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laser claddingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 134件
LASER CLADDING DEVICE AND LASER IRRADIATION DEVICE例文帳に追加
レーザクラッド装置およびレーザ照射装置 - 特許庁
LASER CLADDING APPARATUS FOR VALVE SEAT PORTION例文帳に追加
バルブシート部のレーザ肉盛装置 - 特許庁
LASER CLADDING METHOD FOR FORMING VALVE SEAT AND LASER CLADDING DEVICE FOR FORMING VALVE SEAT例文帳に追加
レーザクラッドバルブシート形成方法及びレーザクラッドバルブシート形成装置 - 特許庁
To provide a laser cladding method and a laser processing head that perform laser cladding welding while changing the cladding track width during a cladding operation.例文帳に追加
施工中に肉盛トラック幅を変化させながらレーザ粉末肉盛溶接を実施するレーザ肉盛方法及びレーザ加工ヘッドを提供する。 - 特許庁
CLADDING APPLICATION METHOD AND APPARATUS USING HYBRID LASER PROCESS例文帳に追加
ハイブリッドレーザ加工を用いたクラッディング施工方法及び装置 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR JUDGING QUALITY OF LASER BEAM CLADDING例文帳に追加
レーザクラッド加工の品質判定方法および品質判定装置 - 特許庁
REHABILITATION OF TRAILING EDGE AND PLATFORM OF TURBINE PART BY LASER CLADDING例文帳に追加
レーザクラッディングによるタービン部品の後縁とプラットフォームの再生 - 特許庁
LASER CLADDING METHOD, LAMINATED STRUCTURE, AND CORROSION-RESISTANT METAL CLAD STEEL例文帳に追加
レーザー肉盛方法、積層構造および耐食性金属クラッド鋼 - 特許庁
Optionally, a peening process subsequent to laser cladding can be implemented to introduce compressive stress to the solid layer (30) formed by laser cladding.例文帳に追加
適宜、レーザークラッディングの後にピーニング法を実施して、レーザークラッディングで形成した固体層(30)に圧縮応力を導入してもよい。 - 特許庁
METHOD OF REPAIRING STATIONARY SHROUD OF GAS TURBINE ENGINE USING LASER CLADDING例文帳に追加
レーザクラッディングを使用してガスタービンエンジンの固定シュラウドを修理する方法 - 特許庁
To provide a laser cladding-by-welding apparatus capable of achieving the consistent laser cladding by welding and suppressing the strain of a base material even in a state of the high output and the high-speed movement in which a cladding-by-welding film is consistent by cooling a powder feed nozzle.例文帳に追加
レーザ肉盛装置において、粉末供給ノズルの冷却により、肉盛被膜が安定する高出力・高速移動でも安定したレーザ肉盛及び母材のひずみ抑制を図ること。 - 特許庁
After that, supplementary member 90 is piled up by laser cladding or diffusion brazing etc.例文帳に追加
その後補正部材90がレーザクラッディング、拡散ろう付けなどによって盛り上げる。 - 特許庁
In this laser cladding, the clad layer that contains the vanadium carbide is formed on the surface of a base material by a laser processing head capable of discharging a cladding material powder coaxially with an optical axis of laser light.例文帳に追加
本レーザクラッディングでは、クラッディング材料粉末をレーザ光の光軸と同軸上に放出可能なレーザ加工ヘッドにより基材の表面にバナジウム炭化物を含有するクラッド層を形成する。 - 特許庁
The laser structure is epitaxially grown on a substrate 12 with a lower cladding layer 20, an active layer 22, an upper cladding layer 24, and a contact layer 26.例文帳に追加
基板12上で、エピタキシャル成長され、下部クラッド層20、活性層22、上部クラッド層24および接触層26を有する。 - 特許庁
The welding failure is prevented by properly maintaining a balance of irradiating quantity of a laser beam and supply quantity of the metal for cladding by removing the metal for cladding attached on the adjacent unworked valve seat part and carrying out the laser cladding work on the valve seat part after the laser cladding work on the specified valve seat part.例文帳に追加
所定のバルブシート部にレーザクラッド加工を行った後、隣接する未加工のバルブシート部に付着したクラッド用金属を除去し、そのバルブシート部にレーザクラッド加工を行うことにより、レーザビームの照射量とクラッド用金属の供給量とのバランスを適正に維持して溶着不良を防止する。 - 特許庁
In this case, the radiating energy of the laser beam in the melting layer forming step is set to be larger than the radiating energy of the laser beam in the laser cladding step.例文帳に追加
そして、溶融層形成工程時におけるレーザの照射エネルギーを、レーザクラッド加工工程時におけるレーザの照射エネルギーより大とする。 - 特許庁
INSTRUMENT AND SYSTEM FOR MEASURING FALLING POSITION OF METAL POWDER FOR LASER CLADDING WORK, AND LASER IRRADIATION POSITION MEASURING INSTRUMENT例文帳に追加
