「pattern containing」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

INORGANIC POWDER-CONTAINING RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRODE FOR FLAT PANEL DISPLAY例文帳に追加

無機粉体含有樹脂組成物、パターン形成方法およびフラットパネルディスプレイ用電極の製造方法 - 特許庁

HIGH SENSITIVITY PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING SOLUBLE FILM FORMING DENDRIMER AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

可溶性膜形成デンドリマーを含む高感度フォトレジスト組成物およびそれを使用したパターン形成方法 - 特許庁

TRANSPARENT ELECTRODE OF CARBON NANOTUBE PATTERN CONTAINING NET-LIKE THIN FILM OF CARBON NANOTUBE, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

カーボンナノチューブの網目状薄膜を含むカーボンナノチューブパターンの透明電極、及びその製造方法 - 特許庁

Then a resin, containing an acid producing agent, is applied on the substrate 1 as to cover the resist pattern 2a.例文帳に追加

その後、酸発生剤を含む樹脂６が、レジストパターン２ａを覆うように、基板１の上に塗布される。 - 特許庁

The pattern matching function part 12d recognizes the information containing the words, etc., from the supplied voice signal.例文帳に追加

パターンマッチング機能部12d は、供給される音声信号から単語等を含む情報の認識を行う。 - 特許庁

The precision reticle mask (Fig.4) containing a dot pattern provides another set of information required for the calibration.例文帳に追加

ドット・パターンを含む精密焦点板マスク（図４）は、校正に必要なもう一組の情報を提供する。 - 特許庁

PHOTOACID GENERATOR FOR CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST, RESIST MATERIAL CONTAINING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化学増幅型レジスト用光酸発生剤及びそれを含有するレジスト材料並びにパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER CONTAINING DIOL STRUCTURE, NEGATIVE RESIST COMPOSITION USING IT AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

ジオール構造を含有してなる重合体、それを用いたネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

A crosslinking combination layer 19 is formed on the interface between the photoresist pattern and the polymer containing silicon by performing exposure and baking.例文帳に追加

露光、ベークしフォトレジストパターンとシリコン含有ポリマーの界面に架橋結合層１９を形成する。 - 特許庁

SILICON-CONTAINING POLYMERIZABLE COMPOUND, ITS PREPARATION PROCESS, POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

ケイ素含有重合性化合物、その製造方法、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTO-ACID GENERATING AGENT, PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

光酸発生剤及びそれを含有するフォトレジスト組成物、並びに該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

That is, the address-information region 52 is a servo pattern B containing a cylinder code and is a magnetizing pattern (magnetization-direction pattern) that is composed of N-pole projecting magnetic parts 510 and S-pole projecting magnetic parts 520.例文帳に追加

即ち、アドレス情報領域５２は、シリンダコードを含むサーボパターンＢを、Ｎ極の凸状の磁性部５１０とＳ極の凸状の磁性部５２０の磁化パターン（磁化方向パターン）から構成されている。 - 特許庁

The irregular pattern 2 is formed by printing a pattern on a base material 1, using ink containing a resin, and by repeating the printing further on the pattern to layer a plurality of layers comprising the resin.例文帳に追加

基材１上に、樹脂を含むインクを用いてパターンを印刷し、当該パターン上にさらに印刷を繰り返して、樹脂からなる層を複数積層することにより、凹凸パターン２を形成する。 - 特許庁

When the mask comprising a resist layer is formed on the film to be patterned, a layered resist pattern containing a lower layer resist pattern 111 and an upper layer resist pattern 112 is formed on the film 102 to be patterned.例文帳に追加

被パターニング膜上にレジスト層でなるマスクを形成するにあたり、被パターニング膜１０２上に、下層レジストパターン１１１と、上層レジストパターン１１２とを含む積層レジストパターンを形成する。 - 特許庁

After the groove pattern 3 is formed through development, the groove pattern 3 is re-exposed, to form a silanol-group containing layer 4 as a surface layer on the groove pattern 3, thereby controlling the amount and distribution of the silanol group.例文帳に追加

現像により溝パターン３を形成した後に、溝パターン３を再び露光して、溝パターン３の表層にシラノール基含有層４を形成することにより、シラノール基の量、分布が制御される。 - 特許庁

The distinguishing mark is a coded pattern containing a substance scattering or absorbing ultraviolet rays and drawn with a material containing no fluorescent substance.例文帳に追加

