| 例文 |
mixed patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 217件
To provide a BGA semiconductor package preventing such as the drop off of solder balls, pattern cracks, and the separation of solder ball lands by adopting a solder ball land structure with an SMD type and an NSMD type mixed, and having high reliability with the high fusing power of the solder balls to a substrate.例文帳に追加
SMD型とNSMD型とを混合した半田ボールランド構造を採用にすることによって、半田ボールの脱落、パターンクラック(patterncrack)、並びに半田ボールランドの分離等の現象を防止することができ、且つ、基板に対する半田ボールの高い融着力のある信頼性を高いBGA半導体パッケージを提供する。 - 特許庁
To reduce dimensional differences due to inconsistencies in pattern density in a plane by using a mixed gas, wherein a reducing gas is added to a reactive ion etching gas consisting of an oxygen-containing gas and a halogen- containing gas as a reactive etching gas.例文帳に追加
微細なパターンを形成する手段としてのドライエッチングにおいて、面内のパターンの疎密の違いに起因する寸法差を小さくするドライエッチング方法、この方法を利用して得たクロム系ハーフトーン位相シフトフォトマスクおよびその作製方法、ならびにこのフォトマスクを用いて得た半導体回路およびその製作方法の開発。 - 特許庁
The color fire generator for set fireworks comprises a tank 20 for containing smokeless liquid fuel mixed with a flame coloring agent, a nozzle 40 for atomizing smokeless liquid fuel supplied from the tank 20 through a supply means 30 and ejecting it in specified pattern, and means 50 for firing the smokeless liquid fuel ejected from the nozzle 40.例文帳に追加
炎色剤入りの無煙液体燃料を収納可能な収納タンク20と、この収納タンク20から供給手段30を介して供給された無煙液体燃料を霧化して所定の噴霧パターンで噴射可能な吹出しノズル40と、この吹出しノズル40から噴射された無煙液体燃料に着火可能な着火手段50とを設ける。 - 特許庁
By providing a light scattering layer SK formed by applying an adhesive in which light scattering particles are mixed between the rear side liquid crystal display panel PNL1 and the front side liquid crystal display panel PNL2, and scattering light passing through the rear side liquid crystal display panel PNL1, the interference with the grating pattern of the front side liquid crystal display panel PNL2 is restrained.例文帳に追加
後側液晶表示パネルPNL1と前側液晶表示パネルPNL2の間に光散乱粒子を混入した粘着剤の塗布で形成した光散乱層SKを設け、後側液晶表示パネルPNL1を通過した光を散乱させることで前側液晶表示パネルPNL2の格子パターンとの干渉を抑制する。 - 特許庁
A light shielding pattern is formed using a laminate of a film of a metal nanoparticle ink prepared by dispersing metal nanoparticles and a film of a dye ink which absorbs ≥90% of light from a light source, or a film of a mixed ink comprising a metal nanoparticle ink and a dye ink having ability to form a monolayer film which absorbs ≥90% of light from a light source.例文帳に追加
金属微粒子を分散させた金属微粒子インクの塗膜と光源からの光を90%以上吸収する染料インクの塗膜の積層塗膜の積層膜、又は金属微粒子インクと光源からの光を90%以上吸収する単層塗膜形成能を持つ染料インクとの混合インクの塗膜で遮光パターンを形成する。 - 特許庁
To provide a base board for pattern coating, which can prevent supplied ink from being mixed with each other outside an area in which barrier ribs are formed, and at the same time, can prevent ink supplied outside the area in which the barrier ribs are formed from flowing into an area in which barrier ribs are formed, in selectively supplying ink by a coating method.例文帳に追加
塗布法によってインキを選択的に供給する際に、供給されたインキが、隔壁が形成される領域外で混ざり合うことを防ぐとともに、隔壁が形成される領域外に供給されたインキが、隔壁の形成された領域に流れ込むことを防ぐことができるパターン塗布用基板を提供することである。 - 特許庁
