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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > ohmic electrodesに関連した英語例文

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ohmic electrodesの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 116



例文

For example, an MMIC 100 in which an FET as an active element and an MIM capacitor are provided on a GaAs substrate 10 has a structure in which source and drain electrodes 16a, 16b as ohmic electrodes of the FET and the lower electrode 16c of the MIM capacitor are made of the same metal by simultaneously forming them.例文帳に追加

例えば、GaAs基板10上に、能動素子としてのFETと、MIMキャパシタとが設けられたMMIC100では、FETのオーミック電極たるソース・ドレイン電極16a・16bと、MIMキャパシタの下側電極16cとを同時に形成することにより、これらを同じ金属からなる構造とする。 - 特許庁

To provide a functional element in which a carbonaceous linear structural material, such as a carbon nanotube, is provided between counter electrodes as a functional site, which has a good ohmic contact between the carbonaceous linear structural material and the counter electrodes, and which can be manufactured at a relatively low temperature and with a simple process, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

カーボンナノチューブなどの炭素系線状構造材料が、対向電極間に機能部位として設けられている機能素子であって、炭素系線状構造材料と対向電極とのオーミック接触性が良く、比較的低い温度と簡易な工程で作製可能な機能素子及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The field effect transistor includes: a first semiconductor layer 19; a gate electrode 24 formed by means of a Schottky junction with the first semiconductor layer 19 on the first semiconductor layer 19; and ohmic electrodes 22, 23 formed on both sides of the gate electrode 24 on the first semiconductor layer 19.例文帳に追加

電界効果トランジスタは、第1の半導体層19と、第1の半導体層19の上に第1の半導体層19とショットキー接合して形成されたゲート電極24と、第1の半導体層19の上におけるゲート電極24の両側方に形成されたオーミック電極22、23とを備えている。 - 特許庁

This invention discloses the field effect transistor comprising a nitride semiconductor layer including a channel layer, a Schottky electrode 20 including a GZO layer 22 provided in contact with the nitride semiconductor layer and heat-treated under an inert gas atmosphere and ohmic electrodes 16 and 18 connected to the channel layer, and its manufacturing method.例文帳に追加

本発明は、チャネル層を含む窒化物半導体層と、窒化物半導体層に接して設けられ不活性ガス雰囲気中で熱処理されたGZO層22を含むショットキ電極20と、チャネル層に接続して設けられたオーミック電極16、18と、を具備する電界効果トランジスタおよびその製造方法である。 - 特許庁

例文

To provide a method of forming nickel silicide which can reduce the number of processes for forming nickel silicide capable of being used for various purposes in the semiconductor and advanced packaging technology such as formation of gate electrodes, ohmic contacts, interconnection lines, Schottky barrier diode contacts, photovoltaics, solar cells and optoelectronic components.例文帳に追加

半導体及び先端実装技術、例えば、ゲート電極、オーミック接触、相互接続ライン、ショットキー障壁ダイオード接触、光起電力、太陽電池及び光電子部品形成などにおける様々な目的のために使用されうるケイ化ニッケルの形成工程数を削減する形成方法を提供する。 - 特許庁


例文

This semiconductor device includes a first group III-V nitride semiconductor layer 12 and a second group III-V nitride semiconductor layer 13 having a large bandgap relative to that of the first group III-V nitride semiconductor layer 12, a third group III-V nitride semiconductor layer 21 having a p-type conductivity, and first ohmic electrodes 14, all of which are sequentially formed on a substrate 11.例文帳に追加

半導体装置は、基板11の上に順次形成された、第1のIII−V族窒化物半導体層12及び第1のIII−V族窒化物半導体12と比べてバンドギャップが大きい第2のIII−V族窒化物半導体層13と、p型の導電型を有する第3のIII−V族窒化物半導体層21と、第1のオーミック電極14とを備えている。 - 特許庁

In this case, the source/drain electrode 10 of the thin-film transistor 3 are formed simultaneously of the same conductive material (molybdenum) on the same layer (bottom gate insulating film 31, including an ohmic contact layer 43), the conductor layers 34 and 35 including the source/drain electrodes of the thin-film transistors 21 and 22.例文帳に追加

この場合、薄膜トランジスタ3のソース・ドレイン電極10は、薄膜トランジスタ21、22のソース・ドレイン電極を含む導電体層34、35と同一の層(オーミックコンチクト層43を含むボトムゲート絶縁膜31)上に同一の導電材料(モリブデン)によって同時に形成されている。 - 特許庁

To provide an AlGaInP LED, which is of high brightness and capable of diffusing an operating current over the wide region of a light-emitting part, where the AlGaInP LED is equipped with a light-emitting layer, a III-V compound semiconductor layer, ohmic electrodes which are split and arranged, a light-transmitting window layer, and a wiring pedestal electrode.例文帳に追加

発光層、III−V族化合物半導体層、分割して配置されたオーミック電極、発光透過用の窓層、および結線用の台座電極を有するAlGaInP系発光ダイオードにおいて、動作電流を発光部の広範な領域に拡散し高輝度のAlGaInP系LEDを提供する。 - 特許庁

The information recording medium is characterized by having the recording layer (2) containing molecules with a charge transfer property, molecules with a nonlinear optical property and optically functional molecules whose three-dimensional structure changes with light irradiation and a pair of transparent ohmic electrodes (3a, 3b) sandwiching the recording layer and having conductance which is reduced on light irradiation.例文帳に追加

