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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > substrate layerに関連した英語例文

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substrate layerの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 39497



例文

On the alumina substrate 1, a top-surface protection glass layer 4a and a reverse-surface protection glass layer 4b are provided covering the conductor layer 3.例文帳に追加

アルミナ基板1上には、導体層3を覆うように表面側の保護ガラス層4aと、裏面側の保護ガラス層4bとが設けられている。 - 特許庁

An intermediate layer 2 is formed on the orientated metal substrate 1, and the superconductive layer 3 can be formed on the intermediate layer 2.例文帳に追加

ここで、前記配向金属基板1上に中間層2を形成し、前記中間層2上に超電導層3を形成することができる。 - 特許庁

An insulation layer 12 is formed on the memory substrate 11 and the first dielectric layer 114 not covered with the first metal layer 115.例文帳に追加

絶縁層12は、メモリ基板11に形成され、且つ第1金属層115に覆われない第1誘電体層114に形成される。 - 特許庁

An anode layer 20, a light emitting layer 21, a cathode layer 22 and a silicon nitride film 23 are deposited in sequence on a glass substrate G, to manufacture an organic EL device A.例文帳に追加

ガラス基板G上にアノード層20、発光層21、カソード層22、シリコン窒化膜23を順次成膜して、有機ELデバイスAを製造する。 - 特許庁

例文

The organic EL element 13 is laminated from a first electrode layer 15, the organic EL layer 16 and a second electrode layer 17 in this order on the substrate 12.例文帳に追加

有機EL素子13は、第1電極層15、有機EL層16、第2電極層17の順に基板12上に積層されている。 - 特許庁


例文

The method includes a stage for forming a conductive layer on the inner surface of a substrate 12; and a stage for providing a sacrifice layer 36 while covering the conductive layer.例文帳に追加

本方法は、基板(12)の内面上に伝導層を形成する段階と、伝導層を覆って犠牲層(36)を設ける段階とを含む。 - 特許庁

The ink jet recording material is constituted by providing an ink absorbing layer based on a water absorbable resin and a heat-resistant layer being the outermost layer on a substrate.例文帳に追加

インクジェット用記録材は、基体上に吸水性樹脂を主成分とするインク吸着層および最外層として耐熱層を有する。 - 特許庁

An under layer 12 may be formed on the surface of the non-magnetic substrate 11 and the soft magnetic layer 13 may be formed on the surface of the under layer 12.例文帳に追加

ここで、非磁性基板11の表面に下地層12を形成し、この下地層12の表面に、軟磁性層13を形成してもよい。 - 特許庁

A projecting arrangement group, in which large number of projecting parts 3a are arranged, is formed on a glass substrate 2 and a liquid reflecting layer 4 covers thereon and an alignment layer 5 covers the light reflecting layer 4.例文帳に追加

ガラス基板2上に凸部3aを多数配列した凸状配列群を形成し、その上に光反射層4を被覆する。 - 特許庁

例文

The PDP comprises one or more pairs of display electrodes for generating discharge for display formed on at least a glass substrate, a dielectric layer for covering the display electrodes, and a protection layer for protecting the dielectric layer.例文帳に追加

アドレス期間を短縮するためには誘電体保護層がより高い電子放出性能を有していることが求められる。 - 特許庁

例文

Each light emitting portion 11 comprises a lamination of an positive electrode layer 13, an organic layer 14, and a negative electrode layer 15 laminated on a transparent substrate 12 in the above order.例文帳に追加

各発光部11は、透明基板12上に順に陽極層13、有機層14、及び陰極層15を積層して構成する。 - 特許庁

The photoreceptor 1 is constituted by laminating a transparent conductive layer, a charge generating layer and a charge transport layer on the substrate in this order.例文帳に追加

感光体1は透光性を有する基体上に透明導電層と電荷発生層と電荷輸送層とをこの順番に積層して成る。 - 特許庁

An optical guide layer 51, an active layer 52 and an optical guide layer 53 constituted of i-type InGaAsP are formed on an n-type InP substrate 50.例文帳に追加

n型InP基板50の上に、i型InGaAsPからなる光ガイド層51、活性層52及び光ガイド層53を形成する。 - 特許庁

A light emitting layer forming part 4 of an N-type layer 2 and a P-type layer 3 composed of GaP is subjected to liquid epitaxial growth on a GaP substrate 1.例文帳に追加

GaP基板1に、GaPからなるn形層2およびp形層3の発光層形成部4を液相エピタキシャル成長する。 - 特許庁

The patterning of a first pattern is carried out on a layer composed of a photosensitive member prepared on a processed substrate 1 sandwiching a processed layer 2 and a mask layer.例文帳に追加

被処理基板1上に被加工層2およびマスク層を挟んで設けられた感光性部材からなる層に第1のパターンをパターニングする。 - 特許庁

A self-divergence layer 14 which acts reverse from the action of the wave front curving layer 13 may be formed between the transparent substrate 11 and the optical recording layer 12.例文帳に追加

透明基板11と光記録層12との間に、波面湾曲層13と逆の作用をする自己発散層14を形成してもよい。 - 特許庁

The barrier layer 21 is provided so as to cover the gas generation layer 20, on a surface on the opposite side to the substrate 10 side of the gas generation layer 20.例文帳に追加

