER PRODUCTION METHOD USING THE EVALUATION METHOD, WAFER-QUALITY ENSURING METHOD USING THE EVALUATION METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE PRODUCTION METHOD USING THE EVALUATION METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE PRODUCTION METHOD USING THE WAFER EVALUATED BY THE EVALUATION METHOD例文帳に追加

ウェーハ平坦度評価方法、その評価方法を実行するウェーハ平坦度評価装置、その評価方法を用いたウェーハの製造方法、その評価方法を用いたウェーハ品質保証方法、その評価方法を用いた半導体デバイスの製造方法、およびその評価方法によって評価されたウェーハを用いた半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

The capillary supporting member 11 comprises a plane region 21 capable of arranging a plurality of capillaries 15 and a ceramic member made of blackish ceramics, wherein the flatness of the plane region 21 is 0.02 mm or less and the average length (AW) of a waviness motif in the plane region 21 is 100 μm.例文帳に追加

キャピラリ支持部材１１において、複数のキャピラリ１５を配列可能な平面領域２１を有し、黒色系のセラミックから成るセラミック部材を備え、平面領域２１の平面度が０．０２ｍｍ以下、平面領域２１におけるうねりモチーフの平均長さ（ＡＷ）が１００μｍ以下であるキャピラリ支持部材１１を構成する。 - 特許庁

To suppress deterioration of visibility for flatness of a panel glass, by securing strength of a vacuum enclosure by forming the inner surface of a panel comprising a flat outer surface and an inner surface having a center part protruded toward the outer surface into a curved surface satisfying a relation with the shape of a phosphor screen.例文帳に追加

外面が平面からなるパネルの内面を適切な曲面にすることにより、真空外囲器の強度を確保し、かつパネルガラスにおいて光線が屈折することによる平坦度の視認性の劣化を抑制し、カラー受像管については、さらに色選別電極（シャドーマスク）の加工性を向上させることができる陰極線管を提供することにある。 - 特許庁

To provide a polyimide film which satisfies properties of high elastic modulus, low thermal expansion coefficient, low heat shrinking rate and flatness after vapor deposition when used as a base material for a metal circuit board having a metal circuit on its surface such as a flexible printed circuit, CSP, BGA or TAB tape.例文帳に追加

その表面に金属配線を施してなる可撓性の印刷回路，ＣＳＰ，ＢＧＡまたはＴＡＢテープ用の金属配線板基材に適用した場合に、高弾性率、低熱膨張係数、低熱収縮率、および蒸着後の平面性を同時に満足したポリイミドフィルム、及びそれを基材としてなる金属配線回路板を提供する。 - 特許庁

To provide abrasives and a polishing method in which in a CMP technology of flattening an interlayer dielectric, a BPSG film, and a shallow trench isolating insulating film, a selection ratio of a silicon oxide film to a silicon nitride film and a flatness are enhanced, whereby a CMP process can be efficiently and fast performed, and a process management can be easily performed.例文帳に追加

本発明は、層間絶縁膜、ＢＰＳＧ膜、シャロー・トレンチ分離用絶縁膜を平坦化するＣＭＰ技術において、酸化珪素膜と窒化珪素膜の選択比、平坦性を向上させることにより、ＣＭＰプロセスを効率的、高速に、かつプロセス管理も容易に行うことができる研磨剤及び研磨法を提供するものである。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for forming an interlayer insulating film, a protective film and a spacer from a single kind of a radiation-sensitive resin composition, achieving high sensitivity, high flatness, high adhesion property and high transmittance in the interlayer insulating film and in the protective film, and achieving high resolution and high sensitivity in the spacer.例文帳に追加

の目的は、１種類の感放射線性樹脂組成物で層間絶縁膜、保護膜及びスペーサーを形成することが可能であり、さらに、層間絶縁膜、保護膜においては高感度、高平坦性、高密着性、高透過率、スペーサーにおいては高解像度、高感度を達成できる感放射線性樹脂組成物を提供することにある。 - 特許庁

The bedding material having low air permeability is a woven fabric made of at least one kind of fiber selected from natural fibers, regenerated fibers, semisynthetic fibers and synthetic fibers and contains a flat cross-section polyester multifilament having a flatness of 3-7 and a single fiber fineness of ≥0.3 dtex and ≤2.0 dtex as at least a part of the warp and/or weft.例文帳に追加

天然繊維、再生繊維、半合成繊維、合成繊維から選択される少なくとも１種類からなる織物であり、経糸及び／又は緯糸の少なくとも一部分に偏平度が３以上７以下、単繊維繊度が０．３デシテックス以上２．０デシテックス以下の偏平断面ポリエステルマルチフィラメントを含む低通気度寝装資材。 - 特許庁

While a plurality of pressure panels 22 having impression surfaces 40, 42 of not more than 0.5 mm in flatness, and a geometric moment of inertia per unit width in the range of 1,000-50,000 mm^4/mm are prepared, a foam-made core material 16 forms an assembly 18 arranged between two face plates 12, 14 via an adhesive 20.例文帳に追加

