「pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(124ページ目)

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > patternの意味・解説 > patternに関連した英語例文

セーフサーチ：オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

意味

例文

類語

共起表現

patternを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 50000件

＜前へ 1 2 .... 120 121 122 123 124 125 126 127 128 .... 999 1000 次へ＞

例文

To provide a method of manufacturing a conductive pattern-covered body for eliminating definite visibility between a conductive pattern part and a non-conductive pattern part by reducing a difference in color phase, light transmittance and haze value between the conductive pattern part and the non-conductive pattern part; and to provide the conductive pattern-covered body.例文帳に追加

導電性パターン部と非導電性パターン部との色相、光線透過率、ヘイズ値の差異を少なくし、導電性パターン部と非導電性パターン部とが明確に視認されることのない導電性パターン被覆体の製造方法および導電性パターン被覆体を提供するものである。 - 特許庁

A three-dimensional image processing part displays a series of pattern images in order according to an operation pattern drawn in lots at random by a counter of a CPU among four operation patterns of a running pattern 71, an eating pattern 72, a looking-out pattern 73, and a looking-back pattern 74 stored in a work RAM 23.例文帳に追加

３次元画像処理部は、ワークＲＡＭ２３に記憶されている、走るパターン７１、食べるパターン７２、見渡すパターン７３、および振り向くパターン７４の４つの動作パターンのうち、ＣＰＵのカウンタによってランダムに抽選された動作パターンに応じて一連の絵柄画像を順に表示させる。 - 特許庁

During that a pattern to a predetermined frame number making the hit pattern 27 as a standard corresponds to the hit line 28, when the player operates a usual pattern stop device, a control device 25 stop-controls a pattern, being finally stopped, of the pattern indication mechanism 29 to the hit pattern 21.例文帳に追加

次に、当り図柄２７を基準とする所定コマ数までの図柄が当りライン２８と対応する間に、遊技者が普通の図柄停止スイッチ装置を操作すると、制御装置２５が図柄表示機構２９の最後に停止する図柄を当り図柄２７に停止制御する。 - 特許庁

A substrate 50 forming a first contact pattern and a second contact pattern by turns by way of a specific slit 56 and a conductor 40 connecting the specific first contact pattern and the second contact pattern by way of the slit 56 by rolling on the first contact pattern and the second contact pattern are provided.例文帳に追加

第一接点パターンと第二接点パターンとを所定の隙間（スリット）５６を介して交互に形成してなる基板５０と、第一接点パターンと第二接点パターン上を転がって隙間５６を介して所定の第一接点パターンと第二接点パターン間を導通する導通体４０とを具備する。 - 特許庁

例文

The pattern shape of a wafer without any ground pattern is taken into the database of a pattern defect-inspecting machine as image data (S14) and is compared with the pattern shape of a wafer with the ground pattern, thus specifying a part where the failure in a pattern shape occurs and the exposure energy at that time (S15).例文帳に追加

下地パタンのないウェハのパタン形状を画像データとしてパタン欠陥検査機のデータベースに取り込み（Ｓ１４）、これと下地パタンを有するウェハのパタン形状を比較することによって、パタン形状の不良が発生する箇所およびそのときの露光量を特定する（Ｓ１５）。 - 特許庁

例文

In a pattern correction method of an embodiment, the distribution of pattern coverage on a design layout in the periphery of a position, where an on-substrate pattern becomes an error pattern when the on-substrate pattern corresponding to the design layout of a circuit pattern is formed on a substrate, is calculated.例文帳に追加

実施形態のパターン修正方法では、回路パターンの設計レイアウトに対応する基板上パターンを基板上に形成した場合に前記基板上パターンがエラーパターンとなる位置の周辺における前記設計レイアウト上でのパターン被覆率の分布を算出する。 - 特許庁

In this exposure device for transferring the pattern to the material to be exposed through exposure in the pattern shape by using the pattern imparting member for giving the pattern which is to be transferred, the edge roughness of the pattern formed by the exposure is evaluated and the pattern imparting member replacement is performed based on the evaluation.例文帳に追加

転写すべきパターンを与えるパターン付与部材を用いてパターン状に露光することにより被露光材にパターン転写を行う露光装置において、露光により形成されるパターンのエッジラフフネスの評価を行い、該評価に基づいて、上記パターン付与部材の交換を行う。 - 特許庁

