「roughness element」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The imaging element contains a nacreous pigment and has a top surface roughness of 0.2-2.0 μm.例文帳に追加

真珠光顔料を含み、かつ０.２〜２.０μｍの上部表面粗さを有する画像形成要素。 - 特許庁

The deterioration of the surface roughness of the element reflector is prevented by processing the element reflector after a protection film is given to the reflective face of the element reflector.例文帳に追加

要素反射鏡の反射面に保護膜を付与した後要素反射鏡を加工することにより、要素反射鏡の反射面の表面粗さの劣化を防止する。 - 特許庁

The surface roughness of the rolling element 5 is 0.003-0.01 μmRa.例文帳に追加

また、転動体５の表面の面粗さは、０．００３μｍＲａ以上且つ０．０１μｍＲａ以下である。 - 特許庁

Surface roughness Ra of the varistor element is desirable to be 0.06 μm to 0.11 μm.例文帳に追加

さらに、バリスタ素体の表面粗さＲａが０．０６μｍ以上０．１１μｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

To reduce roughness of the surface of a core to which a rare-earth element is added in manufacture of an optical waveguide.例文帳に追加

光導波路の製造において希土類元素が添加されたコアの表面の荒れを低減する。 - 特許庁

Surface roughness Ra of both the raceways 1a, 2a is not more than 0.2μm, and the surface roughness Ra of rolling surface 3a of the rolling element 3 is set not more than 0.1μm.例文帳に追加

さらに、両軌道面１ａ，２ａの表面粗さＲａは０．２μｍ以下、転動体３の転動面３ａの表面粗さＲａは０．１μｍ以下とされている。 - 特許庁

In a dielectric element 1a, a side face 2E is roughened so that the surface roughness Ra is 15 nm or greater.例文帳に追加

誘電体素子１ａにおいて、側面２Ｅの表面粗さＲａが１５ｎｍ以上と粗面化されている。 - 特許庁

The arithmetic average roughness Ra of the inside face of the recess part storing the semiconductor element 2 is 0.05-0.4 μm.例文帳に追加

半導体素子２を収容する凹部の内側面４の算術平均粗さRａが０.０５〜０．４μｍである。 - 特許庁

To provide a metallic mold for molding an optical element free from surface roughness and fusion even if a highly accurate and high-melting optical element is repeatedly press molded.例文帳に追加

高精度かつ高融点の光学ガラス素子を繰り返しプレス成形しても、面荒れや融着のない光学ガラス素子成形用金型を提供する。 - 特許庁

To provide a tunneling magnetoresistive element which has small sheet resistance and lower roughness (interfacial roughness) on an interface of a ferromagnetic layer and then has magnetoresistive characteristics improved, a magnetic device using the element, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

シート抵抗が小さく、強磁性層との界面におけるラフネス（界面ラフネス）が低下し、したがって、磁気抵抗特性の向上を可能とするトンネル型磁気抵抗素子とそれを用いた磁気式デバイス及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The inside surface 3a of the barrel die 3 is roughened to be a surface roughness Ra(1) to a circumferential direction of 0.08 μm and a surface roughness Ra(2) to an optical axis direction of 0.5 μm and its equivalent surface roughness is transferred to the optical element being a formed article.例文帳に追加

胴型３の内側表面３ａは、円周方向の表面粗さＲａ（１）＝０．０８μｍ、光軸方向の表面粗さＲａ（２）＝０．５μｍ、に粗面化されており、同等の表面粗さを成形品である光学素子に転写する。 - 特許庁

Disclosed is the optical element containing a rough surface having a roughness average equal to at least 5 micrometers wherein the rough surface contains at least two roughness populations in which the roughness average of the at least two populations varies by at least 8 micrometers.例文帳に追加

少なくとも５マイクロメートルに等しい粗さ平均を有する粗い表面を含み、前記粗い表面が少なくとも２つの粗さ母集団を含み、前記少なくとも２つの母集団の粗さ平均が少なくとも８マイクロメートル異なる光学要素を開示する。 - 特許庁

To provide a method for forming an optical element with desired thickness without generating roughness of the formed surface or a haze of the optical element.例文帳に追加

