「flatness」に関連した英語例文の一覧と使い方(65ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for manufacturing the optical film having the optical membrane on a transparent supporting body is characterized by that formation of the optical membrane by application is performed in a state where flatness of the supporting body is held at 0 to 1 mm while it travels from an applying process to a winding process.例文帳に追加

透明支持体上に光学膜を有する光学フィルムの製造方法において、該光学膜を塗布により形成する際、塗布から巻取工程間の支持体の平面性を０〜１ｍｍに保った状態で行うことを特徴とする光学フィルムの製造方法。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a polymer optical waveguide which can suppress the etching operation for a resist to small amounts even in the case of a small amount of application of the resist and prevents the polymer optical waveguide laminate in the underlayer of the resist from being etched when the polymer optical waveguide laminate having low flatness is etched.例文帳に追加

平坦性が低いポリマー光導波路積層体をエッチングする際に、レジストの塗付量を少なくしてもレジストに対するエッチング作用が少なく、レジストの下層にあるポリマー光導波路積層体がエッチングされることのないポリマー光導波路の製造法を提供すること。 - 特許庁

Until cut, the friction surfaces 46 are out of restraint from each other and in exposed condition, so that there is no risk that a resin rich layer, oxidated layer, coating layer, etc., are produced on these surfaces 46, and it is possible to reduce dispersion of the μ-value and the flatness of the backing metal pieces 32 and their dispersion.例文帳に追加

従って、切断される迄は摩擦面４６は互いに拘束状態かつ非露出状態にあるので、レジンリッチ層、酸化層、塗膜層等が摩擦面４６に生じることもなく、μのバラツキや裏金３２の平面度並びにバラツキを低減することができる。 - 特許庁

A thrusting section 2 is lowered by a cylinder mechanism section 1 to pressurize the inner peripheral segment 3d and outer peripheral segment 3f of the upper disk substrate 3a by the under surface of the thrusting section 2, by which the flatness of the disk substrates equal to that of pressurizing the entire part of the top surface of the upper disk substrate 3a may be assured.例文帳に追加

シリンダー機構部１によって押圧部２を下降させて、押圧部２の下面により上側ディスク基板３ａの内周部分３ｄおよび外周部分３ｆを加圧することにより、上側ディスク基板３ａの上面全体を加圧するのと同等のディスク基板の平坦性を確保できる。 - 特許庁

The thickness in the outer peripheral part 10a of the rotary polyhedral mirror 10 is expanded to a tapered shape outward in a diametral direction, by which the centrifugal force acting on the reflection surface 11 is prevented from being made nonuniform in the peripheral direction of the rotary polyhedral mirror 10 and the flatness of the reflection surface 11 is maintained.例文帳に追加

回転多面鏡１０の外周部１０ａの厚みを径方向外方へテーパー状に拡大することで、反射面１１に作用する遠心力が回転多面鏡１０の周方向に不均一になるのを防ぎ、反射面１１の平面度を維持する。 - 特許庁

To keep flatness of a glass substrate surface, to remedy roughness of the glass substrate surface, and to remove defect on the glass substrate surface, in a polishing process of polishing the locally-worked glass substrate surface for remedying the roughness by the local working and removing the defect.例文帳に追加

局所加工が施されたガラス基板表面を、局所加工による面荒れの改善や表面欠陥の除去を目的として研磨するにあたり、この研磨工程において、ガラス基板表面の平坦度を維持しつつ、ガラス基板表面の面荒れを改善するとともに、ガラス基板表面の表面欠陥を除去する。 - 特許庁

To enable sufficient adjustment and compensation of the bending of rolls occurring as a result of camber caused by heat and by receiving a load and the change of a roll gap which is generated by that and to enable the optimum control of the cross section and flatness of this rolling mill.例文帳に追加

熱によるキャンバの結果としてまた荷重を受けて起きるロールの曲りとそのことによって生じるロール間隙変化との十分な調節および補償を可能とし、この圧延機の最適な断面・平坦度制御を可能とする、円筒形または対称に研削されたロールを有する熱間平圧延機を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a pigment dispersed colored paste for a color filter, having a small composition dispersion and excellent pigment dispersibility without discharging waste liquid containing a pigment, a polymer, etc., and to obtain a color filter having an uniformity in a film thickness of picture elements and excellent flatness by using the colored paste.例文帳に追加