平面度が０．５ｍｍ以下の加圧面４０，４２を有し、且つ単位幅当たりの断面二次モーメントが１０００〜５００００ｍｍ^4 ／ｍｍの範囲内の値である加圧パネル２２の複数を準備する一方、発泡体製の心材１６が、２枚の面板１２，１４間に接着剤２０を介在せしめて配置された組付体１８を形成する。 - 特許庁

To provide a color filter for a transflective liquid crystal display device which is free from any protrusion caused by variation of alignment of an aligner even when a colorless transparent resin pattern is formed by using a colorless transparent photo resist on a portion where a coloring layer has been lacked (a transparent portion), for the purpose of imparting flatness to the color filter surface.例文帳に追加

半透過型液晶表示装置用カラーフィルタで、カラーフィルタの表面に平坦性をもたせるために、着色層が欠落した部分（透明部）に無色透明フォトレジストを用いて無色透明樹脂パターンを形成しても、露光装置の合わせのバラツキに起因した突起のない半透過型液晶表示装置用カラーフィルタを提供する。 - 特許庁

To provide a rear projection display device which is constituted to project and display a video on a transmission type screen 3 provided in front of a device main body from a video projection unit arranged on the rear side thereof, and where the flatness of the screen 3 is stably maintained, so that a good-quality image having little distortion is displayed.例文帳に追加

装置本体の前面に設けられた透過型のスクリーン３に、その背面側に配置された映像投射ユニットから映像を投射して表示するようにしたリアプロジェクションディスプレイ装置において、スクリーン３の平面度を安定して維持し、歪みの少ない良質な画像を表示できるリアプロジェクションディスプレイ装置を提供する。 - 特許庁

Thus, since no photo resist is deposited on the capacity insulating film 105a, an oxygen plasma used for ashing is not irradiated, and insulation breakage can be prevented due to lowered flatness of the capacity insulating film and the operation failure, lowered yield, and lowering of reliability of the MIM capacitor due to contamination of the capacity insulating film.例文帳に追加

これにより容量絶縁膜１０５ａ上にフォトレジストが堆積されないため、アッシングに用いる酸素プラズマが照射されることがなく、容量絶縁膜の平坦性の低下による絶縁破壊及び容量絶縁膜の汚染によるＭＩＭキャパシタの動作不良、歩留り低下、デバイスの信頼性低下を防止することができる。 - 特許庁

This carbon fiber bundle for filament winding molding contains a sizing agent and has 30-100 flatness ratio, ≤55° contact angle with a bisphenol A-based epoxy resin having 90-150 poise resin viscosity at 25°C and 100-1,000 poise viscosity (at 50°C) of an extract extracted from the carbon fiber bundle.例文帳に追加

サイズ剤を含有するフィラメントワインディング成型用炭素繊維束であって、扁平率が３０〜１００、２５℃における樹脂粘度が９０〜１５０ポイズであるビスフェノールＡ系エポキシ樹脂に対する接触角が５５°以下であり、前記炭素繊維束から抽出した抽出物の５０℃における粘度が１００〜１０００ポイズであるフィラメントワインディング成型用炭素繊維束。 - 特許庁

To provide a both-sided primary polish wafer carrier capable of substantially enhancing the quality, yield and productivity of a semiconductor wafer having a mirror polished surface, by effectively suppressing production of deficiencies on its peripheral surface such as those caused by breaking and chipping and substantially improving its flatness even if both-sided mirror polish is applied.例文帳に追加

両面鏡面研磨を行っても外周面に欠け、チッピング等の欠損部の発生を効果的に抑止できると共にその平坦度を顕著に高めることができ、それにより表面を鏡面研磨した半導体ウェハの品質、歩留及び生産性を顕著に向上することができる両面一次ポリッシュ用ウェハキャリアを提供すること。 - 特許庁

In a decorative material having minute indentations formed on the surface of a base, the indentations are formed of a set of minute projections 1 arranged with prescribed pitches and having light diffusion properties, and shape parameters of the projections 1, such as a rate of flatness, are changed continuously in the horizontal direction so that they correspond to a surface pattern to be expressed.例文帳に追加

基材表面に微小な凹凸形状が形成された化粧材であって、該凹凸形状を、所定のピッチをもって配列してなる光拡散性を有する微小な凸部の集合によって形成し、前記凸部の偏平率等の形状パラメータを水平方向において、表現すべき表面パターンに対応させて連続的に変化させる。 - 特許庁

The uniformity of the film thickness of a BARC is improved by a process for embedding a structure in which an organic material different from the BARC is applied at least once so that flatness is assured to an extent that does not influence lithography and the organic material is etched once and planarizing the organic material by removing the organic material so that the surface of an embedded layer is exposed by etching back.例文帳に追加

さらに、リソグラフィへの影響が無い程度の平坦性が確保できるようにＢＡＲＣとは異なる有機材料を少なくとも一回塗布して一度エッチングした構造を埋め込み、エッチバックによって被埋込み層の表面が出るように有機材料を除去して平坦化する工程により、ＢＡＲＣの膜厚の均一性を改善する。 - 特許庁