| 例文 (63件) |
rapid heating methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 63件
To realize a good capacitor characteristic of a semiconductor device, by making suppressible the generation of a roughness on the surface of the insulation film of its capacitor even when making thin the insulation film its capacitor, and by making possible enough the crystallization of the insulation film of its capacitor by using a rapid heating method.例文帳に追加
容量絶縁膜を薄膜化した場合にも容量絶縁膜表面におけるラフネスの発生を抑制できるようにすると共に、急速加熱法により容量絶縁膜を十分に結晶化できるようにして良好な容量特性を実現する。 - 特許庁
The cutting speed is controlled by the speed of the first laser beam for scribing, thus the cutting speed control is easier than that by a conventional cutting method which makes use of a temperature difference caused by a rapid heating and cooling, and the cutting speed is increased.例文帳に追加
スクライビング用第１レーザビームの速度により切断速度を制御することができるので、従来の急速加熱と急速冷却による温度差を利用した切断方式に比べて切断速度の制御が容易であり、切断速度を高めることができる。 - 特許庁
To provide a ceramic for absorbing microwaves excellent in self-heating property by absorbing microwaves and its manufacturing method, and a ceramic useful as a rapid-heating cooking container, a building material for absorbing microwaves, and a carrier of a filter for rapidly cracking soot or the like under microwave radiation as well.例文帳に追加
本発明は、マイクロ波を吸収し自己発熱性に優れるマイクロ波吸収用陶磁器およびその製造方法の提供を課題とし、迅速加熱調理容器や、マイクロ波吸収用建材、さらに、マイクロ波吸照射下でスス等を迅速加熱分解するフィルタ用坦体として有用な陶磁器の提供を課題とする。 - 特許庁
In the manufacturing method of the epitaxial wafer, a silicon single crystal rod is grown by doping only carbon except a resistance-controlling dopant by a Czochralski method, after the silicon single crystal rod is sliced and processed into a silicon single crystal wafer, the silicon single crystal wafer is heat treated by using a rapid heating/rapid cooling (RTA) device, and then the epitaxial layer is formed on the single crystal wafer surface.例文帳に追加
エピタキシャルウェーハの製造方法において、チョクラルスキー法によって、抵抗制御用ドーパントを除いては炭素のみをドープしてシリコン単結晶棒を育成し、該シリコン単結晶棒をスライスしてシリコン単結晶ウェーハに加工した後、急速加熱・急速冷却（ＲＴＡ）装置を用いて熱処理を行い、その後、該単結晶ウェーハ表面にエピタキシャル層を形成することを特徴とするエピタキシャルウェーハの製造方法。 - 特許庁
To provide a seal agent for liquid crystal dropping method capable of preferably preventing liquid crystal contamination caused by the elution of a seal agent component into a liquid crystal and achieving a liquid crystal display element having optical display quality and high reliability, a vertical conduction material, and the liquid crystal display element, in manufacture of the liquid crystal display element by the dropping method in which rapid curing is allowed by heating.例文帳に追加
加熱することで迅速に硬化させることができ、滴下工法による液晶表示素子の製造において、シール剤成分が液晶中に溶出して液晶汚染を引き起こすことを好適に防止することができ、光表示品位及び高信頼性を有する液晶表示素子を実現できる液晶滴下工法用シール剤、上下導通材料、及び、液晶表示素子を提供する。 - 特許庁
The method for measuring an ohmic electrical resistance of a conductive substance during a rapid rise in temperature due to self-heating energization according to the principle of a four-terminal method includes deriving electrical resistance of a sample from the inclination of a voltage-current plot primary approximation straight line obtained by a plurality of measurements conducted while changing the temperature rising speed of the same sample.例文帳に追加
通電自己加熱により急速昇温中のオーミックな導電性物質の電気抵抗を４端子法の原理により測定する方法であって、同一試料の昇温速度を変化させて行った複数回の測定から得られる電圧—電流プロット一次近似直線の傾きから試料の電気抵抗を導出することを特徴とする電気抵抗の測定方法。 - 特許庁
