flatnessを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 3514件
To provide an abrasive composition that can polish a copper film, barrier layer composed of a tantalum compound, and SiO_2 insulating layer at almost equal polishing speeds in a CMP process performed on a semiconductor device having the copper film, barrier layer composed of the tantalum compound, and SiO_2 insulating layer and can improve dishing and flatness than the overpolishing method does.例文帳に追加
銅膜、タンタル化合物のバリア層、SiO_2の絶縁層を有する半導体デバイスのCMP加工プロセスにおいて、銅膜、タンタル化合物のバリア層、SiO_2の絶縁層の研磨速度がほぼ同程度であり、ディッシング、平坦性がオーバーポリシング法より改善される研磨用組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a polishing composition hardly causing the coagulation of the abrasive grains in slurry or the deposition of the abrasive grains on the inner wall of a pipe, capable of reducing a dishing phenomenon, allowing the selective polishing of a bimetal, and having good flatness after a CMP process.例文帳に追加
スラリー中の砥粒の凝集や配管内壁への砥粒の堆積が生じにくい研磨組成物が提供するとともに、CMP工程に用いた場合に、ディッシング現象が低減でき、バリアメタルの選択的な研磨が可能であり、かつ、CMP工程後の平坦性が良好な研磨組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a liquid crystal optical modulator with which excellent electro-optical characteristics are simply obtained at low cost and which consumes low power without using an alignment layer such as a polyimide film and so on, which brings about occurrence of fine dust and static electricity, and deterioration in flatness of a substrate surface and a liquid crystal display device using the same.例文帳に追加
微細塵や静電気の発生や基板表面の平坦性の劣化を招来するポリイミド膜等の配向膜を使用することなく、良好な電気光学特性を簡易かつ低コストで得ることのできる低消費電力の液晶光変調器およびそれを用いた液晶表示装置を提供する。 - 特許庁
To provide a radiation curing resin composition for DVD adhesive which has viscosity suitable for an application method such as a spin coating method before curing and which generates no warp and has small water absorbance, high rigidity (Young's modulus), and superior surface flatness, under wet and hot environment when mounted on a vehicle or the like after curing.例文帳に追加
硬化前の状態でスピンコート等の塗布方法に好適な粘度を有し、かつ、硬化後には、自動車に搭載する用途等における湿熱環境下において、反りを生じず、吸水性が小さく、剛性(ヤング率)が高く、表面平滑性に優れるDVD接着剤用放射線硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
Thereby, in a substrate sticking step, rolls of the spherical spacers on the first substrate interval holding layer can be prevented even when flatness of the first prior substrate can not quite maintained and the substrate interval between the first and the second prior substrates can be made uniform through the spacers over the entire regions of the prior substrates.例文帳に追加
このため、基板貼り合わせ工程において、第1前段基板の平坦性が若干保てない場合でも粒状のスペーサーが第1の基板間隔保持層上から転がるのを防止でき、スペーサーを通じて前段基板の全領域に亘って第1前段基板と第2前段基板の基板間隔を均一化できる。 - 特許庁
To provide a pellicle storage container which has rigidity enhanced by a structure fixed on the backside of a pellicle placing face with fixtures, prevents deformation of adhesive material for a mask by flatness directly imparted to the pellicle placing face, and enables recycling of the structure.例文帳に追加
本発明は、ペリクルの載置面の裏側に構造体を固定具により固定してペリクル収納容器の剛性を補強すると共にペリクルの載置面に直接平坦性を付与してマスク用粘着材の変形を防止し、構造体のリサイクルも可能としたペリクル収納容器を提供することを可能にすることを目的としている。 - 特許庁
By this, while nearly flatness of the image display region 15 is secured, the contact pressure at a barrier rib 4 by the front face substrate 2 and the rear face substrate 3 is made to exist at least on one side of the front face substrate 2 and the rear face substrate 3, and a gap is hardly formed between the front face substrate 2 and the barrier rib 4.例文帳に追加
このことにより、画像表示領域15の略平坦性は確保されたまま、前面基板2と背面基板3とが隔壁4で圧接する力を、前面基板2、背面基板3の少なくとも一方に内在した構成となり、前面基板2と隔壁4との間に隙間は生じ難くなる。 - 特許庁