識別マークは紫外光を散乱又は吸収する物質を含有し且つ蛍光物質を含有しない材料で描かれたコード化されたパターンである。 - 特許庁

COATING COMPOSITION OF FLUORINE-CONTAINING POLYMER, METHOD FOR FORMING FLUORINE-CONTAINING POLYMER FILM BY USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST OR LITHOGRAPHIC PATTERN例文帳に追加

含フッ素高分子コーティング用組成物、該コーティング用組成物を用いた含フッ素高分子膜の形成方法、ならびにフォトレジストまたはリソグラフィーパターンの形成方法。 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION CONSISTING OF EPOXY RING-CONTAINING BASE POLYMER AND SILICON-CONTAINING CROSSLINKING AGENT AND PATTERN FORMING METHOD OF SEMICONDUCTOR ELEMENT UTILIZING THE SAME例文帳に追加

エポキシリングを含むベースポリマーとシリコン含有架橋剤とよりなるネガティブ型レジスト組成物及びこれを利用した半導体素子のパターン形成方法 - 特許庁

A method for manufacturing a substrate with a Cu pattern is provided, in which the substrate with the Cu pattern is formed by treating a resin substrate with a strong alkaline aqueous solution, applying or printing a conductor ink containing copper element-containing particles to the treated resin substrate, and heating the patterned resin substrate to a temperature of 120°C or more in a gas atmosphere containing formic acid.例文帳に追加

樹脂基板を強アルカリ水溶液で処理した後、銅元素含有粒子を含む導体インクを塗布あるいは印刷により成形した後、ギ酸を含むガス雰囲気中で１２０℃以上に加熱するＣｕパターン付基板の製造方法。 - 特許庁

To provide a composition for forming a silicon-containing film which has high anti-reflection effect, can form a silicon-containing film excellent in oxygen-proof ashing, and can stably form a resist pattern without a trailing pattern at the bottom.例文帳に追加

反射防止効果が高く、耐酸素アッシング性に優れるシリコン含有膜を形成することができ、且つボトムに裾引きがないレジストパターンを安定して形成できるシリコン含有膜形成用組成物等を提供する。 - 特許庁

A circuit pattern is formed in metal colloid with a particle size of 1 to 100 nm containing palladium colloid and ink containing binder resin with a thickness of 5 nm to 5 μm, and a metalclad layer is formed thereon to obtain a conductive pattern.例文帳に追加

前記絶縁性基板上に、パラジウムコロイドを含む粒径 1nm〜100nm の金属コロイド粒子とバインダ樹脂を含むインキで厚さが5nm〜5μmの回路パターンを形成し、その上に金属めっき層を形成して導電回路パターンとする。 - 特許庁

Plasma processing is performed on the backup metal oxide film pattern using a gas containing halogen element of 0.1 to 10% and a source gas containing an inert gas to form the metal oxide film pattern where a lower section linewidth is decreased.例文帳に追加

前記予備金属酸化膜パターンを０．１％乃至１０％ハロゲン元素を含むガス及び不活性ガスを含むソースガスを利用してプラズマ処理して下部線幅が減少された金属酸化膜パターンを形成する。 - 特許庁

POLYIMIDE PRECURSOR COPOLYMER, VARNISH CONTAINING THE SAME, POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, POLYIMIDE COPOLYMER, SEMICONDUCTOR ELEMENT PROTECTIVE FILM CONTAINING THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING FINE PATTERN OF POLYIMIDE COPOLYMER CONTAINING FILM例文帳に追加

ポリイミド前駆体共重合体、それを含むワニスおよびポジ型感光性樹脂組成物、ポリイミド共重合体、それを含む半導体素子の保護膜、ポリイミド共重合体含有膜の微細パターンの製造方法 - 特許庁

To automatically add a background pattern, barcode or the like when printing electronic data containing confidential contents.例文帳に追加

機密となる対象の電子データを印刷するときに自動的に地紋やバーコード等を付せるようにすること。 - 特許庁

The present invention provides the optical film pattern-printed with a white pigment composition containing titanium oxide on a surface of a base material.例文帳に追加

基材の表面に酸化チタンを含む白色顔料組成物をパターン印刷してなる光学フィルムである。 - 特許庁

MAGNETIC FILLER-CONTAINING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THOSE例文帳に追加

磁性フィラーを含有する感光性樹脂組成物及び感光性フィルム並びにそれらを用いたパターン形成方法 - 特許庁

This treatment is carried out, for example, by heat treating the pattern at 450°C to 900°C in an atmosphere containing oxygen.例文帳に追加