本発明は、成形面に起きる面荒れや光学素子のくもりを発生させることなく所望の厚さの光学素子を成形し得る光学素子の成形方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL element with surface roughness of a transparent substrate in good order and capable of preventing degradation of element performance due to contamination of abrasives.例文帳に追加

透明基板の表面粗さを良好にすると共に、研磨剤の汚染による素子性能の低下を防ぐことができる有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

Thus, the surface roughness of the cylindrical antenna element can be improved more than that of a conventional cylindrical antenna element to enhance the feeling in the case of sliding and to reduce the manufacture cost.例文帳に追加

これによって、従来よりも円筒状アンテナエレメントの面粗度が改善され、摺動感触が向上するとともに、製造コストの低減が可能となる。 - 特許庁

The optical element fixing surface 9 has a surface roughness whose maximum height Rt is 1 μm as defined in JIS B0601-1982.例文帳に追加

光学素子固定面９はＪＩＳ Ｂ０６０１−１９８２に規定する最大高さＲ_ｔが１μｍの表面粗さとする。 - 特許庁

To provide a photosensitive element excellent in roughness of lateral faces of a resist pattern, flatness of the top surface of the pattern, resolution, adhesion and alkali developability.例文帳に追加

レジストパターンの側面ギザ性、パターン上面の平担性、解像度、密着性アルカリ現像性に優れた感光性エレメント。 - 特許庁

Ten-points average roughness Rz of the lower surface (outer surface of the displacement transmission layer 6) 2a of the piezoelectric element 2 is 5 μm or less.例文帳に追加

圧電素子２の下面（変位伝達層６の外側の面）２ａの十点平均粗さＲｚは、５μｍ以下となっている。 - 特許庁

To provide an optical element holding device capable of absorbing deformation of a lens under its own weight, and a variation when the optical element is held due to a small amount of inclination or roughness of a flange part, preventing distortion or torsion of the optical element, and holding the optical element in the element holding body highly precisely.例文帳に追加

レンズの自重による変形や、フランジ部の少々の傾斜や粗さなどによる支持のときの変動などを吸収し、且つ、光学素子の歪みやねじれを防ぎ、高精度に光学素子を素子保持体に保持することができる光学素子の保持装置を提供すること。 - 特許庁

Particularly, an optical element substrate of 0.2 nm RMS or less in surface roughness is can be obtained so that a high precision optical system can be obtained.例文帳に追加

特に、表面粗さ０．２ｎｍＲＭＳ以下の光学素子基材が可能となり、高精度な光学系を実現することができる。 - 特許庁

and the end face 51a of the base plate 51 of a high-molecular optical waveguide element 50 is a rough surface whose roughness Ra is 0.2μm±0.1μm.例文帳に追加

高分子光導波路素子５０の基板５１の端面５１ａは、平均粗さＲａが０．２μｍ±０．１μｍの粗面である。 - 特許庁

The square surface average roughness of a first conductive semiconductor substrate serving as a growth substrate for the semiconductor light-emitting element is determined to be 0.8 nanometer or less.例文帳に追加

半導体発光素子の成長基板である第１導電型半導体基板の二乗平均粗さを０．８ナノメートル以下とする。 - 特許庁

The nitriding layer is homogenized by making sphericity and diametrical size variation of the rolling element not more than 0.05 μm and surface roughness not more than 0.003 μmRa.例文帳に追加

転動体の真球度及び径相互差は０．０５μｍ以下、表面粗さは０．００３μｍＲａ以下として、窒化層を均一化する。 - 特許庁

To provide a surface flattening method which enables further reduction of surface roughness of an optical element and is suitable for flattening a surface of the optical element independent of its surface profile.例文帳に追加

光学素子の表面粗さを更に低減可能となり、光学素子の表面形状に依存することなくその表面を平坦化させるのに好適な表面平坦化方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing an annular optical element which can improve surface roughness in a short time and a method for producing a mold for the annular optical element.例文帳に追加

時間を掛けることなく、面粗度を向上させることができる輪帯光学素子の製造方法および輪帯光学素子用金型の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a ring zone optical element with a surface roughness to be improved without spending time, and a method for manufacturing a mold for a ring zone optical element.例文帳に追加