To provide a dresser for a pad-attached surface of an upper surface plate of a double-face polishing device capable of eliminating foreign matter such as fixed material and rust adhered to a pad-attached surface of the surface plate and capable of maintaining surface roughness of the pad-attached surface at the same time in good balance without changing flatness of the pad-attached surface.例文帳に追加
定盤のパッド貼着面に固着した凝縮物や錆びなどの異物の除去と、該パッド貼着面の表面粗さの維持とを、該パッド貼着面の平坦度を変化させることなく同時にかつバランス良く行うことができる、両面研磨装置における上定盤のパッド貼着面用のドレッサを得る。 - 特許庁
To provide a packaging polyester film having impact resistance, folding pinhole resistance, and excellent gas barrier properties which a biaxially oriented polyamide film has, while maintaining low moisture absorption, dimensional stability, flatness, and transparency which are characteristics of the polyester film, and to provide a packaging material given by using the packaging polyester film.例文帳に追加
ポリエステルフィルムの特長である、低吸湿性、寸法安定性、平面性、透明性を維持したまま、ポリアミド二軸延伸フィルムの有する耐衝撃性、耐屈曲ピンホール性さらには優れたガスバリア性を有する包装用ポリエステルフィルムおよび該包装用ポリエステルフィルムを使用した包装材料を提供する。 - 特許庁
To provide a mold release film which has excellent releasability from a mold and a molded article, excellent mold transfer property enabling the shape of the mold to be transferred with dimension as designed, and which provides surface flatness of the molded article and also has heat resistance in use at about 140°C.例文帳に追加
モールド金型や成形品との剥離性に優れ、しかも、モールド金型の形状が設計寸法通りに成形品へ転写される型形状転写性に優れるとともに、成形品の表面平滑性が得られ、さらには、140℃前後の使用温度における耐熱性も有する離型用フィルムを提供する。 - 特許庁
To provide a liquid crystal display of excellent display quality, capable of enhancing flatness of an electrode on a reflecting layer, by forming a flattened layer on the reflecting layer having an irregular shape on a surface, and capable of uniformizing an electric field generated between the electrode on the flattened layer and the other electrode.例文帳に追加
表面に凹凸形状を有する反射層上に平坦化層を形成することで、反射層上の電極の平坦性を向上させ、平坦化層上の電極と他方の電極との間に発生する電界をより均一にし、優れた表示品質を有する液晶表示装置を提供すること。 - 特許庁
In a plasma processing apparatus in which a stage 11 having a placement plane 11a for placing a wafer W of the object of the plasma processing is provided, the placement plane 11a has a flatness with a difference of 100 μm or smaller in height after the stage 11 is deformed at a temperature at which the apparatus is used for the plasma processing and before the stage 11 is not deformed.例文帳に追加
プラズマ処理対象のウェハWが載置される載置面11aを有するステージ11を備えたプラズマ処理装置において、載置面11aは、プラズマ処理時の装置使用温度でステージ11が変形した後とステージ11が変形する前の高低差が100μm以下の平坦度を有する。 - 特許庁
To obtain a transportation carriage capable of carrying and moving in a stable state even at a place without flatness by arranging casters on both right and left sides of a carriage body as outward as possible so that the range of turning reaches the outside of the carriage body when mounting six of turning casters or fixed casters on the carriage body.例文帳に追加
6輪の旋回キャスターまたは固定キャスターを台車本体に取付ける場合に、キャスターを可能な限り台車本体の左右両側の外側に配置して旋回範囲が台車本体の外側に達するようにし、平坦度のない場所でも安定状態で運搬移動できるようにした運搬台車を得る。 - 特許庁
To provide a bent pipe stress evaluation method and a bent pipe stress evaluation device capable of evaluating axial and circumferential stress generated in the bent pipe precisely without being affected by sectional flatness of the bent pipe even if it is not possible to directly measure the bent pipe section since other buried objects, or the like approach.例文帳に追加
他の埋設物などが近接して曲管部を直接測定することができない場合であっても、曲管の断面扁平の影響を受けず、精度よく曲管に生じる軸方向および円周方向応力を評価することが可能な、曲管の応力評価方法および曲管の応力評価装置を提供する。 - 特許庁
