「lQ」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

An exposure apparatus EX exposes a substrate P through a liquid LQ.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して基板Ｐを露光する。 - 特許庁

In the antenna apparatus, an equivalent radius R of the radiation electrode 1302 is made long so that a ratio (Lq/R) of a distance Lq to an effective radius R is equal to or less than 15 (Lq/R≤15), wherein the distance Lq is a distance between an antinode 1306 and a node 1308 of the standing wave 1304 when excitation is applied at a resonance frequency.例文帳に追加

このようなアンテナ装置において、共振周波数で励振したときの定在波１３０４の腹１３０６と節１３０８との間隔Ｌｑの等価半径Ｒに対する比Ｌｑ／Ｒが１５以下（Ｌｑ／Ｒ≦１５）となるように放射電極１３０２の等価半径Ｒを太くする。 - 特許庁

An exposure device EX is provided with a feed port 12 for feeding liquid LQ, a collection port 22 formed outside the feed port 12 for an optical path space K1 for collecting the liquid LQ, and an injection port 32 formed outside the collection port 22 for the optical path space K1 for injecting the liquid LQ.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、液体ＬＱを供給する供給口１２と、光路空間Ｋ１に対して供給口１２の外側に設けられ、液体ＬＱを回収する回収口２２と、光路空間Ｋ１に対して回収口２２の外側に設けられ、液体ＬＱを噴射する噴射口３２とを備えている。 - 特許庁

The inspection apparatus is provided with an inspection unit ST1 for supplying a first liquid LQ to the image surface side of the projection optical system PL to perform inspection, and a processing unit ST 2 for causing a second liquid LQ' to contact a liquid of the projection optical system PL after subjected to the inspection which contacts the first liquid LQ.例文帳に追加

検査装置は、投影光学系ＰＬの像面側に第１液体ＬＱを供給して検査を行う検査部ＳＴ１と、検査後の投影光学系ＰＬのうち第１液体ＬＱに接触した液体接触面に第２液体ＬＱ’を接触させる処理部ＳＴ２とを備えている。 - 特許庁

A sensor unit body is dipped into insulating liquid LQ especially under a reduced-pressure environment, to thereby impregnate the liquid LQ into gaps, or the like, inside the sensor unit body, and thereby the gas inside the sensor unit body is removed, and makes impregnation of the liquid LQ to the inside of the sensor unit certain.例文帳に追加

センサユニット本体を、特に減圧環境下において絶縁性を有する液体ＬＱに浸し、センサユニット本体内部の隙間等に、前記液体ＬＱを含浸させていることで、センサユニット本体内部の気体を排除し、センサユニット内部への液体ＬＱの含浸を確実にする。 - 特許庁

In the exposure method which exposes a substrate P by radiating exposure light on a substrate P via a projection optics system PL and liquid LQ, affinity to the liquid LQ on the surface of the substrate P is set so as to reduce force in which the liquid LQ on the substrate P exerts on the substrate P.例文帳に追加

投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して基板Ｐ上に露光光を照射して基板Ｐを露光する露光方法において、基板Ｐ上の液体ＬＱが基板Ｐに及ぼす力が低減されるように、基板Ｐの表面の液体ＬＱに対する親和性を設定する。 - 特許庁

An Lq correcting section 5k receiving the motor current corrects the q-axis inductance.例文帳に追加

そして、モータ電流を入力とするＬｑ補正部５ｋによりｑ軸インダクタンスを補正する。 - 特許庁

The movement member 20 performs movement while its tip part 21 is immersed in liquid LQ.例文帳に追加

運動部材２０は、先端部２１を液体ＬＱ中に浸漬したまま運動する。 - 特許庁

The purification device treats impurities with ozone dissolved in a liquid Lq.例文帳に追加

液体Ｌｑに溶解させたオゾンで不純物を処理する浄化装置に関する。 - 特許庁

The fluid Lq is sent from the power extraction part 20 to the light exposure part 10 through a second transfer path 32.例文帳に追加

流体Ｌｑを、第２移送路３２にて電力取り出し部２０から光曝露部１０へ送る。 - 特許庁

The fluid Lq is sent from the light exposure part 10 to the power extraction part 20 through a first transfer path 31.例文帳に追加