The Ni film is dissolved and removed using mixed acid aqueous solution containing 15-25 wt.% of sulfuric acid and 5-15 wt.% of nitric acid when the Ni film formed on the surface of the mask member is removed from the mask member made of stainless steel used for forming the Ni film in a prescribed pattern on a substrate by a thin film formation technique.例文帳に追加
薄膜形成技術によって基材上に所定のパターンでNi膜を形成するために使用される、ステンレス鋼製のマスク部材について、その表面に形成されたNi膜を除去するにあたり、硫酸を15〜25wt%、硝酸を5〜15wt%含有する混酸水溶液を用いて、前記Ni膜を溶解、除去することを特徴とする。 - 特許庁
A polycrystalline silicon thin film for a display device is featured in that adjoining primary crystal grain boundaries are not parallel and an area enclosed by primary crystal grain boundaries is larger than 1 μm^2, and also characterized by a step of crystallizing amorphous silicon using a laser beam, through the use of a mask having a mixed structure of a laser-transparent line-shaped pattern and a laser-opaque pattern.例文帳に追加
本発明は多結晶シリコン薄膜、これの製造方法及びこれを利用して製造された薄膜トランジスタに係り、隣接したプライマリ結晶粒境界が平行せずにプライマリ結晶粒境界に囲まれた面積が1μm^2より大きいことを特徴とするディスプレーデバイス用多結晶シリコン薄膜及びレーザーが透過するライン形態のパターンとレーザーが透過することができないパターンが混合された構造を有するマスクを用いて非晶質シリコンをレーザーを利用して結晶化する段階を含むことを特徴とする。 - 特許庁
A pattern having an original decorative property is formed by advance, collision characteristics and action of a granule F and compressed air A by a simple jetting operation wherein after wet molding, compressed air A in which a decorating granule F is mixed is jetted onto a surface 2 of a tile green body M cut to a specific size to attach the granule F to the surface 2 of the tile green body M.例文帳に追加
湿式成形後に、定寸に切断されたタイル素地M表面2に、装飾用粉粒体Fを混入した圧縮空気Aを噴射させて、タイル素地M表面2に粉粒体Fを付着させることによって、簡単な噴射作業で、粉粒体F及び圧縮空気Aの進行、衝突特性、作用により、斬新な意匠性を有した模様を形成する。 - 特許庁
To draw at high speed a pattern having a mixed plurality of lines with directions and widths different from each other on the same base material for each line of the same direction line by relatively moving liquid droplet ejecting heads to the base material, by ejecting the liquid droplets while relatively moving the liquid droplet ejecting heads in the same direction in relation to the base material, respectively.例文帳に追加
液滴吐出ヘッドと基材とを相対的に移動させることによって、同一の基材上に互いに方向と幅の異なる複数の線が混在するパターンを、同一方向の線毎に、それぞれ基材に対して液滴吐出ヘッドを同一方向に相対的に移動させながら液滴を吐出することによって描画するに際し、より高速な描画を行うこと。 - 特許庁
A fluorinated fatty acid is used as the molecules forming a LB film and an alcohol/water mixed liquid is used as an underlayer liquid in LB film production so that a LB film having a regular domain structure in a size of 20 to 100 nm can be obtained and further a pattern formed body having a two-dimensional structure can ultimately be obtained by using the LB film having the domain structure as a casting mold material.例文帳に追加
LB膜形成分子としてフッ素化脂肪酸を用いるとともに、アルコール/水混合液をLB膜作製時における下層液として利用することで、20〜100nmの規則的なドメイン構造を有するLB膜を得え、さらに、該ドメイン構造を有するLB膜を鋳型材として、最終的に2次元的な構造を有するパターン形成体を得る。 - 特許庁
The method includes a circuit layout pattern and layout method for making it possible to match circuit parts accurately or proportionally by uniformly distributing the circuit parts so that the circuit parts are not affected by an environment or a process variation or an influence is kept to a minimum and, thereby improving the performance of an analog and mixed-signal circuit.例文帳に追加