顔料やポリマー等を含んだ廃液を環境中に排出することなく、組成バラツキの小さい、顔料分散性に優れたカラーフィルター用顔料分散着色ペーストの製造方法を提供し、該着色ペーストを用いて、画素膜厚差の小さく平坦性に優れたカラーフィルターを提供する。 - 特許庁

To provide an epitaxial wafer for compound semiconductor element provided with a nearly ideal n-type InGaAs non-alloy layer not resulting in any influence on the characteristics of transistors, by solving the problems of surface flatness, diffusion into the lower layers and memory effect resulting from an n-type dopant on the InGaAs non-alloy layer of the uppermost layer.例文帳に追加

最上層のＩｎＧａＡｓノンアロイ層へのｎ型ドーパントが及ぼす表面の平坦性、下層への拡散、及びメモリー効果といった課題を解決して、トランジスタの特性に影響が無い、理想に近いｎ型のＩｎＧａＡｓノンアロイ層を具備する化合物半導体素子用エピタキシャルウェハを提供すること。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of effectively avoiding occurrence of distortion in an optical frame, reducing the weight of a box shaped structure and decreasing the cost with a simple configuration even when the flatness of a mounting part of a main body frame side is not sufficiently maintained.例文帳に追加

本発明は、本体フレーム側の取付部の平面度が十分に保たれていない場合であっても、簡単な構成で、光学フレームにおける歪みの発生を効果的に回避できるとともに、箱状構造体の重量の軽量化とコストの低減を図ることができる画像形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

A substrate 71 configurating a polarization hologram 50 is so set that its flexural rigidity attains a value higher than the value meeting the thermal stress generated in a birefringent film 81 in forming a grating by increasing, for example, its sheet-metal gage or the like and therefore the flatness higher than heretofore can be obtained with the polarization hologram.例文帳に追加

偏光ホログラム５０を構成する基板７１は、例えば、板厚を大きくするなどして、その曲げ剛性が格子の形成時に複屈折膜８１に生じる熱応力に応じた値以上となるように設定されているために、偏光ホログラムでは従来よりも高い平坦度を得ることができる。 - 特許庁

To provide a transfer film preferably used for forming an inorganic thin film pattern, and a manufacturing method for the inorganic pattern excellent in manufacturing efficiency wherein the inorganic pattern using the transfer film and having a surface flatness is obtained and workability can be substantially improved compared with a conventional manufacturing method.例文帳に追加

無機薄膜パターンの形成に好適に用いられる転写フィルムと、当該転写フィルムを用いた、表面平滑性の高い無機パターンが得られ、従来の製造方法に比べて、実質的に作業性を向上することができる製造効率の優れた無機パターンの製造方法を提供すること。 - 特許庁

Since a first reflection surface 23a of an imaging section 23 has an inclination angle α, a flat surface having high flatness can be relatively easily segmented and the imaging section 23 having high reflection characteristics can be manufactured in manufacturing of a mold for forming the first reflection surface 23a.例文帳に追加

画像取出部２３の第１の反射面２３ａが傾斜角度αを有していることにより、第１の反射面２３ａを形成するための型の作製に際して、平坦性の高い平坦面切り出すことが比較的容易にでき、反射特性の高い画像取出部２３の作製が可能となる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a color filter which can reduce uneven colors and fluctuating display speed by improving the flatness of the colored layers formed by ink jetting in light shading layer apertures in an ink jet system, and making the distance even between the color filter and the TFT substrate facing it in the LCD panel.例文帳に追加

インクジェット方式において、遮光層開口部内に吐出、形成された着色層の平坦性を向上させ、ＬＣＤパネルに於けるカラーフィルタと対向するＴＦＴ基板との距離を均一化させる事により、色ムラや表示速度ムラの低減が可能なカラーフィルタの製造方法を提供すること。 - 特許庁

A substrate which has a diameter much larger than the diameter of the medium is formed by injection molding, and an outer peripheral part having a swell of the substrate surface formed by the injection molding is cut and removed to manufacture a substrate which has excellent flatness at its outer peripheral part.例文帳に追加

射出成形により、媒体の直径よりも十分に大きな直径を有する基板を形成し、その外周部を切削することにより、射出成形により発生した基板面の盛り上がりを有する外周部分を除去して、外周部の平坦度が非常に良好な基板を作製する。 - 特許庁

To provide an alignment system capable of embodying perpendicular vapor deposition by fixing and supporting a substrate and sufficiently securing flatness of a mask by minimizing the influence of fine particles during transfer in a thin film vapor deposition system of an in-line form, a vertical tray transfer apparatus, and a vapor deposition system including the same.例文帳に追加