流体Ｌｑを第１移送路３１にて光曝露部１０から電力取り出し部２０へ送る。 - 特許庁

The exposure apparatus EX has a measuring equipment 30 for measuring the optical characteristic of the liquid LQ.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、液体ＬＱの光学的な特性を計測する計測装置３０を備えている。 - 特許庁

Fluid Lq containing a component for generating charging reaction by light is made to pass through an inner space 11.例文帳に追加

光により充電反応を起こす成分を含む流体Ｌｑを内部空間１１に通す。 - 特許庁

A first optical element LS1 of the projection optical system PL has a concave surface 2 contacting with the liquid LQ.例文帳に追加

投影光学系ＰＬの第１光学素子ＬＳ１は、液体ＬＱに接する凹面部２を有している。 - 特許庁

The exposure device EX exposes a substrate P to an exposure light EL through a liquid for exposure LQ.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、露光用液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する。 - 特許庁

Impurity ion concentration contained in the liquid crystal layer LQ in the display region is set to be lower than the impurity ion concentration contained in the liquid crystal layer LQ in the outside of the display region.例文帳に追加

表示領域において液晶層ＬＱに含まれる不純物イオン濃度は表示領域の外側において液晶層ＬＱに含まれる不純物イオン濃度よりも低く設定されている。 - 特許庁

In the case of deleting the leaf-queue LQ(n), when elements stored in the leaf queue LQ(n), which is a deletion object are not zero, the delete operation identifiers D(n+1) is set to '1'.例文帳に追加

リーフキューＬＱ（ｎ）を削除する際に、削除対象のリーフキューＬＱ（ｎ）に格納されている要素がゼロでない場合には、削除操作識別子Ｄ（ｎ＋１）を１にセットする。 - 特許庁

Since a liquid LQ of a flow passage 80 flows from the compressor section 50 to the operation section 40, a key section 41 of the operation section 40 extends by the liquid LQ supplied from the compressor section 50.例文帳に追加

流路８０の液体ＬＱはコンプレッサー部５０から操作部４０に向かって流れるので、操作部４０のキー部４１はコンプレッサー部５０から供給された液体ＬＱによって伸張する。 - 特許庁

As the film TC, a protective film which protects a sensitive material Rg from the liquid LQ referred to as a top coat layer and a film which enhances recovery performance of the liquid LQ may be included.例文帳に追加

膜ＴＣとしては、トップコート層と呼ばれる液体ＬＱから感光材Ｒｇを保護する保護膜や液体ＬＱの回収性を高める膜などが挙げられる。 - 特許庁

To provide a simultaneous method which has both speeding-up and signed calculation methods for a calculation of a multi-scalar multiple kP+lQ needed for signature verification of ECDSA.例文帳に追加

ECDSAの署名検証を行なう際に必要となるマルチスカラー倍kP+lQの計算において、前計算の高速化及び符号付計算方法を兼ね備えたsimultaneous法を提供すること。 - 特許庁

An exposure device forms a liquid immersion region of liquid LQ between a projection optical system PL and a substrate P and exposes the substrate P via the projection optical system PL and the liquid LQ of the liquid immersion region.例文帳に追加

露光装置は、投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間に液体ＬＱの液浸領域を形成し、投影光学系ＰＬと液浸領域の液体ＬＱとを介して基板Ｐを露光するものである。 - 特許庁

To provide a motor control device which drives a synchronous motor, including compensation for parameter fluctuation of inductance Lq caused by an abrupt change of load, under non-interference control, to suppress degradation in control performance.例文帳に追加

負荷急変によるインダクタンスLqのパラメータ変動の補償を含め、非干渉制御のもとで実現し、制御性能の劣化を抑制した同期モータを駆動するモータ制御装置を提供する。 - 特許庁

According to such an arrangement, the inductance in the d-axis direction and the inductance in the q-axis direction satisfy the relation of Ld>Lq, and the salient pole ratio (Ld/Lq) is increased.例文帳に追加

