「insulating portion」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To improve the sound insulating property without impairing the door closability in a weather strip having a hollow seal portion attached to a door opening edge of an automobile body and in which the hollow seal portion elastically contacts a door to seal between the hollow seal portion and the door when the door is closed and a thin portion is provided on the hollow seal portion to easily close the door.例文帳に追加

中空シール部を有して自動車車体のドア開口縁部に取付けられ、ドア閉時に中空シール部がドアに弾接してドアとの間をシールし、中空シール部には薄肉部を設けてドアを閉じ易くしたウェザストリップにおいて、ドア閉じ性を損なわずに遮音性を向上させる。 - 特許庁

The flat cable 1 includes a non-covered portion removed of the insulating resin (portion with the flat conductor 2 exposed) in the vicinity of the terminal part and a terminal side covered portion 12 on the terminal side of the non-covered portion, and the terminal side covered portion 12 is adhered to the flat conductor 2 by an adhesive.例文帳に追加

フラットケーブル１は、その端末の近傍に絶縁樹脂を除去した非被覆部（平角導体２が露出した部分）と、この非被覆部の端末側にある端末側被覆部１２とをもつようにし、この端末側被覆部１２は平角導体２に接着剤で接着しておく。 - 特許庁

To provide a semiconductor device, in which the occurrence of a leakage current at the edge portion of an element isolation insulating film is prevented.例文帳に追加

素子分離絶縁膜のエッジ部でのリーク電流の発生が防止された半導体装置を提供する。 - 特許庁

In the insulating paper, an edge 20d parallel with the axial direction S includes a fracture portion 20f formed by cutting.例文帳に追加

この絶縁紙において、軸方向Ｓに平行な縁部２０ｄは、切り取りによる破断部２０ｆを含んでいる。 - 特許庁

A polysilicon layer 105 is provided on a side wall portion of a contact hole 104 formed in an interlayer insulating film 103.例文帳に追加

層間絶縁膜１０３に形成されたコンタクトホール１０４の側壁部にポリシリコン層１０５を設ける。 - 特許庁

The insulating member 14 is fixed in a form with its inner rim portion 141 fitting inside the case 11.例文帳に追加

絶縁性部材１４は、その内縁部分１４１がケース１１内へ嵌め込まれる形態で固定されている。 - 特許庁

cover layers 6a, 6b are formed on the base insulating layer 2 so as to cover a predetermined portion of the conductor layer 3.例文帳に追加

導体層３の所定部分を覆うように、ベース絶縁層２上に被覆層６ａ，６ｂが形成される。 - 特許庁

A level difference is formed from the central portion of an element isolation insulating film 313 to a first element activating region side.例文帳に追加

素子分離絶縁膜３１３の中央部から第１の素子活性領域側に段差が形成されている。 - 特許庁

A metal film 68 is formed over the entire upper surface of the cover 44 so as to cover the insulating portion 49.例文帳に追加

ついで、絶縁部４９を覆うようにしてカバー４４の上面全体に金属膜６８を形成する。 - 特許庁

The wiring board 1 has a through hole 6 bored penetrating the insulating layer 3 through the interior portion 51.例文帳に追加

配線基板１には、内装部５１を通って絶縁層３を貫通する貫通孔６が設けられている。 - 特許庁

An insulating protruding structure or a chipped portion of a counter electrode 107 is not disposed on a counter substrate 102.例文帳に追加

対向基板１０２上には、絶縁性の突起構造または対向電極１０７の欠落部を設けない。 - 特許庁

An opening portion 121 is formed in the insulating layer 102 to dig even the semiconductor substrate 101.例文帳に追加

絶縁層１０２に対して、半導体基板１０１をも掘り込む形状からなる開口部１２１を形成する。 - 特許庁

A recessed portion 23a is also formed at the end of a contact region of the metal wiring 23 with the insulating resin layer 26.例文帳に追加

金属配線２３の絶縁樹脂層２６との接触領域の端部にも凹部２３ａが形成されている。 - 特許庁

Then, a contact hole CH that is a hole reaching the conductive portion of the element is formed in the first insulating film.例文帳に追加

上記第１の絶縁膜に素子の導電部分に達する孔であるコンタクトホールＣＨが形成される。 - 特許庁

Coating layers 6a and 6b are formed on the base insulating layer 2 such that they cover a predetermined portion of the conductor layer 3.例文帳に追加

導体層３の所定部分を覆うように、ベース絶縁層２上に被覆層６ａ，６ｂが形成される。 - 特許庁

The display has a cathode layer 16 on which an adsorbing layer 17 whose end portion covers an insulating layer 14 is formed.例文帳に追加