時間を掛けることなく、面粗度を向上させることができる輪帯光学素子の製造方法および輪帯光学素子用金型の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a susceptor capable of reducing roughness on the rear of a substrate when depositing a group III-V compound semiconductor containing a group V element other than phosphor as a constitutive element on the surface of the substrate.例文帳に追加

燐以外のＶ族元素を構成元素として含むIII−Ｖ化合物半導体を基板の表面上に堆積するときに基板の裏面の荒れを低減可能なサセプタを提供する。 - 特許庁

The light deflection element and light diffusion element are constituted by arranging many fine rugged shapes having 10 to 1,500 μm surface roughness Ra and ≤400 μm Rz.例文帳に追加

光偏向要素および光拡散要素は、表面粗さがRa１０μｍ以上１５００以下、Rz４００μｍ以下の範囲に入る多数の微細な凹凸形状が配置されて構成されている。 - 特許庁

To provide an organic electroluminescent element having a large surface area and capable of uniformly emitting light by eliminating influence of roughness of the surface of a transparent electrode.例文帳に追加

透明電極の表面の凹凸による影響を解消し、大面積で均一発光が可能な有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method which can form a base mount efficiently on which an imaging element is mounted, with practically sufficient roughness.例文帳に追加

撮像素子が搭載される基台を、実用的に十分な平坦度をもって、効率的に作製することが可能な製造方法を提供する。 - 特許庁

The catalyst element is used in which a metal substrate 1 with a surface having a predetermined arithmetical mean roughness (Ra) supports catalyst powder 2 having an average particle diameter smaller than a value of the arithmetical mean roughness.例文帳に追加

所定の算術平均粗さ（Ｒａ）の表面を有する金属基材１に、前記算術平均粗さの値よりも小さい平均粒子径を有する触媒粉末２が担持されてなることを特徴とする触媒エレメントを用いる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method which makes it possible to obtain an optical element having an optical function surface of good surface quality by press forming the optical function surfaces to the surface roughness approximate to the surface roughness of finished goods, then subjecting the optical function surface to an improvement of the surface roughness without collapsing the shape formed by extrusion forming.例文帳に追加

本発明は、光学機能面をおよそ完成品に近い表面粗さに押圧成形した後に、押圧成形で成形した形状を崩さずに、表面粗さの改善を施し、良好な表面品質の光学機能面を有する光学素子を得ることができる製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A magnetic sensing sensor element and a fixed resistance element are formed with the same magnetoresistance effect film, and a magnetoresistance effect expression of the magnetoresistance effect film forming the fixed resistance element is inhibited by preparing a surface roughness of a foundation forming the fixed resistance element at 5.0 nm or more or heating the fixed resistance element to 350°C or more.例文帳に追加

感磁センサー素子と固定抵抗素子を同一の磁気抵抗効果膜で形成し、固定抵抗素子を形成する下地の面粗さを５．０ｎｍ以上とするか固定抵抗素子を３５０℃以上に加熱して、固定抵抗素子を形成する磁気抵抗効果膜の磁気抵抗効果発現を抑える。 - 特許庁

A magneto-sensitive sensor element and a fixed resistance element are formed with the same magnetic resistance effect film, the surface roughness of the substrate is made ≥5.0 nm, or the fixed resistance element is heated ≥350°C, thereby the expression of the magnetic resistance effect of the magnetic resistance film for forming the fixed resistance element is inhibited.例文帳に追加

感磁センサー素子と固定抵抗素子を同一の磁気抵抗効果膜で形成し、固定抵抗素子を形成する下地の面粗さを５．０ｎｍ以上とするか固定抵抗素子を３５０℃以上に加熱して、固定抵抗素子を形成する磁気抵抗効果膜の磁気抵抗効果発現を抑える。 - 特許庁

A non-magnetic metal element layer being an underlayer is provided between the substrate 2 and the amorphous magnetic layer 4, and average roughness Ra of this non-magnetic metal element layer surface is in a range of 0.7∼2.0 nm.例文帳に追加

また、基板２と非晶質磁性層４との間に下地層３である非磁性金属元素層を備え、この非磁性金属元素層表面の平均粗さＲａが、０．７〜２．０ｎｍの範囲となっている。 - 特許庁