レーザクラッド加工用金属粉末の落下位置計測装置および落下位置計測システム、ならびにレーザ照射位置計測装置 - 特許庁
To provide a laser cladding method which can form a clad layer having no pore and no crack.例文帳に追加
空孔や割れの無いクラッド層を形成することのできるレーザクラッド加工方法を提供する。 - 特許庁
To provide copper alloy powder for overlaying by laser, the copper alloy powder excellent in cladding, wear resistance and finishing.例文帳に追加
クラッド性、耐摩耗性および仕上げ性に優れたレーザー肉盛用銅合金粉末を提供する。 - 特許庁
Hydrogen concentration (1.5e18 cm^-3) of the fourth cladding layer 110 of the infrared semiconductor laser is higher than hydrogen concentration (1e18 cm^-3) of the second cladding layer 105 in the first semiconductor laser red semiconductor laser.例文帳に追加
赤外半導体レーザの第4クラッド層110の水素濃度(1.5e18cm^−3)が、第1半導体レーザ赤色半導体レーザの第2クラッド層105の水素濃度(1e18cm^−3)よりも高いことを特徴とする。 - 特許庁
To provide a laser beam transmitting apparatus in which cladding propagation light of an optical fiber can be completely removed in a short cladding propagation light removing part, and to provide a fiber laser oscillator equipped with the same.例文帳に追加
光ファイバのクラッド伝播光を、短い長さのクラッド伝播光除去部において完全に除去することのできるレーザ光伝送装置およびそれを備えたファイバレーザ発振器を得る。 - 特許庁
Processes for fabricating a niobium silicide-based turbine article are also described, using laser cladding techniques.例文帳に追加
レーザクラッディング技法を用いた、ニオブシリサイドをベースとするタービンの物品の製造方法もまた、記載されている。 - 特許庁
A laser cladding system 10 includes: a positioning mechanism 14 for positioning the cylinder head 12 and the valve sheet 16; a laser cladding mechanism 18 for cladding the valve sheet 16 of the cylinder head 12 with a metal powder supplied as a raw material; and a holding robot 20 for carrying the cylinder head 12 from the positioning mechanism 14 to the laser cladding mechanism 18.例文帳に追加
レーザ肉盛りシステム10は、シリンダヘッド12(バルブシート16)の位置合わせを行う位置合わせ機構14と、シリンダヘッド12のバルブシート16に対して供給された金属粉末を原材料として肉盛りするレーザ肉盛り機構18と、シリンダヘッド12を前記位置合わせ機構14から前記レーザ肉盛り機構18へ搬送する把持ロボット20とを備える。 - 特許庁
A semiconductor laser device comprises an n-cladding layer 3, an active layer 4, a p-cladding layer 5, mesa structures 7 to 9, a block layer 13, a low-loss layer 11, and a contact layer 10.例文帳に追加
半導体レーザ装置は、n−クラッド層3、活性層4、p−クラッド層5、メサ構造7−9、ブロック層13、低損失層11、コンタクト層10を具備する。 - 特許庁
In a semiconductor laser element 1, an n-type cladding layer 5, an active layer 6, a first p-type cladding layer 7, and a ridge 12 are formed above an n-type semiconductor substrate 2.例文帳に追加
半導体レーザ素子1にはn型半導体基板2上にn型クラッド層5、活性層6、第1のp型クラッド層7、及びリッジ12が形成されている。 - 特許庁
To provide a laser cladding device capable of reducing labor and time required before laser beam irradiation and improving quality of repaired part.例文帳に追加
レーザ光照射前に要する労力及び時間を削減でき且つ補修部分の品質向上を図れるレーザクラッディング装置を提供する。 - 特許庁
The first laser structure section 3 has a laminate structure of an n-type AlGaAs cladding layer 32, an MQW active layer 33 and a p-type AlGaAs cladding layer 34, and the second laser structure section 4 has a laminate structure of an n-type InGaAlP cladding layer 42, an MQW active layer 43 and a p-type InGaAlP cladding layer 44.例文帳に追加
第1レーザ構造部3は、n型AlGaAsクラッド層32、MQW活性層33およびp型AlGaAsクラッド層34の積層構造を有し、第2レーザ構造部4は、n型InGaAlPクラッド層42、MQW活性層43およびp型InGaAlPクラッド層44の積層構造を有している。 - 特許庁
After the laser cladding work, the trailing edge 38 is subjected to machining so as to restore the trailing edge 38 to the original size.例文帳に追加
レーザクラッド加工後は、後縁38を本来の大きさに戻すように、この後縁38が機械加工される。 - 特許庁
A multimode pump can be effectively coupled by a laser cavity formed with a double cladding fiber.例文帳に追加
本発明は、特に、ダブルクラッドを備えたファイバーからなるレーザ空洞でマルチモードポンプを有効に結合することができる。 - 特許庁
To provide a laser cladding method that can form a clad layer in which a vanadium carbide is uniformly dispersed.例文帳に追加