インライン形態の薄膜蒸着システムにおいて、基板を固定及び支持して鉛直蒸着を具現し、移送中微細粒子の影響を最小化してマスクの平坦度を充分に確保することができる整列システム、垂直型トレイ移送装置及びこれを具備した蒸着装置を提供すること。 - 特許庁

The flatness of a spacer 10 is enhanced by doping the spacer layer 10 with oxygen, when growing sequentially the crystals of a buffer layer 2, a channel layer 4, the spacer layer 10, an electron supply layer 5, and a contact layer 6 by supplying dopant material, group III material, group V material, and gas for dilution onto a heated substrate 1.例文帳に追加

加熱された基板１上にドーパント原料、III族原料、Ｖ族原料及び希釈用ガスを供給し、バッファ層２、チャネル層４、スペーサ層１０、電子供給層５及びコンタクト層６を順次結晶成長させる際に、スペーサ層１０に酸素をドーピングすることにより、スペーサ層１０の平坦度が向上する。 - 特許庁

To provide a foam sheet for polishing for a polishing pad used in surface flattening work to semiconductor device wafers for interlayer insulation film or metal wiring, in which polishing speed is high compared to conventional parts, and in which device surface flatness after polishing and uniformity in the wafer surface are balanced to realize high precision polishing.例文帳に追加

層間絶縁膜や金属配線等の、半導体のデバイスウエハの表面平坦化加工に用いられる研磨パッドにおいて、従来パッドに比べて研磨速度が速く、研磨後のデバイス表面の平坦性とそのウエハ面内均一性のバランスの良い、高精度な研磨を実現する研磨用発泡シートを提供する。 - 特許庁

To provide a composition suitable for forming a protective film for an optical device, which film is forming a highly flat cured film even on a substrate of a low flatness surface, and is excellent in transparency, surface hardness, heat resistance, pressure resistance, acid resistance, alkali resistance, sputtering resistance and storage stability.例文帳に追加

表面の平坦性が低い基体であっても、当該基体上に、平坦性の高い硬化膜を形成することができ、しかも、透明性および表面硬度が高く、耐熱耐圧性、耐酸性、耐アルカリ性、耐スパッタ性、保存安定性等に優れた光デバイス用保護膜を形成するために好適な組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a master disk bearing information to be transferred by magnetic transfer, capable of transferring the shape of an uneven pattern on an original disk well in electroforming, and preventing the generation of internal stress in an electroforming layer, and having high flatness and high adhesion to the slave disk of a transfer destination.例文帳に追加

磁気転写によって転写する情報を担持したマスターディスクであって、電鋳を行う際に原版上の凹凸パターンの形状転写が良好になされ、また、電鋳層に内部応力を生じにくく、高平坦であり、被転写用のスレーブディスクに対して密着性の高いマスターディスクを提供する。 - 特許庁

To provide an end face emitting nitride semiconductor light-emitting element capable of forming a high-dislocation density region and a low-dislocation density region without being affected by surface flatness in a nitride semiconductor growth layer, where a plurality of nitride semiconductor thin films are laminated on a wafer in a plane.例文帳に追加

本発明は、高転位密度領域と低転位密度領域を面内に有するウェーハ上に複数の窒化物半導体薄膜を積層して成る窒化物半導体成長層の表面平坦性の影響を受けることなく作製できる端面出射型の窒化物半導体発光素子を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid crystal display element, with which projections for liquid crystal alignment excellent in stability in the shape, size and height can be formed while ensuring upper face flatness of a column spacer, and to provide a liquid crystal display device.例文帳に追加

ネガ型レジストを用いて液晶配向用突起とカラムスペーサとを同時に形成する液晶表示装置の製造方法であって、カラムスペーサの上面平坦性を確保しながら、形状、大きさ及び高さの安定性に優れる液晶配向用突起を形成することができる液晶表示素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor display device with an inter-layer insulating film which can obtain surface flatness while suppressing a filming time, suppress the time of heat treatment processing for water removal, and prevent water in the inter-layer insulating film from being discharged to an adjacent film or electrode.例文帳に追加

成膜時間を抑えつつ表面の平坦性を得ることができ、水分除去を目的とした加熱処理の処理時間を抑えることができ、なおかつ層間絶縁膜中の水分が隣接する膜または電極に放出されるのを防ぐことができる、層間絶縁膜を有する半導体表示装置の提供を課題とする。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of effectively avoiding occurrence of distortion in an optical frame and reducing the weight of a box shaped structure and decreasing the cost with a simple configuration even when the flatness of a mount of a main body frame side is not sufficiently maintained.例文帳に追加

