「interferometric」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide methods of manufacturing interferometric modulators by selectively removing materials.例文帳に追加

材料物質を選択的に除去することによる、干渉変調器の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photonic crystal interferometric device the waveguide of which controls the interference of light.例文帳に追加

装置の導波路で光の干渉を制御するフォトニック結晶干渉計装置の提供。 - 特許庁

One embodiment includes a display 700 of interferometric modulators having settable resolution characteristics.例文帳に追加

１つの実施例は、設定可能な解像度特性を持つ干渉変調器のディスプレイ７００を含む。 - 特許庁

To prevent a movable layer from sticking in a MEMS device including an interferometric light modulator.例文帳に追加

干渉光変調器を含むＭＥＭＳ装置において、可動層がはり付くことを防止する。 - 特許庁

A light modulator is arranged as an array of rows and columns of interferometric display elements 40.例文帳に追加

光変調器は干渉系表示エレメント４０の行列のアレイとして配列されている。 - 特許庁

The gap is created by removal of a sacrificial layer that is deposited over the interferometric modulator.例文帳に追加

ギャップは、干渉変調器を覆って堆積された犠牲層の除去によって創り出される。 - 特許庁

Disclosed is an electronic device utilizing interferometric modulation and a package of the device.例文帳に追加

開示されているのは、インターフェロメトリックモジュレータ及びデバイスの実装を利用した電子デバイスである。 - 特許庁

To provide a shutter device and a color separating device which use an interferometric modulation(IMOD) device.例文帳に追加

干渉性変調（ＩＭＯＤ）素子を用いるシャッター素子及び色分解素子を提供する。 - 特許庁

To provide a method of fabricating interferometric modulators by selectively removing material.例文帳に追加

材料物質を選択的に除去することによる、干渉変調器の製造方法を提供する。 - 特許庁

In some embodiments, the interferometric modulator elements may be separated from each other such that an optical aperture region is formed between the plurality of adjacent interferometric modulator elements.例文帳に追加

複数の実施形態において、光干渉変調器素子は、光学的開口領域が隣接する複数の光干渉変調器素子の間に形成されるように、互いに分離されることができる。 - 特許庁

In some embodiments, the interferometric modulator elements may be separated from each other, such that an optical aperture region is formed between adjacent interferometric modulator elements.例文帳に追加

複数の実施形態において、光干渉変調器素子は、光学的開口領域が隣接する複数の光干渉変調器素子の間に形成されるように、互いに分離されることができる。 - 特許庁

Interferometric lithography images the high frequency components while optical lithography images the low frequency components.例文帳に追加

干渉リソグラフィーは高周波数成分を結像し、光学リソグラフィーは低周波数成分を結像する。 - 特許庁

A full-color static graphical image may be formed of combined patterns of interferometric modulator cavities 200, 202.例文帳に追加

組み合わされるパターンの干渉性変調器空胴200、202からフルカラー静止画像を形成することもできる。 - 特許庁

An interferometric lithography system produces a pattern having a sharp field edge and minimal optical path length difference.例文帳に追加

干渉型リソグラフィシステムは、鋭いフィールドエッジおよび最小の光路長差を有するパターンを生成する。 - 特許庁

A method of making an interferometric modulator element includes the forming of a rigid cap over a a support post.例文帳に追加

干渉変調器体を形成する方法は、支持ポストを覆って硬いキャップを形成することを含む。 - 特許庁

A display is provided with and includes a plurality of interferometric display members.例文帳に追加

本発明の一実施形態においては、ディスプレイは、複数のインターフェロメトリックディスプレイ部材を備えられ且つ含む。 - 特許庁

An interferometric modulator element includes at least two spin-on glass support posts located on the substrate.例文帳に追加

干渉変調器体は、前記基板上に配設された少なくとも２つのスピンオングラス支持ポストを含む。 - 特許庁

There are provided a package structure 210 and a method for packaging an interferometric modulator with the integrated desiccant.例文帳に追加

