「passivity」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a treatment device for phosphate ion-containing water capable of watching the generation of passivity film and capable of stably maintaining phosphoric acid removing performance.例文帳に追加

不動態膜の発生を監視し、リン酸除去性能を安定して維持することができるリン酸イオン含有水の処理装置を提供する。 - 特許庁

The passivity layer is deposited in advance of the polymer layer to protect the surface of the substrate so as not to be damaged during the polymer deposition.例文帳に追加

不動態層はポリマー層に先だって蒸着され、基板表面がポリマー層蒸着の間に損傷しないよう保護する。 - 特許庁

A contact with a gas is covered by the passivity of an aluminum or a metal fluoride, and the contact of the exothermic reaction species is interrupted with a metal material.例文帳に追加

アルミニウム又は金属フッ化物の不動態にて、ガスとの接触部分を被覆し、発熱反応種と金属材料との接触を遮断する。 - 特許庁

The nonaqueous secondary battery including the current collector having a high corrosion resistance layer on a surface is provided in which a passivity layer is reformed on an alloy surface.例文帳に追加

合金表面上に不動態層を改質した高耐食性層を表面に有する集電体を含む、非水系二次電池を提供する。 - 特許庁

The ultraviolet laser device forms a fluorinated passivity film by a fluorinating passivity treatment for bringing an inner wall of case means (laser chamber 11, a filter case 30) for sealing a laser gas and addition gas and the surface brought into contact with the laser beam of the components in case means 11, 30.例文帳に追加

レーザガス及び添加ガスを封入するケース手段（レーザチャンバ１１、フィルタケース３０）の内壁及びケース手段１１、３０内の部品のうちレーザガスと接触する表面にフッ化不動態処理を施しフッ化不動態膜を形成する。 - 特許庁

A first surface portion of the intermediate layer which is located on the upper part of the main surface of the semiconductor substrate is treated with plasma to form a passivity layer located at the first surface portion of the intermediate layer (302).例文帳に追加

半導体基板の主表面上部に位置する層間膜の第１表面部位に保護膜を形成するために、プラズマ処理をする（３０２）。 - 特許庁

To allow electrolytic plating to be continuously performed after removing a passivity layer (ruthenium oxide) on the surface of a ruthenium film, and to allow the terminal effect to be improved in removing the passive layer (ruthenium oxide) on the surface of the ruthenium film.例文帳に追加

ルテニウム膜の表面の不動態層（酸化ルテニウム）を除去した後、連続して電解めっきを行うことができ、しかもルテニウム膜の表面の不動態層（酸化ルテニウム）を除去する時のターミナルエフェクトを改善できるようにする。 - 特許庁

Since respective metal films 6, 10 have a metal element of which the melting point is higher or lower in ionization tendency, or easier to form passivity than respective oxide films 7, 9, it becomes difficult to react at an interface of respective film layers with the oxide films 7, 9 in high temperature environment.例文帳に追加

各金属膜６、１０は各酸化物膜７、９よりも融点の高い、若しくはイオン化傾向の低い、または不動態を形成し易い金属元素を有するので、高温環境下で酸化物膜７、９とのそれぞれの膜層の界面で反応し難くなる。 - 特許庁

To provide an antibacterial filter and an antibacterial container capable of preventing the microbial contamination of a fluid having passivity of causing microbial contamination at a time of leakage, capable of reducing the use amount of an antiseptic added to this fluid and, more preferably, capable of dispensing with the use of the antiseptic.例文帳に追加

微生物汚染が懸念される流体が流出時に微生物汚染されることを防止でき、また、このような流体に添加される防腐剤の使用量を減少することができ、より好ましくは防腐剤の使用を不要にすることができる抗菌性ノズル及び抗菌性容器を提供する。 - 特許庁

In the substrate for liquid discharge head, an upper protective layer 107a which is formed in the region corresponding to a heating part is constituted by laminating two or more first layers which dissolve into a liquid by an electrochemical reaction with the liquid and two or more second layers which change into a passivity.例文帳に追加

発熱部に対応する領域に形成された上部保護層１０７ａは、液体との電気化学反応により、前記液体中に溶出する第１の層と、不動態となる第２の層とが其々２層以上積層された構成である液体吐出ヘッド用基板。 - 特許庁

A substrate processing apparatus comprises: an electrolysis treatment apparatus 22 which performs an electrolysis treatment by using the ruthenium film on the substrate as a cathode, to electrolytically remove the passivity layer formed on the ruthenium film surface; an electrolytic copper plating apparatus 24 which performs electrolytic copper plating of the ruthenium film surface on the substrate; and an apparatus frame 12 which houses the electrolysis treatment apparatus 22 and the electrolytic copper plating apparatus 24.例文帳に追加

基板上のルテニウム膜をカソードとした電解処理により該ルテニウム膜表面に形成された不動態層を電気化学的に除去する電解処理装置２２と、基板上のルテニウム膜の表面に電解銅めっきを行う電解銅めっき装置２４と、電解前処理部２２と電解銅めっき装置２４とを収容する装置フレーム１２とを有する。 - 特許庁

At least one plasma generating source can include a first plasma generating source for ionizing the fluorocarbon gas by applying high frequency plasma energy, and a second plasma generating source for keeping an auto-bias of the substrate in the vicinity of zero by high frequency during the deposition of the passivity layer while making the bias larger during the polymer layer deposition.例文帳に追加

また少なくとも１個のプラズマ発生源としては、高周波プラズマエネルギーを適用してフッ化炭素ガスをイオン化する第１のプラズマ発生源と、不動態層の蒸着の間は高周波数で基板の自己バイアスをゼロ近傍に保つと共にポリマー層蒸着の間はより大きなバイアスとする第二のプラズマ発生源とを含むことができる。 - 特許庁

The electrolyte for forming a polymer film comprises a reagent capable of forming a complex with a metal constituting a main component of an electrode, and a polymerizable monomer, and has a hydrogen ion concentration index in the passivity range of the metal constituting the main component of the electrode, where the reagent is selected from at least one of a dicarboxylate, an α-hydroxycarboxylate, an α-amino acid and a nitrogen- containing heterocyclic compound.例文帳に追加

電極の主成分を構成する金属に対して錯体形成能を有する薬剤と重合性モノマを含み、電極の主成分を構成する金属の不動態領域内の水素イオン濃度指数を有するポリマ被膜形成用電解液であって、薬剤が、ジカルボン酸塩、α−ヒドロキシカルボン酸塩、α−アミノ酸、および含窒素複素環化合物のうちの少なくとも１つから選択される、ポリマ被膜形成用電解液。 - 特許庁