本発明は、本体フレーム側の取付部の平面度が十分に保たれていない場合であっても、簡単な構成で、光学フレームにおける歪みの発生を効果的に回避できできるとともに、箱状構造体の重量の軽量化とコストの低減を図ることができる画像形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The electrostatic chuck is provided with an insulating substrate, an electrode formed on the insulating substrate and a dielectric body formed on the insulating substrate and the electrode while the thickness of the electrode formed on the insulating substrate is specified so as to be 1/10 or less with respect to the flatness of the insulating substrate.例文帳に追加

絶縁性基体と、当該絶縁性基体上に形成された電極、及び前記絶縁性基体及び前記電極上に形成された誘電体を有する静電チャックであって、前記絶縁性基体上に形成された電極の厚さが、前記絶縁性基体の平面度に対して１／１０以下である静電チャック。 - 特許庁

To provide a monitor wafer which has a flattened surface enough high in accuracy to detect micro particles and can be used as a particle monitor wafer requiring high surface flatness by comparatively many times, and to provide a method of manufacturing the monitor wafer.例文帳に追加

十分微細なパーティクルを検出することができる程度に高精度に平坦化された表面を有し、かつ、ダミーウエハはもちろん、高い表面平坦性が要求されるパーティクルモニタウエハとしても、比較的多くの回数にわたって繰り返し利用することができるモニタウエハ、およびこのようなモニタウエハの作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a forming method and a forming device for a semiconductor substrate with high performance by excellently obtaining both flatness of a semiconductor film surface and crystallinity when the amorphous semiconductor film is crystallized, and to provide a manufacturing method and a manufacturing device for the semiconductor device using the same forming method.例文帳に追加

非晶質半導体膜の結晶化に際し、当該半導体膜表面の平坦性および結晶性の双方を良好に実現させ、高性能な結晶性半導体を形成する形成方法および形成装置、並びに当該形成方法を用いた半導体装置の製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

A grouping section 6 selects a sub-block having the largest calculated flatness among sub-blocks included in one frame as an independent block and groups the sub-blocks included in the one frame to form a group of the independent group and a group including at least two successive sub-blocks except for the independent block.例文帳に追加

グルーピング部６では、１フレームに含まれたサブブロックのうちから最大の平坦度が算出されたものを単独ブロックとして選択し、１フレームに含まれたサブブロックを、単独ブロックのグループと、単独ブロック以外のサブブロックのうちの連続する少なくとも２つを含むグループとを作るようにグルーピングする。 - 特許庁

A recess 11 is formed at a position in contact with an inner-layer electrode 1 on the lower surface of a laminated sheet 2 laminated onto the laminated sheet 2 having the inner-layer electrode 1, thus accommodating the inner-layer electrode into the recess and hence improving the flatness in the high-frequency laminated component.例文帳に追加

内層電極１を有する積層シート２上に積み重ねられる積層シート２の下面における内層電極１が当接する位置に凹部１１を形成することで、内層電極がこの凹部に収容されることになり、高周波積層部品の平坦度を向上させることが出来るのである。 - 特許庁

In the thermosetting adhesive sheet obtained by impregnating an adhesive composition having 500-7,000 MPa elastic modulus of a cured product into glass cloth, flatness ratio of yarn bundle of glass cloth is ≤10% and average space between adjacent yarn bundles of the glass cloth is ≤10% of average yarn bundle width.例文帳に追加

硬化物の弾性率が５００〜７０００ＭＰａである接着剤組成物をガラスクロスに含浸した熱硬化性接着シートにおいて、ガラスクロスの糸束の扁平率が１０％以下であり、かつ、該ガラスクロスの隣合う糸束間の平均隙間が平均糸束幅の１０％以下であることを特徴とする熱硬化性接着シート。 - 特許庁

To provide a glass plane surface tailoring table wherein a flatness can be simply maintained with a high precision, manufacturing cost can be reduced by simplifying prior polishing work and actual adjusting work, and a damage portion can be restrained to a minimum even if stress or the like is applied.例文帳に追加

本発明は、平面度を簡易に高精度に維持することができ、事前の研磨作業、実際の調整作業の簡略化による製造コストの低廉化を図ることができ、更に仮に歪力等が作用したとしても損傷箇所を最小限に止めことができるガラス製平面調整テーブルを提供する。 - 特許庁