In an electrode for electric discharge machining to perform the dull working on a roll while injecting working oil from the inside of the electrode, a projection area of a tip of the electrode is set to be ≤70 mm^2, and the flatness ratio of the width to the height of the electrode shape which is horizontally flat in the rotating direction of the roll is set to be ≥1.5.例文帳に追加
電極内部から加工油を噴射しつつ加工する、圧延ロールにダル加工を施す放電加工用電極であって、電極先端投影面積が70mm^2 以下、さらに電極形状をロールの回転方向に対し横に扁平した形状で、横長/ 縦長の扁平率を1.5 以上とする。 - 特許庁
The tire 1 equipped with a rim guard 10 and having a flatness ranging between 30-50% is set on a rim 2, and a number of hollow particles 13 consisting of a continuous phase made of resin and independent bubbles surrounded thereby and able to make thermal expansion are encapsulated by pressure in a tire air chamber 3 bounded by the rim 2 and the tire 1.例文帳に追加
リムガード10を具える、偏平率が30〜50%の範囲のタイヤ1を適用リム2に装着し、この適用リム2とタイヤ1とで区画されるタイヤ気室3内に、樹脂よりなる連続相と、それに囲まれた独立気泡とからなる熱膨張可能な中空粒子13の多数個を加圧下で封入してなる。 - 特許庁
The storage case 2 includes a rectangular box shape with vertical flatness and is provided with, at one side plate side, a case body 12 which includes an gateway 11 where the sealant container 6 can enter and leave from below and a bottom lid 14 which can be attached to the gateway 11 with freely attaching/detaching methods via a restraining means 13.例文帳に追加
収納ケース2は縦型偏平な矩形箱状をなし、一方の側板部側に前記シーリング剤容器6を下方から出し入れしうる出入れ口11を具えるケース本体12と、前記出入れ口11に係止手段13を介して着脱自在に取り付けられる底蓋14とを具える。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of an optical film which prevents irregularity in the end part of a cast ribbon (ribbon-like resin solution) on the occasion of dope casting and enables high-speed manufacture of the optical film excellent in flatness, in regard to the optical film used for a protective film for a polarizing plate of a liquid crystal image display (LCD), or the like.例文帳に追加
液晶画像表示装置(LCD)の偏光板用保護フィルムなどに用いられる光学フィルムについて、ドープ流延の際の流延リボン(リボン状樹脂溶液)の端部の乱れを防止することができて、平面性の優れた光学フィルムを高速で製造することができる、光学フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁
To obtain a wideband elastic wave filter in which an attenuation gradient at a side higher than a pass frequency band is sharp and the flatness of the pass frequency band is excellent, the elastic wave filter being configured by disposing IDT electrodes on a piezoelectric substrate as transmitting-side and receiving-side electrodes.例文帳に追加
IDT電極を圧電基板上に送信側電極及び受信側電極として弾性波の伝搬方向に並べた弾性波フィルタにおいて、通過周波数帯域よりも高域側の減衰傾度が急峻で且つ通過周波数帯域の平坦性が良好な広帯域の弾性波フィルタを得ること。 - 特許庁
To provide equipment for producing a strip plate wherein, even when the irregular shapes are asymmetrically or ununiformly formed on both width edge parts of a strip plate produced by a continuous casting machine, the thickness distribution of both width edge parts of the plate after rolling is made uniform and further the flatness of the plate is made excellent.例文帳に追加
連続鋳造機で鋳造された板の幅両端部に生じる凹凸形状が左右対称ではなく不均一に生じた場合でも、圧延後の幅方向両端の板厚分布が均一となるようにすると共に、板の平坦度も良好となるようにした帯板製造設備を提供する。 - 特許庁
To provide a coating film forming method needless for an expensive coating fixture, capable of coping with various coating materials and uniformly applying even on the surface of a base material to be coated which has unevenness and the variation in flatness, in the coating film forming method for forming a coating film by applying the liquid coating material on the surface of the base material.例文帳に追加
目的とする被塗布基材の面上に液状塗布材を塗布し、塗布膜を形成するための塗布膜形成方法で、高価な塗布治具を必要とせず、各種塗布材にも対応でき、且つ、被塗布基材の面に凹凸や平坦性にバラツキがある場合にも、均一に塗布できる、塗布膜形成方法を提供する。 - 特許庁