パッケージ構造２１０、および一体化された乾燥剤を有する干渉変調器をパッケージングする方法。 - 特許庁

A driving scheme employs row/column actuation protocols which maintain voltages to the MEMS interferometric modulator that are above or below the voltage range necessary to place the MEMS interferometric modulator within a "hysteresis window" or "stability window."例文帳に追加

駆動組織は、“ヒステリシスウインド”又は“安定ウインド”内に上記ＭＥＭＳを設置するため、上記ＭＥＭＳに対する上限又は下限電圧範囲に必要な電圧を維持するロー／コラム作動プロトコルを採用する。 - 特許庁

The present invention describes an interferometric method and an interferometric apparatus for in-situ monitoring of a thin film thickness and of etching and deposition rates of the thing film using a flash lamp 35 providing a high instantaneous power pulse and having a wide spectral width.例文帳に追加

高瞬間出力パルスを提供して広いスペクトル幅を有するフラッシュランプ３５を用いて、薄膜の厚さとエッチング速度および堆積速度とをその場モニタリングするための干渉方法および装置。 - 特許庁

To provide post structures for interferometric modulation with which the amount of light retroreflected from the post structure of an interferometric modulator is decreased, backlighting is increased, and a higher contrast and richer and brighter color characteristic is given.例文帳に追加

干渉変調器の支柱構造から逆反射する光の量を減らし、バックライトニングを増加させ、よりコントラストの高い、より豊富で鮮やかな色特性を持つ干渉変調器の支柱構造を提供する。 - 特許庁

To increase the switching speed of a interferometric modulation(IMOD) device and to represent gradations without increasing the number of pixels.例文帳に追加

干渉性変調（IMOD）素子のスイッチング速度を速くし、ピクセル数を増加させることなく階調表現を行う。 - 特許庁

To provide an interferometric modulator based display with a back plate including an electronic circuit on an inner surface of the back plate.例文帳に追加

バックプレートが当該バックプレートの内面側に製作した電子回路を含むインターフェロメトリックモジュレータベースディスプレイ。 - 特許庁

To provide a heterodyne laser interferometric measuring machine which accurately eliminates the influence of a dead path from the measurement results.例文帳に追加

測長結果から精度よくデッドパスの影響を排除するヘテロダインレーザー干渉測長器を提供する。 - 特許庁

A stage-traversable in X/Y coordinate directions is provided, which is placed in an interferometric-optical measuring system.例文帳に追加

Ｘ／Ｙ座標方向にトラバースできるステージが提供され、これは干渉法光計測システムに配置される。 - 特許庁

To provide an interferometric modulator in which a higher bit depth is available with fewer pin outs.例文帳に追加

より少ないピン配置(fewer pin outs)で、更により高いビット深度(higher bit depth)を実現できる干渉系変調器を提供する。 - 特許庁

For example, in certain embodiments, the optical element in the post structure increases the backlighting of the interferometric modulator.例文帳に追加

例えば、ある実施例では、支柱構造内の光学要素は、干渉変調器のバックライトニングを増加させる。 - 特許庁

The packaged device includes a substrate 101, an interferometric modulation display array 111 formed on the substrate 101, and a back-plate.例文帳に追加

パッケージ化された装置は、基板101、基板101上に形成された干渉変調ディスプレイアレイ111、および背板を含む。 - 特許庁

Methods of fabricating an electrostatic interferometric modulation display devices and a device fabricated by the method are disclosed.例文帳に追加

静電干渉変調器ディスプレイデバイスを製作する方法と、その方法によって形成されたデバイスが開示される。 - 特許庁

To provide an interferometric lithography system for producing a pattern having a sharp field edge and minimal optical path length difference.例文帳に追加

鋭いフィールドエッジおよび最小の光路長差を有するパターンを生成する干渉型リソグラフィシステムを提供する。 - 特許庁

In a preferred embodiment, the MEMS substrate is an optical interferometric modulator, and the etching agent is XFe_2.例文帳に追加