To provide a polishing method of wafer substrate, and a wafer provided thereby, superior in high flatness, and manufacturable with excellent reproducibility of work accuracy, without using a wax sticking method, in a mirror surface polishing work method of a piezoelectric oxide monocrystal wafer substrate such as for an elastic surface wave device.例文帳に追加

弾性表面波デバイス等の圧電性酸化物単結晶ウェーハ基板の鏡面研磨加工方法に関し、ワックス貼り付け方法を用いることなく、高平坦度等の優れた加工精度を再現性よく製造することができるウェーハ基板の研磨方法及びこれによって得られるウェーハを提供する。 - 特許庁

The deformation (the flatness or inclination of the whole body, inclination of a guide mechanism, etc.) of stage guide bases 141 and 171 caused by the offset loads, vibrations, torsion, etc., associated with the movement of a reticle stage main body 137 and a wafer stage main body 167 can be corrected by means of each seat supporting mechanism 131 (sensor-integrated piezo-actuator 143) etc.例文帳に追加

本発明では、レチクルステージ本体１３７、ウェハステージ本体１６７の移動に伴う偏荷重や振動、ねじり等により生じる、ステージガイドベース１４１、１７１の変形（全体の平面度や全体の傾き、ガイド機構の傾き等）を、各座支持機構１３１（センサ一体型ピエゾアクチュエータ１４３）等で修正できる。 - 特許庁

To keep the rolling load under control within the targeted value without increasing the plate thickness fluctuation at the outlet, to control the reduction amount without increasing the rolling load fluctuation, and to prevent the deterioration of the plate flatness and the crown of a rolling material by optimizing the load balance of the whole system of a tandem rolling machine.例文帳に追加

本発明は、出側板厚変動を増長することなく圧延荷重を目標値に制御し、圧延荷重変動を増長することなく圧下量を制御し、タンデム圧延機においてタンデム圧延機全体の負荷バランスを適正化して圧延材の板平坦度やクラウンの悪化を防止することを目的とする。 - 特許庁

By forming the flange 4 having the step 13, holes 3 for flange fitting screws are formed on the outside 12 of the step, and when the flange is fit with the screws, since only the seal surface of inside 11 of the step comes in contact with the structure 10, high flatness is required to only a part on the inside 11 of the step.例文帳に追加

この段差１３を有するフランジ４を形成することにより、段差の外側１２にフランジ取り付けネジ用穴３を形成し、ネジで取り付ける際にも、必要とされる段差内側１１のシール面だけで構造物１０に接するので、段差内側１１の限定された部分だけの平面度を向上させれば良い。 - 特許庁

To provide a surface acoustic wave device and a method of manufacturing the surface acoustic wave device in which excellent characteristics can be obtained by ensuring flatness in a portion for forming a surface acoustic wave element in the surface acoustic wave device including an IC region and a surface acoustic wave element region in a semiconductor substrate and formed as a single chip.例文帳に追加

半導体基板にＩＣ領域と弾性表面波素子領域とを備え一つのチップに構成した弾性表面波装置において、弾性表面波素子を形成する部分の平坦度を確保し、良好な特性の得られる弾性表面波装置および弾性表面波装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface protection polypropylene based resin film roll which excels in heat-resistant dimensional stability and flatness, excels in impact resistance and lamination processability, reduces fish eyes, has good transparency, furthermore does not vary the external appearance, and is suited in each step of pressure-sensitive adhesive application, adhesion processing, and peeling and a surface protection film roll.例文帳に追加

耐熱寸法安定性や平面性に優れ、耐衝撃性や貼り合わせ加工性に優れ、フィッシュアイが少なく、透明性がよく、さらに外観変動がなく、粘着剤塗布・粘着加工・剥離の各工程に適した表面保護用ポリプロピレン系樹脂フィルムロールおよび保護フィルムロールを提供することにある。 - 特許庁

The colored fine particle-involved glass particle is preferably silica glass and further preferably flaky silica glass having 0.1-2 μm average thickness, 5-150 aspect ratio and ≤200 nm flatness or granular silica glass having 0.1-50 μm average particle size and 0.1-50 μm sphericity.例文帳に追加

前記着色微粒子内包ガラス粒子が、シリカガラスであることが好ましく、また、前記着色微粒子内包ガラス粒子が、平均厚さ０．１〜２μｍ、アスペクト比５〜１５０であり、かつ、平面度が２００ｎｍ以下のフレーク状であるもの、または、平均粒子径０．１〜５０ μｍ、真球度０．１〜５０μｍの粒状であるものが好ましい。 - 特許庁

