「partial shape」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

Then, a partial domain of another measuring spot of the measuring object 1 is measured optically and three-dimensionally together with at least three marks 14 by moving the shape measuring device 2, to thereby acquire a measured value, and both measured values are converted into the same coordinate system and synthesized, based on the stored size and interval of the mark 14 and the measured size and interval of the mark 14 (step 100-200).例文帳に追加

その後、形状測定器２を移動して、少なくとも３つのマーク１４と共に被測定物１の他の測定箇所の部分領域を光学的に３次元測定して測定値を得て、記憶したマーク１４の大きさ及び間隔と測定したマーク１４の大きさ及び間隔とに基づいて、両測定値を同一座標系に変換して合成する（ステップ１００〜２００）。 - 特許庁

To obtain an ink jet recorder performing time sharing drive in which deterioration in image quality due to periodic occurrence of unevenness in density is prevented when gray scale control is performed by unit matrix for at least a partial gray scale, because dot cluster of each unit matrix has a shape different periodically due to inconsistency in relation between the unit matrix size and the time sharing drive unit section size.例文帳に追加

時分割駆動を行うインクジェット記録装置において、少なくとも一部の階調に単位マトリクスによる階調制御を行うにあたり、単位マトリクスサイズと時分割駆動の単位セクションサイズとの関係の不整合性により、単位マトリクス毎のドットクラスタの形状が周期的に異なるために、周期的な濃度ムラが発生し画質劣化となって現れることを防止することである。 - 特許庁

When an unvulcanized rubber hose 10A molded into a tube-like shape is vulcanized, the unvulcanized rubber hose 10A is vulcanized by using a partial compression mold 20 with a projected mold part 26 for partially pushing a scheduled clamping position into a diameter decreasing direction by the clamping member and pressing it, and a recessed part is made by partially compression-molding in advance the scheduled clamping position at the same time as the vulcanization processing.例文帳に追加

チューブ状に成形した未加硫ゴムホース１０Ａを加硫処理するに際し、クランプ部材による予定締付箇所を部分的に縮径方向に押し込んで加圧する凸型部２６を有する部分圧縮型２０を用いて未加硫ゴムホース１０Ａを加硫処理し、加硫処理と同時にクランプ部材による予定締付箇所を予め部分的に圧縮成形して凹陥部としておく。 - 特許庁

The condyle globular acetabular part 11 is formed into a shape in which an inner wall 11d side in a peripheral part 11b is sliced off toward the globular outer surface 11a side so that the thickness in a cross section vertical to a protrusion direction of the axial part 12 gradually decreases toward an end part 11c in the peripheral part 11b on the opposite side to the partial crown part side.例文帳に追加

そして、骨頭球殻部１１は、頭頂部分側とは反対側の周縁部分１１ｂにおいてその端部１１ｃ側に向かって、軸状部１２の突出方向と垂直な断面における厚みが徐々に減少するように、周縁部分１１ｂにおける内壁１１ｄ側が球状外面１１ａ側に向かって削がれた形状に形成されている。 - 特許庁

A beam 10 emitted toward an inspected object 13 is shaped into a designated shape by a partial shielding plate 3, applied to the very small area b of the surface of the inspected object 13, and the reflected light from the inspected object 13 is enlarged by lenses 6, 7 and detected by a position detector 9 to detect the waviness of the surface of the inspected object 13.例文帳に追加

検査対象１３に向けて射出したビーム１０を部分遮光板３によって所定形状に整形して検査対象１３の表面の微小領域ｂに対して照射し、検査対象１３からの反射光をレンズ６，７によって拡大して位置検出器９で検出することにより、検査対象１３表面のうねりを検出するようにしている。 - 特許庁

In the permanent magnet rotary motor, which is constituted of a stator 50 and its winding 53, a plurality of permanent magnets 62 disposed along the circumferential direction, a rotor yoke 61 of approximately cylindrical shape revolving around the outer periphery of the stator 50 and having an interpole between each magnet 62 adjacent to the other, air gaps 612, 614 are provided in partial spaces between each permanent magnet 62 and the rotor yoke 61.例文帳に追加

ステータ５０およびその巻線５３と、複数の永久磁石６２を円周方向に沿って配置して前記ステータ５０の外周を回転する略円筒形状のロータヨーク６１とを含み、前記ロータヨーク６１が、互いに隣接する各永久磁石６２間に補極部６１３を有する永久磁石式回転電動機において、前記各永久磁石６２とロータヨーク６１との間の一部分に空隙６１２、６１４を設けた。 - 特許庁

The semiconductor substrate includes a substrate, a first semiconductor layer formed on the substrate, a mask formed in a partial region on the first semiconductor layer, a metallic material layer formed on the first semiconductor layer and mask in a predetermined pattern shape in a direction crossing the mask, a second semiconductor layer formed on the first semiconductor layer and the metallic material layer, and a cavity formed in the first semiconductor layer at a layer portion below the metallic material layer.例文帳に追加

本発明の半導体基板は、基板と、前記基板上に形成された第１の半導体層と、前記第１の半導体層上の一部領域に形成されたマスクと、前記第１の半導体層及び前記マスク上に当該マスクと交差する方向に所定のパターン形状で形成された金属性材料層と、前記第１の半導体層上及び前記金属性材料層上に形成された第２の半導体層と、前記金属性材料層より下層部分の前記第１の半導体層に形成された空洞と、を有する。 - 特許庁