本発明は、バナジウム炭化物を均一分散させたクラッド層を形成し得るレーザクラッディング方法を提供する。 - 特許庁
In a cladding by welding device, the cladding by welding is implemented by melting a surface of a bearing base metal by the arc discharge and the laser beam 3, and feeding the white metal alloy for bearing to the molten portion.例文帳に追加
軸受母材の表面をアーク放電とレーザビーム3とによって溶融し、その溶融部に軸受用ホワイトメタル合金を供給して肉盛り形成する肉盛り装置である。 - 特許庁
The process of forming the first semiconductor laser element section 10 includes a process of making the thickness of the p-type second cladding layer 16 smaller than that of the p-type second cladding layer 26.例文帳に追加
また、第1半導体レーザ素子部10を形成する工程は、p型第2クラッド層16を、p型第2クラッド層26の厚みよりも小さい厚みに形成する工程を含んでいる。 - 特許庁
The semiconductor laser device includes a semiconductor layer laminate 20 including an n-type cladding layer 13B, an active layer 14, and a p-type cladding layer 15B, which are stacked in order on a substrate 10.例文帳に追加
半導体レーザ装置は、基板10の上に順次積層されたn型クラッド層13B、活性層14及びp型クラッド層15Bを含む半導体層積層体20を備えている。 - 特許庁
In the nitride semiconductor laser element, an active layer 17 is put between an n-type cladding layer 15 comprising n- and p-type nitride semiconductors and a p-type cladding layer 26.例文帳に追加
本発明の窒化物半導体レーザ素子は、活性層17をn型とp型の窒化物半導体からなるn型クラッド層15とp型クラッド層26で挟んだ構造を有している。 - 特許庁
The cladding part of the optical fiber is marked with the above sign indicating the direction of eccentricity between the core part and the cladding part by making an organic substance adhere to the cladding part of the optical fiber by condensing laser light of a 350 to 450nm wavelength thereon, or the sign is formed of it.例文帳に追加
本発明は、光ファイバのコア部とクラッド部との偏心方向を示す前記印を、該光ファイバのクラッド部に波長350〜450nmのレーザ光を集光して付着させた有機物、もしくは、によって形成することを特徴とする。 - 特許庁
To provide a sintering material for cladding by welding in which the necessary energy is similar to that of the laser beam cladding by welding using powder, the three-dimensional laser beam cladding by welding which has been impossible with a conventional powder system is possible, the productivity is improved, and the cost of parts can be reduced.例文帳に追加
従来の粉末を用いたレーザー肉盛り加工と同程度の必要エネルギーで済むと共に、従来の粉末を用いる場合には不可能であった三次元的なレーザー肉盛加工を可能にし、生産性の向上と部品コストの低減を可能にする肉盛用焼結体材料を提供する。 - 特許庁
A photonic crystalline surface light-emitting laser 10a includes a group III-V compound semiconductor substrate, an n-type cladding layer 12, a light-emitting layer 15, a p-type cladding layer 16, and a photonic crystalline layer 13.例文帳に追加
フォトニック結晶面発光レーザ10aは、III−V族化合物半導体基板と、n型クラッド層12と、発光層15と、p型クラッド層16と、フォトニック結晶層13とを備えている。 - 特許庁
To provide a method of forming a protruded stripe on the upper cladding layer of a semiconductor laser device and suppressing or preventing a light distribution from spreading toward the upper cladding layer.例文帳に追加
半導体レーザ装置の上クラッド層にストライプ状の凸部を支障なく形成することができ、かつ上クラッド層側への光分布の広がりを抑制ないし防止することができる手段を提供する。 - 特許庁
The laser diode has a structure in which refractive index of a p-cladding layer on a second surface of an active layer is smaller than that of an n-cladding layer 50 on a first surface of an active layer.例文帳に追加
アクティブレイヤの第1面に設けられるn−クラッドレイヤ50の屈折率に比べてアクティブレイヤの第2面に設けられるp−クラッドレイヤの屈折率が小さな構造を有するレーザーダイオード。 - 特許庁
The semiconductor laser element has a lamination structure constituted by laminating a first cladding layer 103, an active layer 104 and a second cladding layer 105 on a semiconductor substrate 101, in this order from the side nearest the semiconductor substrate 101.例文帳に追加
半導体レーザ素子は、半導体基板(101)上に、半導体基板(101)に近い側から順に、第1のクラッド層(103)、活性層(104)、及び第2のクラッド層(105)が積層されてなる積層構造を有する。 - 特許庁
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