好ましい実施形態においては、ＭＥＭＳ基板は、光干渉変調器であり、そして、エッチング剤はＸｅＦ_２である。 - 特許庁

A system and a method are provided for addressing an array of MEMS display elements, such as interferometric modulators, from a drive control.例文帳に追加

ドライブ制御から、光干渉変調器のようなＭＥＭＳディスプレイ素子のアレイをアドレシングするためのシステム及び方法。 - 特許庁

Embodiments of an interferometric modulator are disclosed, having various enhancements and features including a conductive bus.例文帳に追加

伝導性母線を含む様々な改良点及び特長を有するインターフェロメトリックモジュレータの実施形態が開示されている。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR IMPROVING TEMPERATURE STABILITY AND MINIMIZING NOISE OF ENVIRONMENT THAT ENCLOSES INTERFEROMETRIC MEASURING SYSTEM例文帳に追加

干渉計測システムを囲う環境の温度安定性を向上させ、ノイズを最小限にするための方法および装置 - 特許庁

At least one of the front substrate and the back plate has a cavity having a depth selected for interferometric modulation.例文帳に追加

前面基板と背面板の少なくとも一方は、干渉変調のために選択された深さのキャビティを有する。 - 特許庁

To improve the color reproducibility of a display device which uses an interferometric modulation(IMOD) device and to reduce its power consumption.例文帳に追加

干渉性変調（ＩＭＯＤ）素子を使用する表示素子の色再現性を向上させ、消費電力を低減する。 - 特許庁

The optical system includes any one or more of a reflectometric system, polarimetric system, imaging system, interferometric system and/or scan angle system.例文帳に追加

本光学システムは、反射計、偏光計、画像化、干渉計、および／または走査角システムのうちの任意の１つ以上を備える。 - 特許庁

To provide a reference signal generating part for an interferometric miniature grating encoder readhead using fiber optic receiver channels.例文帳に追加

光ファイバによる光受信チャネルを使用した光干渉型小型格子エンコーダのリードヘッド用基準信号発生部を提供する。 - 特許庁

POLARIZATION-SENSITIVE OPTICAL SPECTRAL INTERFEROMETRIC COHERENCE TOMOGRAPHY APPARATUS AND MEASURING METHOD FOR POLARIZATION INFORMATION INSIDE SAMPLE BY THE SAME例文帳に追加

偏光感受型光スペクトル干渉コヒーレンストモグラフィー装置及び該装置による試料内部の偏光情報の測定方法 - 特許庁

Some of the spatial frequency components (12-16) are derived by optical lithography and some by interferometric lithography techniques.例文帳に追加

空間周波数成分の幾つか（１２〜１６）は光学リソグラフィーによって得られ、あるものは干渉リソグラフィー技術によって得られる。 - 特許庁

To improve an optical interferometric modulator which selectively reflects and/or absorbs light, for widening its applications.例文帳に追加

光の反射及び／又は吸収を選択的に行う光学干渉変調器を広範囲の応用が出来るよう改良する。 - 特許庁

A backplane 310 is jointed to the transparent substrate to form a package structure 210 and to encapsulate the interferometric modulator.例文帳に追加

バックプレーン３１０は、前記透明基板に接合されてパッケージ構造２１０を形成し、かつ前記干渉変調器を封じ込める。 - 特許庁

To provide a display device having an array of spatial light modulators comprising a microelectromechanical system (MEMS), an interferometric modulator, and a color filter.例文帳に追加

超小型電気機械システム（ＭＥＭＳ）干渉変調器及びカラーフィルタを備えた空間光変調器のアレイを持つディスプレイ装置。 - 特許庁

In certain embodiments, the interferometric modulator has a first conductive layer suspended over a second electrode layer.例文帳に追加

いくつかの実施形態においては、該インターフェロメトリックモジュレータは、第２の電極層の上方に吊り下げられた第１の伝導層を有している。 - 特許庁

To provide an interferometer having a high measuring accuracy and a method to determine the moving speed of any object through an interferometric measurement.例文帳に追加

測定精度の高い干渉計と、対象物の運動速度を干渉測定により求めることのできる方法とを提供する。 - 特許庁