この処理は、たとえば酸素を含む雰囲気中での４５０℃〜９００℃の加熱処理をすることにより行う。 - 特許庁

To provide a printed circuit board containing a via pad with an irregular pattern, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

本発明は凹凸パターン付きビアパッドを含む印刷回路基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The inspection object region is divided into separate regions containing each inspection object pattern, and the first configuration inspection is conducted.例文帳に追加

被検査領域中を各々の被検査パターンを含む個別領域に分割し、第１の形状検査を行う。 - 特許庁

The resist pattern coating agent contains a resin having a hydroxyl group, a crosslinking agent, a solvent, and a nitrogen-containing compound.例文帳に追加

水酸基を有する樹脂と、架橋剤と、溶媒と、含窒素化合物と、を含有するレジストパターンコーティング剤である。 - 特許庁

An insulating film is formed on a substrate, and a resistance film containing the TaN film is formed in a pattern on the insulating film.例文帳に追加

基板上に絶縁膜を形成し、前記絶縁膜上に、ＴａＮ膜を含む抵抗膜をパターン形成する。 - 特許庁

Consequently, a straight pattern part containing the lead bar 8c and the chip mounting part 6b can have high accuracy of flatness.例文帳に追加

これにより、リードバー部８ｃとチップ搭載部６ｂとを含む直線パターン部分の平坦精度を高くできる。 - 特許庁

A first polysilicon layer 39 containing phosphor is formed on the substrate 33 is the state of the island pattern 38 being covered.例文帳に追加

島パターン３８を覆う状態で、リンを含有する第１ポリシリコン層３９を基板３３上に形成する。 - 特許庁

The calculated correlation level becomes maximal or minimal, at any position in the zone containing the pattern.例文帳に追加

算出した相関レベルは、前述のパターンを含む区間のいずれかの位置で、最大値、または、最小値となる。 - 特許庁

A thermal adhesive layer 31 containing thermosetting resin of a B stage is formed on the functional pattern layer 20.例文帳に追加

機能パターン層２０の上には、Ｂステージの熱硬化性樹脂を含む熱接着層３１が形成されている。 - 特許庁

A chemical mechanical polishing composition is useful for chemically mechanically polishing a semiconductor wafer with a pattern containing a nonferrous metal.例文帳に追加

非鉄金属を含有するパターン付き半導体ウェーハのケミカルメカニカルポリッシングに有用なケミカルメカニカル研磨組成物。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, AND FLUORINE-CONTAINING POLYMER COMPOUND例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに含フッ素高分子化合物 - 特許庁

A base station 80 transmits a control signal, containing a plurality of location areas ID in correspondence into each section pattern.例文帳に追加

基地局８０は、各区分パターンに応じた複数のロケーションエリアＩＤを含んだ制御信号を送信する。 - 特許庁

This also can avoid the concentrated (frequent) appearance of the variation pattern containing the ready-to-win mode.例文帳に追加

また、リーチ態様を含む変動パターンが集中して（すなわち頻繁に）現れる状況になることを回避する。 - 特許庁

An input file containing digital data representing a digital data-pattern waveform is received and up-sampled at a rate Fs/Fd.例文帳に追加

デジタル・データ・パターン波形を表すデジタル・データを含む入力ファイルを受けて、Ｆｓ／Ｆｄのレートでアップ・サンプルする。 - 特許庁

LACTONE COMPOUND, LACTONE-CONTAINING MONOMER, POLYMER, RESIST MATERIAL USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

ラクトン化合物、ラクトン含有単量体、高分子化合物、それを用いたレジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

A control means 11 of an image generating device 10 stores a dither pattern table containing a plurality of dither patterns.例文帳に追加

画像生成装置１０の制御手段１１は、複数のディザパターンを含むディザパターンテーブルを記憶している。 - 特許庁

To provide a thermosetting silicon-containing film-forming composition enabling good pattern formation of a photoresist film.例文帳に追加

フォトレジスト膜の良好なパターン形成が可能である熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for decomposing a target pattern containing features to be printed on a wafer into multiple patterns.例文帳に追加

ウェーハ上に印刷されるフィーチャを含むターゲットパターンを複数パターンに分解するための方法を提供する。 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING PHENYLMALEIMIDE DERIVATIVE, POLYMER, CHEMICAL AMPLIFYING RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD USING IT例文帳に追加

フッ素含有フェニルマレイミド誘導体、重合体、化学増幅レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