To prevent the deterioration of jitter and face inclination characteristics caused when the flatness of the seating face of a rotor boss is not kept highly precisely due to sagging or deformation in an assembly process prior to fix a polygon mirror in a polygon mirror scanner motor used for a laser scanning in a laser beam printer or a copying machine.例文帳に追加
レーザービームプリンタや複写機等で、レーザースキャニングに利用されるポリゴンミラースキャナモータにおいて、ロータボス座面の平面度がポリゴンミラーを固定する前段階での組立工程によるダレ、変形などによって高精度に保たれていない場合に発生するジッタ、面倒れ特性の悪化を防止することを目的とする。 - 特許庁
To provide a chemical mechanical polishing slurry for organic film polishing and a chemical mechanical polishing method capable of ensuring flatness of an organic film and suppressing production of scratches, and to provide a manufacturing method of a semiconductor device wherein wiring resistance and inter-wiring capacitance are reduced and a high wiring yield is attained.例文帳に追加
有機膜の平坦性が確保できるとともに、スクラッチの発生を抑制できる有機膜研磨用化学的機械的研磨スラリーおよび化学的機械的研磨方法、ならびに、配線抵抗および配線間容量が低減され、かつ配線歩留まりの高い半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a thermosetting one-solution type composition for a protective film of a color filter which has good adhesive strength, transparency, film strength, heat resistance, acid resistance and alkali resistance, and as well, can be stored for a long time, and to provide a color filter including the protective film manufactured using the composition and excellent in flatness, adhesion and film strength.例文帳に追加
接着強度、透明性、皮膜強度、耐熱性、耐酸性、耐アルカリ性が良好で、更に長期保存が可能な熱硬化性の一液型カラーフィルター用保護膜組成物、および前記組成物を利用して製造された、平坦性、密着性及び膜強度に優れる保護膜を含むカラーフィルターを提供する。 - 特許庁
The steps S11-S13 are carried plural times to obtain plural numbers of height data in the same position of the wafer respectively, and a height of the wafer is found by statistical processing in a step S16, so as to measure thereby the flatness reduced in the influences affected by the dust, the fluctuation of air and the like.例文帳に追加
このようなステップS11〜S13を複数回行い、スーパーフラットウエハの同一位置の高さデータをそれぞれ複数個取得し、ステップS16の統計処理で、該スーパーフラットウエハの高さを求めることで、ごみや空気のゆらぎ等の影響を軽減したウエハホルダの平坦度を計測することができる。 - 特許庁
When the film unit 14 whose long side dimension is 85.6 mm is set in the aperture 18 whose dimension is 62×46 mm so that its longitudinal direction is aligned with the long side of the aperture 18 the flatness of the exposure surface of the film unit 14 is kept within ±1 mm by the pressing means 24 and the rib 25a.例文帳に追加
62×46mmの寸法の露光開口18に長辺寸法が85.6mmとなるフイルムユニット14をその長手方向を露光開口18の長辺に合わせてセットしたときに、押圧手段24と矯正リブ25aとによりフイルムユニット14の露光面の平面性が±1mm以内に保たれる。 - 特許庁
By forming a modified area 7 having such a shape in a workpiece 1, appearance of twists and hackles on the cut face is suppressed when cutting the workpiece 1 while making the modified area 7 the starting point of cutting, so that the flatness of the cut face is improved.例文帳に追加
このような形状を有する改質領域7が加工対象物1の内部に形成されると、改質領域7を切断の起点として加工対象物1を切断した際に、切断面にツイストハックルが現れるのを抑制することができ、切断面の平坦度を向上させることが可能になる。 - 特許庁
To provide a semiconductor device, a method for manufacturing the same and a substrate for such a semiconductor device having a substrate body of a sapphire, SiC, GaN or the like and an AlxGayInzN (x+y+z=1, x, y, z≥0) film having good crystallinity and flatness and epitaxially deposited on its surface directly or via a buffer film.例文帳に追加
サファイア、SiC、GaNなどの基板本体と、その表面に直接またはバッファ膜を介してエピタキシャル堆積された良好な結晶性および平坦性を有するAl_xGa_yIn_zN(x+y+z=1,x,y,z≧0)膜とを具える半導体デバイスおよびその製造方法およびこのような半導体デバイス用の基板を提供する。 - 特許庁
To provide a porous sintered compact produced by using a powder exhibiting good air permeability when sintered and having good moldability without needing the addition of a binder, and also provide a method for production thereof and a suction-fixing tool in which the porous sintered compact excellent in both flatness and parallelism is fixed to a holder.例文帳に追加