回路部品が環境の影響またはプロセス変動の影響を受けないような形で、またはその影響を最小限に抑えるような形で回路部品を一様に分配することによって回路部品を正確にまたは比例的に適合させることを可能にし、それによってアナログおよび混成信号回路の性能を改善する回路レイアウト・パターンおよびレイアウト方法を含む。 - 特許庁
The aligner has a projection optical system for projecting the pattern of a reticle to a workpiece, exposes the workpiece to light via liquid supplied at least partially between the projection optical system and the workpiece, forms a prescribed flow velocity distribution in the liquid, and has a means for removing bubbles and/or foreign matters mixed into the liquid.例文帳に追加
レチクルのパターンを被処理体に投影する投影光学系を有し、前記投影光学系と前記被処理体との間の少なくとも一部に供給される液体を介して前記被処理体を露光する露光装置であって、前記液体内に所定の流速分布を形成し、前記液体に混入した気泡及び/又は異物を除去する除去手段を有することを特徴とする露光装置を提供する。 - 特許庁
After a dielectric substrate 1 is formed by thermoplastic liquid crystal polymer where palladium is mixed, a resin mask 2 is formed (B) to expose a surface part where a conductive layer 4 with a specific pattern is formed and the other surface parts are covered, and the resin mask and the entire surface of the dielectric substrate 1 that is exposed from the resin mask are subjected to roughening treatment 3 (C).例文帳に追加
パラジウムを混入した熱可塑性の液晶ポリマーで誘電体基板1を成形(A)した後、この誘電体基体の表面のうち、所定パターンの導体層4が形成されるべき表面部分を露出させ、これ以外の表面部分を覆うように樹脂マスク2を形成(B)し、この樹脂マスク及びこの樹脂マスクから露出している誘電体基体1の全表面を粗面化処理3する(C)。 - 特許庁
This dry etching method repeatedly executes a step of generating plasma in a vacuum tank to etch a substrate and a step of sputtering a sold material disposed oppositely to the substrate to form a protective film on the side wall of an etching pattern, wherein a mixed gas obtained by adding a reaction gas for forming a protective film to a noble gas is used as a sputter gas in the protective film forming step.例文帳に追加
本発明のドライエッチング方法は、真空槽内でプラズマを発生させて、基板をエッチングする工程と、基板に対向して配置された固体材料をスパッタして、エッチングパターンの側壁部に保護膜を形成する工程を、交互に繰り返して行うドライエッチング方法であって、保護膜の形成工程では、スパッタガスとして、希ガスに保護膜形成用の反応ガスを添加した混合ガスを用いる。 - 特許庁
To simplify an input of schedule data and to stably suck a work piece from mixed works by making a suction designation of a work sucker as a direct designating system capable of designating the sucker on a touch panel from a conventional area designation, and imparting a code to every suction pattern and registering and storing the code in schedule data in a main storage device of an NC device.例文帳に追加
ワーク吸着器の吸着指定を従来の領域指定(エリア指定)から、タッチパネル上で吸着器を指定可能なダイレクト指定方式とし、NC装置の主記憶装置に、吸着パターン毎に符号を付してスケジュールデータ中に登録記憶させるという、スケジュールデータ入力の簡易化と共に、混載ワークからの被加工ワークの安定吸着を実現し得るワーク把持選択制御装置及び方法並びに記憶媒体の提供。 - 特許庁
An elevated substrate W is exposed to the drying gas and pure water adhering to the surface is dried by the drying gas but since the drying gas is mixed with the vapor of isopropyl alcohol which reduces surface tension of pure water, liquid level of pure water stored in the processing tank 1 or surface tension of pure water adhering to the substrate W is reduced thus preventing collapse of a pattern formed on the substrate W.例文帳に追加
上昇された基板Wは、乾燥用気体を浴び、表面に付着している純水が乾燥用気体で乾燥されるが、乾燥用気体には純水の表面張力を低減させるイソプロピルアルコールの蒸気が混合されているので、処理槽1に貯留している純水の液面や、基板Wに付着している純水の表面張力が低減され、基板Wに形成されているパターンの倒壊を防止できる。 - 特許庁
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