陰極層１６の上には、端部が絶縁層１４を覆うようにして、吸着層１７が形成されている。 - 特許庁

The electric wire 2 includes a conductive core wire 21 and an insulating covered portion 22 to cover the core wire 21.例文帳に追加

電線２は、導電性の芯線２１と、該芯線２１を被覆する絶縁性の被覆部２２とを備えている。 - 特許庁

The auxiliary capacitance electrode 6 and a portion 6d thereof are provided on a top surface of an inter-layer insulating film 19.例文帳に追加

層間絶縁膜１９の上面には補助容量電極６及びその一部６ｄが設けられている。 - 特許庁

In this structure, the titanium silicide film 40 is not formed on the entire edge portion of the element isolation insulating film 2.例文帳に追加

前述の構成において、素子分離酸化膜２のエッジ部全体にチタンシリサイド膜４０が形成されていない。 - 特許庁

The recessed center portion protrudes through the at least one via in the insulating layer to mechanically couple with the stiffener.例文帳に追加

中央凹部は、絶縁層の少なくとも１つのバイアを通って突出して補強材と機械的に結合する。 - 特許庁

To enhance reliability by enhancing the resistance at the via portion of an electronic component where a conductor film and an insulating film are laminated.例文帳に追加

導体膜と絶縁膜を積層した電子部品のビア部分の耐性を高め、信頼性を向上させる。 - 特許庁

At the opening 15, a portion of the conductive circuit 12 is exposed as an exposed surface 12a in the insulating layer 13.例文帳に追加

この開口部１５で導電回路１２の一部が露呈面１２ａとして絶縁層１３から露呈される。 - 特許庁

A thin- film coil 59 is arranged via an insulating layer 58 on the first portion 54a of the upper shielding layer.例文帳に追加

上部シールド層の第１の部分５４ａの上には、絶縁層５８を介して、薄膜コイル５９が配置される。 - 特許庁

A bar code label 3 is stuck on a portion where is the inside of the insulating tube 5 but the peripheral surface of the battery can 2.例文帳に追加

絶縁チューブ５の内側かつ電池缶２の外周面上には、バーコードラベル３が貼付されている。 - 特許庁

The high-voltage portion 11 has an Al wiring line 21, an insulating film 22, a switching element 23, and a rectifying element 24.例文帳に追加

高圧部１１は、Ａｌ配線２１と、絶縁膜２２と、スイッチング素子２３と、整流素子２４とを備えている。 - 特許庁

The insulating portion IP is provided so as to include third and fourth rectangular corner sections C3 and C4.例文帳に追加

絶縁部ＩＰは長方形状の第３および第４の角部Ｃ３，Ｃ４を含むように設けられている。 - 特許庁

A gate insulating film 11 is disposed on the upper surface of the projected portion and on a side surface along the first direction.例文帳に追加

ゲート絶縁膜１１は、突出部の上面上および第１方向に沿う側面上に配設される。 - 特許庁

The package 2 includes a heat insulating portion 6 which stops heat conduction from the LED chip 1 to the optical detection unit 4.例文帳に追加

パッケージ２に、ＬＥＤチップ１から光検知部４への熱伝導を阻止する熱絶縁部６を設けてある。 - 特許庁

The wiring film 6 is buried in a first opening portion of an interlayer insulating film 4 formed on a cap film 3.例文帳に追加

キャップ膜３上に形成される層間絶縁膜４の第１の開口部には、配線膜６が埋設される。 - 特許庁

The insulated gate electrode portion 10a faces the surface of the contact region 18 with a gate insulating film 4 interposed therebetween.例文帳に追加

絶縁ゲート電極部１０ａは、ゲート絶縁膜４を介してコンタクト領域１８の表面に対向している。 - 特許庁

A gate insulating film GD is provided on the semiconductor substrate 1 and a side surface of the semiconductor substrate protruding portion 7.例文帳に追加

半導体基板１上及び半導体基板突起部７の側面には、ゲート絶縁膜ＧＤが設けられる。 - 特許庁

The guide member 60 guides the superconducting wire rod so as to penetrate the opening portion of the insulating tape reel 38.例文帳に追加

案内部材６０は、絶縁テープリール３８の開口部を貫通するように超電導線材を案内する。 - 特許庁

The core portion 68 is embedded inside the semiconductor pillar SP, and retreats from the upper surface of the insulating layer 16.例文帳に追加

芯部６８は、半導体ピラーＳＰの内側に埋め込まれ、絶縁層１６の上面から後退している。 - 特許庁

The word line 15 is formed so that an aperture portion formed on the insulating film 14 for forming the word line is buried.例文帳に追加