本発明は、焼結した際通気性がよく、また結合剤を添加しなくても成形性がよい粉末を用いて製造した多孔質焼結体、多孔質焼結体の製造方法並びに平面度及び平行度が優れた上記多孔質焼結体をホールダーに固定した吸引固定具を提供すること。 - 特許庁
To provide: a photosensitive resin composition excellent in heat resistance, solvent resistance, surface hardness, insulation property, flatness, transparency, chemical resistance and low dielectric property and having improved adhesion; a laminate in which a resin film comprising the photosensitive resin composition is formed on a substrate; and a method for producing the laminate.例文帳に追加
耐熱性、耐溶剤性、表面硬度、絶縁性、平坦性、透明性、耐薬品性及び低誘電性等に優れ、更に、密着性が改良された感光性樹脂組成物、この感光性樹脂組成物を用いてなる樹脂膜を基板上に形成した積層体、及びこの積層体の製造方法を提供する。 - 特許庁
While the alloy layer 116 which contains Ni being prevented from Au atom diffusing into the semiconductor layer, the internal dispersion and the absorption loss are eliminated at the interface between the semiconductor layer 111 or the contact layer 114 and the electrode 115 by preventing the aggravation of the interface flatness between the semiconductor layer and the electrode 115.例文帳に追加
上記Niを含む合金層116が、Au原子の半導体層中への拡散を防止する共に、半導体層と電極115との界面の平坦性の悪化を防止して、半導体層111やコンタクト層114および半導体層と電極115との界面での内部散乱や吸収損失をなくす。 - 特許庁
To provide a circuit board member carrying a high-precision circuit pattern and protected from circuit pattern displacement or flatness deterioration in the process of bonding an electronic component, by reflow soldering to the circuit board member, with the circuit board member constituted of a flexible film and a reinforcement board bonded together with an organic layer in between them for the retention of dimensional accuracy.例文帳に追加
可撓性フイルムを有機物層を介して補強板に貼り合わせ、寸法精度を維持することで、高精度な回路パターンを形成した回路基板用部材にはんだリフローで電子部品を接合する場合に、回路パターンの位置ずれや平坦性の劣化を起こすことなく、良好な回路基板用部材を提供すること。 - 特許庁
By providing a hologram printing method where recycled paper being low-class paper having a low flatness is coated with a mixture of an acrylic resin and the other, and this is transfer-printed with a hologram film by a UV hardening printing method, hologram printing is made possible even to a box for packaging or the like which is made of low-class paper.例文帳に追加
平滑度の低い低級紙である再生紙にアクリル系樹脂及びその他の混合物をコーティングし、これにホログラムフィルムをUV硬化印刷方法で転写印刷するホログラム印刷方法を提供することによって、低級紙で作る包装用ボックスなどにもホログラム印刷を可能にする。 - 特許庁
To provide a polishing slurry that can establish highly accurate surface polishing at high surface flatness, small surface roughness without generating micro scratches or micro pits and processing deteriorated layers on the surface, as well as high polishing speed when precisely polishing a silicon carbide single crystal substrate.例文帳に追加
炭化珪素単結晶基板の精密研磨において、表面平坦性が高く、表面粗さが小さく、表面の微小スクラッチや微小ピット、加工変質層が生じないような精度の高い表面研磨を達成しつつ、かつ速い研磨速度を達成することができる研磨スラリーを提供することにある。 - 特許庁
The surface of the YAG polycrystalline substrate has a mathematical surface roughness Ra of less than 1 nm, has no flaw whose width is 5 μm or more, has no dent whose diameter is 5 μm or more, has a height difference between the unit crystal particles constituting a polycrystal of 5 nm or less, is flat and smooth and has a flatness of less than 100 nm.例文帳に追加
このときの、YAG多結晶体基板の面は、算術表面粗さRaが1nm未満でかつ幅5μm以上のキズや直径5μm以上の窪みがなく、多結晶体を構成している単位結晶粒子間の高低差を5nm以下と平滑であり、平坦度も100nm未満となっている。 - 特許庁
And the plural sheets of tiles 1 can be adhered at a time and also by pushing the net 6 side of the tile unit body to an adhesive layer 4 on the wall surface and fixing, the whole of the tile unit body can be pushed to an adhesive layer 4 while individual tile 1 is freely moved in and out, and the flatness of the tile wall surface can be created.例文帳に追加