この構成により、ｄ軸方向インダクタンスと、ｑ軸方向インダクタンスとにＬｄ＞Ｌｑの関係が生じ、その突極比（Ｌｄ/Ｌｑ）を大きくすることができることを特徴としている。 - 特許庁

In the exposure device, an immersion area of a liquid LQ is formed between a projection optical system PL and a substrate P, and exposure of the substrate P is performed via the projection optical system PL and the liquid LQ in the immersion area.例文帳に追加

投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間に液体ＬＱの液浸領域を形成し、投影光学系ＰＬと液浸領域の液体ＬＱとを介して基板Ｐを露光するものである。 - 特許庁

The gas-liquid mixed liquid generating portion S is provided with a pressurizing portion 1 which pressurizes and supplies the ozone-containing gas to the liquid Lq so that the concentration of the ozone contained in the gas-liquid mixed liquid becomes equal to or higher than that of the saturation solubility in the liquid Lq.例文帳に追加

上記気液混合液生成部Ｓは、気液混合液に含有されるオゾンの濃度が液体Ｌｑの飽和溶解濃度以上となるように、オゾンを含有する気体を液体Ｌｑに加圧して供給する加圧部１を備える。 - 特許庁

The exposure device includes a supply port 8 for supplying liquid LQ to an optical path K of exposure light, and a capturing unit 70 for capturing charged air bubbles existent in the liquid LQ.例文帳に追加

露光装置は、露光光の光路Ｋに液体ＬＱを供給する供給口８と、液体ＬＱ中に存在する帯電した気泡を捕集する捕集装置７０とを備えている。 - 特許庁

A liquid immersion region of a liquid LQ is formed between a projection optical system PL and a substrate P, so as to expose the substrate P via the projection optical system PL and the liquid LQ of the liquid immersion region.例文帳に追加

投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間に液体ＬＱの液浸領域を形成し、投影光学系ＰＬと液浸領域の液体ＬＱとを介して基板Ｐを露光するものである。 - 特許庁

By this setup, the optical system containing the liquid Lq 2 can be protected against deterioration caused by a temperature change in the liquid Lq 2, so that an exposure process of high accuracy can be carried out.例文帳に追加

これにより、液体Ｌｑ２の温度が変動することによる液体を含む光学系の光学特性の劣化を抑制することが可能であり、高精度な露光を行うことが可能となる。 - 特許庁

An aligner EX fills an optical path space of the exposing device EX with a liquid LQ, and exposes a substrate P by irradiating the substrate P with the exposure light EL through the projection optical system PL and the liquid LQ.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、露光光ＥＬの光路空間を液体ＬＱで満たし、投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して基板Ｐ上に露光光ＥＬを照射して、基板Ｐを露光する。 - 特許庁

Since the fluid Lq is turned into a swirling flow, the fluid Lq can be sufficiently atomized, and thinly and uniformly applied to the window screen 90, so as to be capable of forming the light shielding film 93.例文帳に追加

旋回流であるため、流動体Ｌｑを充分にアトマイズでき、窓遮蔽体９０に薄く均一に塗布して、遮光膜９３を形成することができる。 - 特許庁

In the exposure apparatus EX, the optical-path space of the image-surface side of a projecting optical system PL is so filled with a liquid LQ as to subject a substrate P to an exposure via the projecting optical system PL and the liquid LQ.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬの像面側の光路空間を液体ＬＱで満たし、投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して基板Ｐを露光する。 - 特許庁

In the exposure apparatus, a liquid immersion region for liquid LQ is formed between a projection optical system PL and a substrate P and the substrate P is exposed via the projection optical system PL and the liquid LQ in the liquid immersion region.例文帳に追加

投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間に液体ＬＱの液浸領域を形成し、投影光学系ＰＬと液浸領域の液体ＬＱとを介して基板Ｐを露光するものである。 - 特許庁

A substrate stage 2 is configured to carry out immersion exposure using a liquid LQ, and includes a porous body flow passage 50 made of a porous body which recovers a contacting liquid LQ and holds the liquid LQ, the porous body flow passage 50 including an extension part L extending in a direction including a perpendicular component.例文帳に追加