ワード線１５は、ワード線形成絶縁膜１４に形成された開口部を埋めるように形成されている。 - 特許庁

The slider 20 comprises a substrate 1, a thin-film magnetic head element 22, an insulating portion 25 and a medium counter layer 27.例文帳に追加

スライダ２０は、基板１と薄膜磁気ヘッド素子２２と絶縁部２５と媒体対向層２７とを備えている。 - 特許庁

A silicon oxide film 4 is formed as a gate insulating film on the bottom face of the recessed portion 3 and the inclined plane.例文帳に追加

凹み部３の底面及び傾斜面上にゲート絶縁膜としてシリコン酸化膜４が形成されている。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF INSULATED SHEET CAP AND INSULATING STRUCTURE FOR CONNECTING PORTION OF ROTARY MACHINE COIL USING THE SHEET CAP例文帳に追加

絶縁シートキャップの製造方法及びこの絶縁シートキャップを用いた回転電機コイルの接続部絶縁構造 - 特許庁

On a semiconductor substrate 2, on which an interlayer insulating film 3 is formed, a contact hole 1 is formed between the surface 3a of the insulating film 3 and a internal portion of the substrate 2 through the insulating film 3 and the surface 2a of the substrate 2.例文帳に追加

層間絶縁膜３が形成された半導体基板２上において、コンタクトホール１の一端は層間絶縁膜表面３ａに開口され、他端は半導体基板表面２ａを貫いている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a wiring board by which Pd, etc., deposited on the exposed portion of a resin-made insulating layer can be removed and, in addition, the adhesive strength between the insulating layer and an upper resin-made insulating layer overlying the layer can be secured.例文帳に追加

樹脂絶縁層の露出部に付着したＰｄ等を除去し、かつ、樹脂絶縁層と上部樹脂絶縁層との密着強度を確保することができる配線基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

This heat insulating structure arranged with the tabular plastic heat insulating material on the roof, ceiling, walls, and floor portion of the building is provided with face bars shielding the volatile organic compound between the tabular heat insulating materials and the indoor side.例文帳に追加

建築物の屋根、天井、壁、床部分に板状プラスチック系断熱材を配置した断熱構造について、その板状プラスチック系断熱材と室内の間に、揮発性有機化合物を遮断する面材を備えた。 - 特許庁

A gate electrode is formed over the gate insulating film to overlap with at least a part of the semiconductor layer, and a pixel portion of the gate insulating film and the second base insulating film is doped with at least one conductive type impurities.例文帳に追加

そして、半導体層の少なくとも一部に重なるゲート絶縁膜上にゲート電極を形成し、画素部のゲート絶縁膜及び前記第２の下地絶縁膜に少なくとも一導電型の不純物を添加する。 - 特許庁

The high dielectric-constant insulating film 124 is located at least at a portion adjacent to a drain region 142 of edges of the bottom of the field drain insulating part 120 and has a higher dielectric constant than the first insulating film 126.例文帳に追加

高誘電率絶縁膜１２４は、フィールドドレイン絶縁部１２０の底面の縁のうち少なくともドレイン領域１４２に近接する部分に位置しており、第１絶縁膜１２６よりも誘電率が高い。 - 特許庁

To provide a joint for heat insulating ducts capable of preventing dew condensation conventionally generated on a connecting portion of the heat insulating ducts, and capable of performing piping while keeping heat insulating performance even at a narrow place under a ceiling or the like.例文帳に追加

従来、断熱ダクトの接続部に生じていた結露を防止することができ、また、狭い天井裏などの狭所部においても断熱性能を保持して配管することができる断熱ダクト用ジョイントを提供する。 - 特許庁

The second lamination portion 120 includes: a block insulating layer 123B provided in contact with sidewalls of the first conductive layers 121 and the interlayer insulating layers 122; a charge storage layer 123C; and a tunnel insulating layer 123T.例文帳に追加

第２積層部１２０は、層間絶縁層１２２及び第１導電層１２１の側壁に接して設けられたブロック絶縁層１２３Ｂと、電荷蓄積層１２３Ｃと、トンネル絶縁層１２３Ｔとを備える。 - 特許庁

Heat generated in an integrated circuit formed in a single crystal silicon layer on an insulating film is transmitted to an end portion of the insulating film, and thereafter is dissipated into the single crystal silicon with a thick region where no insulating film is formed.例文帳に追加

絶縁膜上の単結晶シリコン層に形成された集積回路で発生した熱は、絶縁膜の端部まで伝わった後、絶縁膜が形成されていない領域の厚い単結晶シリコン中に放散される。 - 特許庁