そして、複数枚のタイル1を一度に貼着することができ、また、タイル単位体のネット6側を壁面の接着層4に押付けて固定することにより、個々のタイル1を自由に出入させながら、タイル単位体全体を接着層4に押付けて、タイル壁面の平面度を出すことができる。 - 特許庁
A glass thin film 3 is preformed on the surface of a non- magnetic substrate 2, the non-magnetic substrate 2 is treated with heat until the glass thin film 3 is softened to a specified viscosity, and then the non- magnetic basal plate 2 is cured until the glass thin film 3 becomes rigid to increase the flatness the non-magnetic substrate 2.例文帳に追加
非磁性基板2の表面にガラス薄膜3を予め成膜しておき、非磁性基板2に対してガラス薄膜3が所定の粘度に軟化するまで熱処理を施した後に、非磁性基板2をガラス薄膜3が硬化するまで養生させることにより非磁性基板2の平坦性を高める。 - 特許庁
The substrate 13 holds the thin dielectric materials, maintains flatness, on the adhesion surface of which a recessed part 13a is provided, absorbs an excess part of the adhesive agent of the resin adhesive agent 14 and forms a uniform and flat adhesion surface when the dielectric material 11 is adhered to the substrate 13.例文帳に追加
基板13は薄い誘電体材料11を保持し平面性を維持するもので接着面には凹部13aが設けられ、誘電体材料11を基板13に接着するときに、樹脂系の接着剤14の接着剤の過剰の部分を吸収して均一で平坦な接着面を形成する。 - 特許庁
A thermal print head glass substrate 31 having a minute bank-like protrusion having a mirror-like surface and good flatness, a convex protrusion, and a groove is bonded with a retention plate 32 having minute irregularities 34 on its surface at both ends of the joining part by an adhesive 42.例文帳に追加
鏡面状の表面を有し且つ平坦性の良い微小な土手状突起、かまぼこ状の突起及び溝を備えたサーマルプリントヘッドガラス基板31と表面に微細な凹凸34を備えた保持板32への熱伝導を少なくし、サーマルプリントヘッド基板31と保持板32とを接合部の両端を接着剤42にて接着した。 - 特許庁
To provide a manufacturing method and a manufacturing apparatus of a thin film photoelectric conversion element, and a deposition apparatus which can obtain a thin film having improved flatness on all over the surface and stabilized uniform film thickness distribution, even for a flexible substrate of large area, by inhibiting generation of wrinkles in a width direction and a length direction of a flexible substrate.例文帳に追加
可撓性基板の幅方向及び長手方向の皺の発生を防止して、大面積の可撓性基板でも、全面に亘って平坦性が向上し、均一な膜厚分布の安定化した薄膜が得られる薄膜光電変換素子の製造方法及び製造装置、並びに成膜装置を提供することにある。 - 特許庁
The setter 1 which is introduced into a heating furnace under a condition setting the glass substrate G on the setting surface comprises crystallized glass having a ≤15×10^-7/K coefficient of thermal expansion, the flatness of the setting surface is ≤0.3% and the surface roughness Ra of the setting surface is 0.1-1 μm.例文帳に追加
ガラス基板Gを載置面に載置した状態で加熱炉内に導入されるガラス基板熱処理用セッター1おいて、熱膨張係数が15×10^−7/K以下の結晶化ガラスからなり、載置面の平坦度が0.3%以下であり、かつ、載置面の表面粗さがRa値で0.1〜1μmの範囲にあることを特徴とする。 - 特許庁
The setter 1 which is introduced into a heating furnace after setting a large-sized glass substrate G on the setting surface comprises crystallized glass having ≤15×10-7/K coefficient of thermal expansion, the flatness of the setting surface is ≤0.3% and the surface roughness Ra of the setting surface is 0.1-1 μm.例文帳に追加
大型のガラス基板Gを載置面に載置した状態で加熱炉内に導入されるガラス基板熱処理用セッター1おいて、熱膨張係数が15×10^-7/K以下の結晶化ガラスからなり、載置面の平坦度が0.3%以下であり、かつ、載置面の表面粗さがRa値で0.1〜1μmの範囲にあることを特徴とする。 - 特許庁
Clarifying the relationship among the resolution of an exposure apparatus, the sizes of shading parts and unshading parts, and film flatness, and by calculating an average exposure amount from the area ratio between the shading parts and unshading parts of the photomask, film-thickness prediction is made possible using an exposure amount-film thickness curve and the reliability of gray-tone exposure can be improved.例文帳に追加