The evaluation pattern formed on the main surface of a semiconductor wafer to evaluate an exposure condition comprises a first evaluation pattern consisting of a remainder pattern, and a second evaluation pattern consisting of a remainder pattern formed in a location lower than the first evaluation pattern in the optical axis direction in an exposure device.例文帳に追加

露光条件を評価するため半導体ウエハの主面に形成する評価パターンは、残しパターンからなる第１評価パターンと、露光装置の光軸方向において第１評価パターンよりも低い位置に形成される残しパターンからなる第２評価パターンとで構成されている。 - 特許庁

A circuit pattern is used by an electron beam projection exposure method by using the stencil reticle provided with an opening pattern 21 surrounding an island-like central pattern 23 and a support pattern 22 having a pattern width of a resolution limit or less of an electron beam exposure system and supporting the opening pattern 21.例文帳に追加

島状の中心パターン２３を囲む開口パターン部２１と、電子線描画装置の解像限界以下のパターン幅を有し、開口パターン部２１を支持する支持パターン部２２と、を備えたステンシルマスクを用いて、電子線投影露光法により回路パターンを形成する。 - 特許庁

例文

Pattern edit and pattern generation are started according to the BIST control circuit 310 and an edit instruction processing circuit 130 reads the pattern edit instruction stored in the pattern edit instruction storage circuit 120 and edits the pattern generation instruction stored in the pattern generation instruction storage circuit 110.例文帳に追加

ＢＩＳＴ制御回路３１０に従ってパターン編集・パターン発生が開始され、編集命令処理回路１３０は、パターン編集命令記憶回路１２０に記憶されたパターン編集命令を読出し、パターン発生命令記憶回路１１０に記憶されたパターン発生命令の編集を行なう。 - 特許庁

例文

Lines having a firs pattern 49 in a row direction are searched from data expanded to the line memory groups; and when the first pattern 49 is found, it is determined whether a second combination pattern 55 resulting from combining the first pattern 49 and a second pattern 53 can be assumed to be a part of the position detection pattern or not.例文帳に追加

ラインメモリ群に展開されたデータから、行方向で第１のパターン４９を有する行を検索し、第１のパターン４９が見つけられた場合、第１のパターン４９と第２のパターン５３を結合した第２の結合パターン５５が切り出しシンボルの一部であると推定できるか判断する。 - 特許庁

The RFID antenna includes: a dipole antenna pattern; and a matching pattern containing a pair of first pattern parts each part being discretely and protrusively disposed at one side of the dipole antenna pattern and a second pattern part connecting tip ends of the pair of first pattern parts, wherein a ratio of the inner length of the second pattern part to the inner length of the pair of first pattern parts is larger than 8:1.例文帳に追加

本発明は、ダイポールアンテナパターンと、該ダイポールアンテナパターンの一側から突出し、互いに離隔して形成された一対の第１パターン部及び該一対の第１パターン部の先端を互いに連結する第２パターン部を含む整合パターンと、を含み、前記第２パターン部の内側長さ対前記第１パターン部の内側長さの比率が８：１よりも大きい、ＲＦＩＤアンテナを提供する。 - 特許庁

A method includes the steps of: supplying a substrate; forming a base electrode pattern on the substrate; forming a phase change layer pattern in the base electrode pattern; forming a dielectric layer pattern in the phase change layer pattern; forming a spacer structure between openings in the dielectric layer pattern; and depositing an upper electrode pattern on the dielectric layer pattern.例文帳に追加

基板を提供する工程と、上記基板に基底電極パターンを形成する工程と、上記基底の電極パターンに位相変化層パターンを形成する工程と、上記位相変化層パターンに誘電層パターンを形成する工程と、上記誘電層パターンの開口の間にスペーサ構造を形成する工程と、上記誘電層パターンに上部電極パターンを沈殿する工程を備える - 特許庁

A special pattern display device 30 and a decoration pattern display device 34 are fixed to a display base frame 35, and when a pachinko ball effectively enters a start port 22, a special pattern and a decoration pattern are variably displayed simultaneously at the special pattern display device 30 and the decoration pattern display device 34, and the variation of the special pattern and the decoration pattern is simultaneously stopped.例文帳に追加