前記情報記録媒体は、電荷輸送性を有する分子、非線形光学特性を有する分子及び光照射により立体構造が変化する光機能分子を含有する記録層(2)と、前記記録層を挟持する一対の透明オーミック電極(3a,3b)とを有し、光照射時に伝導度が減少することを特徴とする。 - 特許庁

例文

Ohmic electrodes 111, 112 and 113 are formed on the surfaces of the anode-electrode side heavily-doped, cathode-electrode side heavily- doped, and Schottky-electrode side heavily-doped semiconductor layers 105, 110 and 102, respectively, and at the same time, a Schottky electrode 115 is formed on the surface of the Schottky-electrode side lightly-doped semiconductor layer 103.例文帳に追加

アノード電極側高濃度半導体層105の表面およびカソード電極側高濃度半導体層110の表面、並びにオーミック電極側高濃度半導体層102の表面にそれぞれオーミック電極111,112,113を形成するとともに、ショットキー電極側低濃度半導体層103の表面にショットキー電極115を形成する。 - 特許庁

例文

To provide a semiconductor device such as an organic field effect transistor in which source and drain electrodes have superior adhesiveness to a base, in which ohmic contact sufficient to a semiconductor layer is formed in a contact region with a current passage, and which has an electrode structure that can be manufactured with good productivity in a simple process; and to provide a manufacturing method of the device.例文帳に追加

ソース及びドレイン電極が、下地に対する優れた密着性を有し、かつ、電流通路との接触域において半導体層に対し良好なオーミック接触を形成し、しかも簡易な工程で生産性よく製造できる電極構造を有する、有機電界効果トランジスタなどの半導体装置及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

On the active region 12A, there are formed a gate electrode 13 which has Schottky contact with the active region 12A, is extendingly formed on the insulating oxide film 12B and has a drawn portion 13a on the insulating oxide film 12B, and ohmic electrodes 14 which are spaced from both sides of the gate electrode 13 in a gate longitudinal direction to form a source electrode and a drain electrode, respectively.例文帳に追加

活性領域12Aの上には、該活性領域12Aとショットキ接触すると共に、絶縁酸化膜12Bの上に延びるように形成され該絶縁酸化膜12B上に引き出し部13aを有するゲート電極13と、該ゲート電極13のゲート長方向側の両側部と間隔をおき、それぞれがソース電極及びドレイン電極となるオーミック電極14とが形成されている。 - 特許庁

Since the dielectric layer 108 has a portion 109 tapered from the gate Schottky electrode 106 toward the drain ohmic electrode 107, the effect of relaxing concentration of electric field increases as the gate Schottky electrode 106 is approached, and a high breakdown voltage can be attained by making the electric field distribution uniform between the electrodes.例文帳に追加

さらに、誘電体層108はゲートショットキ電極106からドレインオーミック電極107に向かって先細の先細部109を有するので、ゲートショットキ電極106に近いほど電界の集中を緩和する効果が高くなり、特に、電極間の電界分布を均一化して高耐圧化を図れる。 - 特許庁

One electrode is provided on a group III-V compound semiconductor-made buffer layer containing boron(B) and phosphorus(P) or arsenic(As) having a smaller forbidden band width than a lower clad layer, and another electrode is provided on a group III nitride semiconductor layer to obtain a group III nitride semiconductor light emitting element having a high light emission intensity and electrodes displaying good Ohmic characteristics.例文帳に追加

一方の電極を下部クラッド層よりも禁止帯幅を小とする硼素(B)とリン(P)または砒素(As)とを含むIII−V族化合物半導体から構成される緩衝層上に設け、他方の電極をIII族窒化物半導体層上に設けることにより、良好なオーミック特性を発揮する電極を備えた高発光強度のIII族窒化物半導体発光素子を得る。 - 特許庁

The semiconductor device (HFET) includes: a first nitride semiconductor layer 13 formed on a SiC substrate 11 through a buffer layer 12; a second nitride semiconductor layer 14 formed on the first nitride semiconductor layer 13 to generate a two-dimensional electronic gas layer on the upper part of the first nitride semiconductor layer 13; and electrodes 16, 17 selectively formed on the second nitride semiconductor layer 14 and having ohmic properties.例文帳に追加

半導体装置(HFET)は、SiC基板11上にバッファ層12を介在させて形成された第1の窒化物半導体層13と、該第1の窒化物半導体層13の上に形成され、該第1の窒化物半導体層13の上部に2次元電子ガス層を生成する第2の窒化物半導体層14と、該第2の窒化物半導体層14の上に選択的に形成されたオーム性を持つ電極16、17とを有している。 - 特許庁

例文

The diamond electron emitting element comprises a diamond substrate 1, a diamond n-type semiconductor layer 2 formed on the diamond substrate 1, a diamond p-type semiconductor layer 3 formed on the diamond n-type semiconductor layer 2, ohmic electrodes 4, 5 respectively formed on surfaces 2a, 3a of the diamond n-type semiconductor layer 2 and the diamond p-type semiconductor layer 3.例文帳に追加

ダイヤモンド下地基板1と、該ダイヤモンド下地基板1上に形成したダイヤモンドn型半導体膜2の層と、該ダイヤモンドn型半導体膜層上に形成したダイヤモンドp型半導体膜3の層と、前記ダイヤモンドn型半導体膜2の層及び前記ダイヤモンドp型半導体膜3の層のそれぞれの表面2a,3aに形成したオーミック電極4,5とにより、ダイヤモンド電子放出素子を構成した。 - 特許庁

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