To provide a continuous sterilization apparatus for liquid which continuously and efficiently sterilizes the liquid such as a liquid egg, milk, enables rapid heating and sterilization, can prevent the propagation of heat-resistant bacteria at the time of cool-down and capable of being simply washed and disinfected, a continuous sterilizing method using the same, and a heat-resistant flow channel sheet suitably used in this sterilization apparatus.例文帳に追加
液卵や牛乳等の液体を連続的に効率よく殺菌することができる上、急速に加熱及び殺菌が可能で、クールダウン時の耐熱菌の増殖を防ぐことができ、さらに装置の洗浄消毒を簡単に行うことができるようにした液体用連続殺菌装置及び方法並びにこの殺菌装置に好適に用いられる耐熱流路シートを提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method taking an improvement in yield into consideration by directing a cooling nozzle toward a non-wiring region side, then discharging cold air, thereby preventing heat and cold in photoelectric conversion elements in performing heating by irradiation with a laser and cutting a substrate to photoelectric conversion element regions and non-wiring regions by the thermal stress generated by rapid cooling.例文帳に追加
本発明の目的は、レーザ照射による加熱を行い、急冷却によって熱応力で光電変換素子領域と非配線領域を切断させる際に、冷却ノズルを非配線領域側に向けて吐出し、光電変換素子に熱冷を防ぐことにより歩留り向上を考えた製造方法である。 - 特許庁
In the manufacturing method, the principal-side solder 153 on the connection pads 149 is melted by heating, the connection pads 149 and the IC chip 191 are wetted with the principal-side solder 153, then, the principal-side solder 153 is cured by rapid cooling, thereby joining the IC chip 191 to the connection pads 149.例文帳に追加
そして、その製造方法は、接続パッド１４９上の主面側ハンダ１５３を加熱して溶解し、接続パッド１４９とＩＣチップ１９１のＩＣ端子１９３が主面側ハンダ１５３で濡れた状態とした後に、主面側ハンダ１５３を急冷して固化し、接続パッド１４９にＩＣチップ１９１を接合する工程を備える。 - 特許庁
To provide a method of controlling a rapid heating system for an engine efficiently performing warming up by using warm water in a heat accumulator and by recovering heat of exhaust gas when starting the engine, and simultaneously performing cooling and storing of hot water by circulating cooling water to both the heat accumulator and a radiator after warming up the engine.例文帳に追加
エンジン始動時には蓄熱器の温水を利用すると共に、排気ガスの熱を回収して効率的に暖気を行い、さらに、エンジン暖気後には蓄熱器及びラジエータの双方に冷却水を循環させて、冷却と熱水の貯留を並行して行うエンジン即暖システムの制御方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing coke for a blast furnace that is capable of determining a formulation of raw material coal used in manufacturing the coke by previously estimating the enhanced effect of the coke strength at the rapid heating of coal in accordance with the ingredients in a rapidly heated gas of the coal and the proportion of the predetermined gas ingredients accounting for the heated gas ingredients.例文帳に追加
石炭の急速加熱ガス中の成分および該加熱ガス成分中に占める所定のガス成分の割合によって、石炭の急速加熱時のコークス強度向上効果を予め推算し、コークス製造用原料炭の配合を決めることができる高炉用コークスの製造方法を提供する。 - 特許庁
In a method for heat-treating a silicon wafer in a reductive atmosphere containing hydrogen by using rapid heating/quenching device, a natural oxide film on the surface of the silicon wafer is removed and is heat- treated in an inert gas atmosphere, the hydrogen concentration of which is 100% or which contains not less than 10% hydrogen.例文帳に追加
急速加熱・急速冷却装置を用いてシリコンウエーハを水素を含む還元性雰囲気下で熱処理する方法において、該シリコンウエーハ表面上の自然酸化膜を除去した後、急速加熱・急速冷却装置を用いて、水素濃度１００％あるいは水素を１０％以上含有する不活性ガス雰囲気下で熱処理することを特徴とするシリコンウエーハの熱処理方法。 - 特許庁
To provide gas supply equipment for a turbine and a method thereof which is less likely to cause rapid changes of an output even if a part of fuel by stopping gas supply is stopped and rapidly change heating value is changed rapidly, in the gas turbine mixing combustion of the fuel gas to have an output control means by adjusting the supply amount.例文帳に追加
燃料ガスを混焼し、供給量の調節による出力制御手段を有するガスタービンにおいて、燃料ガスの一部が供給停止となり発熱量が急速に変化しても、急激な出力の変化を起こし難いタービンのガス供給設備およびその方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
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