To provide an adhesive sheet with a decorative printing layer capable of improving the yield in a process, reducing the number of processes, simplifying production equipment, achieving flatness of the information display part surface of a portable terminal appliance at a production site of a portable terminal appliance, its manufacturing method, and a portable terminal appliance.例文帳に追加

携帯端末機器の製造現場において、工程での歩留まり向上、工程数の削減、製造設備の簡素化、携帯端末機器の情報表示部表面の平坦化などに対応することができる加飾印刷層付き粘着シートとその製造方法、および携帯端末機器を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition with which storage stability and low-temperature firing can be achieved and which has adequate radiation sensitivity, and a hardening film excellent in terms of heat resistance, chemical resistance, permeability, flatness, voltage retention, linear thermal expansion resistance etc. which are required for the hardening film, a hardening film formation method and a display element.例文帳に追加

保存安定性と低温焼成を両立し、かつ充分な放射線感度を有する感放射線性樹脂組成物、及び硬化膜としての要求特性である耐熱性、耐薬品性、透過率、平坦性、電圧保持率、耐線熱膨張性等に優れる硬化膜、硬化膜の形成方法、及び表示素子の提供 - 特許庁

To provide a disk protrusion detection/flatness measurement circuit and a disk glide tester, in which protrusion detection and average value calculation can be performed without switching signal processing circuits of two systems, one for the protrusion detection of a disk and the other for the average value calculation with respect to a track or a sector of the disk, and the size of the measurement circuit is reduced.例文帳に追加

ディスクの突起検出とトラックあるいはセクタ対応の平均値算出の２系統の信号処理回路を切換えることなしに突起検出と平均値算出ができかつ測定回路の小型化が可能なディスクの突起検出・平坦度測定回路およびディスクのグライドテスターを提供することにある。 - 特許庁

To provide a fluorescent solution having a uniformly dispersed fluorescent material and further giving a fluorescent film without deteriorating the fluorescent material; to provide a fluorescent film having excellent optical characteristics, film flatness and heat resistance using the solution; and to provide electronic devices such as a light emitting device, an illumination device, and a backlight for a display device, using the fluorescent film.例文帳に追加

蛍光体が均一に分散でき、更には蛍光体を劣化させずに蛍光フィルムを得る事が出来る蛍光溶液、当該溶液を用いて得られる、光学特性やフィルム平坦性、耐熱性に優れる蛍光フィルム、蛍光フィルムを使用した、発光装置、照明装置、表示装置用バックライト等の電子機器の提供。 - 特許庁

To provide a method for mounting a pellicle having air permeability capable of coping with a pressure change in the ambient atmosphere without inducing the deposition of a foreign substance on a photomask, in which the bulge of the pellicle film caused by involved air upon sticking the pellicle to the photomask can be quickly eliminated to restore the flatness of the film to an original state.例文帳に追加

フォトマスクへの異物付着を招くことなく周囲雰囲気の圧力変化時に対応できる通気性を有し、かつ、フォトマスクに貼り付ける時に巻き込んだ空気によるペリクル膜の中央部の膨れを速やかに解消して平坦性を元の状態に回復させることができるペリクルの取付方法を提供する。 - 特許庁

The optical fiber sensor head wherein the cylinder is strained to turn its flatness varied by applying the external pressure used as signal to the cylinder with elasticity, so that the optical phase passing through it is varied by making the optical fiber undergo expansion/contraction in such a manner that a tension of the optical fiber wound on it varies.例文帳に追加

本発明では、信号となる外圧を、弾性を有する円筒に加わえることにより、その円筒が歪み、偏平度が変化し、そこに巻かれた光ファイバの張力が変化することにより、その光ファイバが伸縮して、そこを通過する光位相に変化を与える光ファイバセンサヘッドを提供する。 - 特許庁

To provide a dressing of a polishing pad for adjusting a polishing surface of the polishing pad to prescribed flatness and surface roughness, a method for polishing a glass substrate for polishing a main plane of the glass substrate by using the polishing pad adjusted in the dressing, and a method for manufacturing the glass substrate using the method for polishing the glass substrate, without impairing productivity.例文帳に追加

生産性を損なうことなく、研磨パッドの研磨面を所定の平坦度と表面粗さに調整する研磨パッドのドレス処理と、該ドレス処理で調整した研磨パッドを用いてガラス基板の主平面を研磨するガラス基板の研磨方法及び該研磨方法を用いたガラス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