液体ＬＱを用いた液浸露光が実施される基板ステージ２であって、接触した液体ＬＱを回収して液体ＬＱを保持する多孔体から形成された多孔体流路５０を備え、多孔体流路５０は、鉛直成分を含む方向に延在する延在部Ｌを有するという構成を採用する。 - 特許庁

In the substrate processing method comprising a process wherein the liquid immersion region AR2 of a liquid LQ is formed on a substrate P and exposure light EL is used to irradiate the substrate P through the liquid LQ on the liquid immersion region AR2 to expose the substrate P, a contact time period wherein the substrate P contacts with the liquid LQ of the liquid immersion region AR2 is controlled.例文帳に追加

液体ＬＱの液浸領域ＡＲ２を基板Ｐ上に形成し、液浸領域ＡＲ２の液体ＬＱを介して基板Ｐ上に露光光ＥＬを照射して基板Ｐを露光する工程を含む基板処理方法において、基板Ｐが液浸領域ＡＲ２の液体ＬＱと接触している接液時間を管理する。 - 特許庁

LQ control is applied to obtain the quantity u (t) of system input from the quantity X (t) of status and feedback gain K (S42).例文帳に追加

ＬＱ制御を適用し、状態量Ｘ（ｔ）とフィードバックゲインＫからシステム入力量ｕ（ｔ）を求める（Ｓ４２）。 - 特許庁

When water LQ is fed to a space 3 between a projection lens PL and a wafer table, air in the space 3 is removed (exhausted).例文帳に追加

投影レンズＰＬとウエハテーブルとの間の空間３に水ＬＱを供給するときに、その空間３の空気を除去（排気）する。 - 特許庁

The exposure apparatus EX exposes a substrate P by projecting an image of a pattern on the substrate P through a projection optical system PL and the liquid LQ.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して基板Ｐ上にパターンの像を投影することによって、基板Ｐを露光する。 - 特許庁

The upper surface of the measuring stage (ST2) is formed with a recovery opening (51) capable of recovering the liquid (LQ).例文帳に追加

計測ステージ（ＳＴ２）の上面には、液体（ＬＱ）を回収可能な回収口（５１）が設けられている。 - 特許庁

Preferably, the bonding structure is a structure wherein a liquid LQ is interposed between the display cell DC and the plate-like (PP1 or 2).例文帳に追加

好ましくは、該接合構造は、該表示セルＤＣと該板状体（ＰＰ１，２）との間に液体ＬＱを介在させた構造であることを特徴とする。 - 特許庁

An immersion exposure apparatus applied with an immersion method includes an immersion mechanism 1 for filling the optical path space K1 with a liquid LQ.例文帳に追加

液浸法を適用した液浸露光装置であって、光路空間Ｋ１を液体ＬＱで満たすための液浸機構１を備えている。 - 特許庁

Working fluid used in a fluid bearing and working fluid used in a machine tool can be diverted to the liquid LQ.例文帳に追加

液体ＬＱには、流体軸受で使用される作動流体や工作機械で使用される加工液を転用することもできる。 - 特許庁

When the exposure light EL is not emitted, the liquid LQ in the space KS is replaced with another function liquid LK.例文帳に追加

露光光ＥＬの照射の停止時には、空間ＫＳを液体ＬＱとは別の機能液ＬＫで置換する。 - 特許庁

The liquid LQ from a nozzle 13 is applied to and spread on the semiconductor wafer WF by the centrifugal force generated when the supporting base 11 rotates.例文帳に追加

ノズル１３からの液体ＬＱは、支持台１１の回転による遠心力で半導体ウェハＷＦ上に塗り広げられる。 - 特許庁

An exposure device EX is an immersion exposure device for exposing a substrate P with exposing light EL via fluid LQ.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置である。 - 特許庁

The liquid LQ from a nozzle 13 is applied to and spread on a semiconductor wafer WF by the centrifugal force generated when the stage 11 is rotated.例文帳に追加

ノズル１３からの液体ＬＱは、ステージ１１の回転による遠心力で半導体ウェハＷＦ上に塗り広げられる。 - 特許庁