To provide an optical element and a processing method for the same capable of manufacturing a curved surface mirror for optical element in a low surface roughness and high shape precision at a low cost, only according to the forming without employing any one of various types of polishing processes during a manufacturing process.例文帳に追加

製造工程中に各種研磨工程を一切用いず、型成形のみにより光学素子用曲面鏡を低面粗度および高形状精度且つ安価に製造できるようにする。 - 特許庁

More specifically, the AC element is extracted from the detection signal of the acceleration sensor 22, the AC element is rectified, and the road surface roughness is detected from the voltage signal according to the amplitude of the signal.例文帳に追加

具体的には、加速度センサ２２の検出信号から交流成分を抽出し、この交流成分を整流した後、その信号の振幅に応じた電圧信号から路面粗さを検出する。 - 特許庁

To obtain the surface roughness of 0.2 nm RMS of an optical element used for a substance having an extremely short wavelength which has been difficult to be formed.例文帳に追加

これまで形成することが困難であった波長の非常に短いものに使用する光学素子の表面粗さ０．２ｎｍＲＭＳを実現する。 - 特許庁

Further, the surface roughness of the surface of the tool tip is adjusted to efficiently propagate the ultrasonic energy and also prevent the element from shifting in position.例文帳に追加

また、ツール先端部の表面の面粗さを適度に調整することにより、超音波エネルギーの効率的な伝播と素子の位置ずれの防止を図る。 - 特許庁

The inkjet recording system has a center line average roughness Ra of a piezoelectric element of 0.05-2 μm and a viscosity of the ink of 2.0-10.0 mPa s.例文帳に追加

インクジェット記録システムは、圧電素子の中心線平均粗さＲａが０．０５〜２μｍ、インクの粘度が２．０〜１０．０ｍＰａ・ｓであり、且つ下記式（１）を満足する。 - 特許庁

To realize a method of forming a polycide gate electrode of a semiconductor element, which improves interface roughness between silicide and polycide by caused by the diffusion of a high-melting-point.例文帳に追加

高融点金属の拡散によるシリサイド/ポリシリコン界面の粗さを改善できる半導体素子のポリサイドゲート電極形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a metal mold for a ring band optical element, capable of improving surface roughness, without spending much time.例文帳に追加

時間を掛けることなく、面粗度を向上させることができる輪帯溝光学素子用金型の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

At least the third optical element 6 is made of a resin; at least one of the first, second and third optical elements is the diffractive optical element, and average roughness Ra of a center line of the surface of the diffractive optical element is 20 nm≤Ra≤200 nm.例文帳に追加

少なくとも第３の光学素子６は樹脂製であり、第１、第２、第３の光学素子のいずれかは回折光学素子であり、回折光学素子の表面の中心線平均粗さＲａが、２０ｎｍ≦Ｒａ≦２００ｎｍを満足する。 - 特許庁

This is rotated by an automatic rotary-barrel type beveling apparatus and this apparatus is operated until the surface roughness of the piezoelectric element plate becomes desired surface roughness, so that the problem is solved whether or not the piezoelectric element plate has been worked according to a dry beveling work process.例文帳に追加

これを自転バレル方式べべリング加工装置にて回転させ、圧電素板片の表面の粗さが希望の表面粗さになるまで装置を稼動させることにより、予め圧電素板片が乾式べべリング加工法によりべべリング加工されているかいないかに関わらず課題を解決するものである。 - 特許庁

This display apparatus comprises a thin film transistor formed on a substrate material; a picture element electrode connected electrically with the thin film transistor and having a first maximum roughness; a buffer layer formed on the picture element electrode and having a second maximum roughness less than the first maximum roughness; and an organic light emitting layer formed on the buffer layer.例文帳に追加

本発明による表示装置は、基板素材の上に形成されている薄膜トランジスタと；前記薄膜トランジスタと電気的に接続されており、第１最大粗度を有する画素電極と；前記画素電極の上に形成されており、前記第１最大粗度より小さい第２最大粗度を有するバッファー層と；前記バッファー層の上に形成されている有機発光層とを含むことを特徴とする。 - 特許庁