露光機の解像度と遮光、非遮光部の大きさと膜厚平坦性の関係を明らかにし、フォトマスクの遮光部と非遮光部の面積割合から平均露光量を算出することで、露光量—膜厚曲線より膜厚推測を可能とし、またグレートーン露光の信頼性を向上させることが可能となった。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a multilayer insulating film, in which voids hardly develop within a board upon lamination of a multilayer insulating film on a circuit board, surface flatness is fully ensured and the thickness of the first layer of the multilayer insulating film can be kept uniform and the first layer and the second layer hardly separate from each other.例文帳に追加
回路基板上に、多層絶縁フィルムを積層する場合に、基板内部にボイドが生じにくく、表面平坦性が充分に確保され、多層絶縁フィルムの第1層の厚みを均一に保つことができ、第1層と第2層が剥離し難い多層絶縁フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a polishing technique for a work controlling polishing allowance of the work circumferential part into a prescribed shape and flattening the whole work surface without being affected by the shape of the work before polishing in polishing the circular work requiring an extremely precise flatness for a semiconductor wafer and the like.例文帳に追加
半導体ウエーハ等の非常に精密な平坦度が要求される円形状ワークを研磨する際、ワーク周辺部分の研磨代を制御して所望の形状とすることができ、ひいては研磨前のワークの形状に影響されずにワーク表面全体を平坦にすることができるワークの研磨技術を提供する。 - 特許庁
To provide a polar band-reject filter which has pass characteristics with both flatness in attenuation characteristics in the bottom of an inhibition zone and sharpness in rising at both sides of the bottom of the inhibition zone, and is capable of attenuating the signal of a desired channel with no problem, without attenuating the signal of an adjacent channel excessively.例文帳に追加
阻止域底部における減衰特性の平坦性と、阻止域底部両側の立ち上がり急峻性とを兼ね備えた通過特性を有すとともに、隣接チャンネル信号を過度に減衰させることなく、希望チャンネルの信号は問題なく減衰できる有極型帯域阻止フィルタを提供する。 - 特許庁
To provide a plastic guide for a transmission device with a metal plate fitted and fixed into a slit formed in a vertical plate of a guide body, the metal plate having improved flatness and being prevented from coming off the slit of the guide body even under vibration during transport.例文帳に追加
ガイド本体の垂直板に形成されたスリットに嵌合固定される金属製プレートの平坦度が向上されていると共に、輸送中に振動を受けたとしても、金属製プレートがガイド本体のスリットから抜け出さないようにした伝動装置用プラスチック製ガイドを提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition being excellent in flatness after development, sensitivity, resolution, heat resistance, transparency, and the like; capable of reducing its electric power consumption, especially by realizing an organic insulation film having a low dielectric constant; capable of reducing crosstalk; and suitable for an organic insulation film in various display operations.例文帳に追加
現像後の平坦度、感度、解像度、耐熱性、透明性などの性能が優れているだけでなく、特に低誘電率有機絶縁膜を実現可能にすることによって消費電力を低くすることができ、クロストークを減らすことができて、多様なディスプレイ工程での有機絶縁膜に適した感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a carbon thin film electrode for electrochemical detection of high sensitivity having general-purpose properties at the time of predetermined, adaptable to many substrates, having a wide potential window, hard to adsorb an electrode reaction product, low in charging current or the like causing noise having a sufficient flatness at the time of processing of an extremely fine electrode.例文帳に追加
作製時に汎用性があり、多くの基板に適用可能で、かつ電位窓が広く、電極反応生成物が吸着しにくく、ノイズの要因になる充電電流等が低く、極微小電極に加工する際に十分な平坦性を有する高感度電気化学検出のための炭素薄膜電極を提供すること。 - 特許庁
To provide a semiconductor display device having interlayer insulating films which make it possible to obtain the flatness of a surface while suppressing the time for deposition, can suppress the treatment time for a heat treatment planned to remove moisture and can prevent the moisture in the interlayer insulating films form being released to adjacent films or electrodes.例文帳に追加
成膜時間を抑えつつ表面の平坦性を得ることができ、水分除去を目的とした加熱処理の処理時間を抑えることができ、なおかつ層間絶縁膜中の水分が隣接する膜または電極に放出されるのを防ぐことができる層間絶縁膜を有する半導体表示装置の提供。 - 特許庁
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