バリア層21は、ガス発生層20の基板10側とは反対側の表面に、ガス発生層20を覆うように設けられている。 - 特許庁

A layer formed using the coating fluid is used as an undercoat layer disposed between an electrically conductive substrate and a photosensitive layer.例文帳に追加

及び、導電性支持体と感光層との間に設ける下引き層として、該塗布液を用いて形成した層を用いた電子写真感光体。 - 特許庁

The bulkhead 7 is made of a lower layer part 7B provided on the rear side substrate and an upper layer part 7T provided on top of the lower layer part 7B.例文帳に追加

隔壁7は、背面側基板上に配設された下層部7Bとその下層部7Bの上に配設された上層部7Tとからなる。 - 特許庁

To provide a substrate treatment method which can improve a selection ratio in etching a silicon layer with respect to an oxide film layer as a mask layer.例文帳に追加

マスク層としての酸化膜層に対するシリコン層のエッチングにおける選択比を向上させることができる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

POLYMER OF SILANE COMPOUND, COMPOSITION FOR FORMATION OF ADHESION LAYER, METHOD FOR PRODUCING ADHESION LAYER, ADHESION LAYER AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE HAVING INSULATING FILM例文帳に追加

シラン化合物の重合体、密着層形成用組成物、密着層の製造方法、密着層および絶縁膜付基板の製造方法 - 特許庁

An insulator layer 2 made of alumina is formed on an AlTiC substrate 1, and a lower yoke part layer 3 is formed on this insulator layer 2.例文帳に追加

アルティックの基板1の上にアルミナよりなる絶縁層2が形成され、この絶縁層2の上に下部ヨーク部分層3が形成されている。 - 特許庁

This reflective electrochromic element is provided with a substrate 10, a reflective photochromic layer 20, a catalyst layer 30 and an oxygen movement preventing layer 50.例文帳に追加

基板10と、反射調光層20と、触媒層30と、酸素移動防止層50とを有する、反射調光エレクトロクロミック素子である。 - 特許庁

After a tunnel oxide layer is formed on a substrate, a peak floating gate layer composed of a conductive material is formed on part of the oxide layer.例文帳に追加

基板上にトンネル酸化物層を形成した後、トンネル酸化物層の一部上に導電材料からなるピークフローティングゲート層を形成する。 - 特許庁

The semiconductor device includes a circuit layer having an active element formed in a Si substrate and also includes a SiC layer provided in the lower side of the circuit layer.例文帳に追加

Si基板に形成された能動素子からなる回路層と、前記回路層の下側に設けられたSiC層と、を有する半導体装置など。 - 特許庁

A p-type body layer 12 is formed on a semiconductor substrate 11, and an n^--type offset layer 13 is formed to adjoin the p-type body layer 12.例文帳に追加

半導体基板11上に、p-型ボディ層12が形成され、p-型ボディ層12に隣接してn-型オフセット層13が形成されている。 - 特許庁

The semiconductor apparatus has a semiconductor substrate 1, an SiGe layer 7, a highly concentrated Ge layer 8, and a metal silicide layer 9.例文帳に追加

本発明に係る半導体装置は、半導体基板1、SiGe層7、高濃度Ge層8および金属シリサイド層9を備えている。 - 特許庁

A cell 100 comprises three wiring layers (gate electrode layer, source/drain electrode layer, terminal layer) on a semiconductor substrate with a transistor formed thereon.例文帳に追加

セル100は、トランジスタが形成された半導体基板上に、3層の配線層(ゲート電極層、ソースドレイン電極層、端子層)を備えている。 - 特許庁

An n- epitaxial layer 12A is formed on a n+ semiconductor substrate 1a and a (p) buried layer 13A is formed in the epitaxial layer 12A.例文帳に追加

n^+半導体基板11には、n^−エピタキシャル層12Aが形成され、エピタキシャル層12Aにはp埋め込み層13Aが形成されている。 - 特許庁

Then the modified layer 2 is made to swell by absorbing water, and the modified layer 2 having swelled and the metal layer 7 or polyimide substrate 1 are separated.例文帳に追加

その後、改質層2を吸水により膨潤させて、膨潤した改質層2と、金属層7またはポリイミド基板1とを剥離する。 - 特許庁

A display substrate 100 includes a thin film transistor layer 280, a color filter layer 120, pixel electrodes, a first cover layer 141, and an alignment film 150.例文帳に追加

表示基板100は、薄膜トランジスタ層280、カラーフィルタ層120、画素電極、第1カバー層141、及び配向膜150を含む。 - 特許庁

Before the joining layer is formed, the portion of the semiconductor substrate on which the joining layer is to be formed is irradiated with accelerated ions to form a fragile layer.例文帳に追加

また、接合層を形成する前において、凸部となる半導体基板に加速されたイオンを照射して、脆弱層を形成する。 - 特許庁

A semiconductor layer 20 including an active layer 22 is formed on a substrate 10, and a p-side electrode 31 is provided on the semiconductor layer 20.例文帳に追加

基板10上に、活性層22を含む半導体層20が形成され、半導体層20上にp側電極31が設けられている。 - 特許庁

The radiating substrate 20 for an electronic device includes a first metal layer 21, a second metal layer 22, and a heat-conductive polymer dielectric insulating layer 23.例文帳に追加

電子装置用放熱基板20は、第1金属層21、第2金属層22、および熱伝導性ポリマー誘電体絶縁層23を含む。 - 特許庁

After a volume-phase hologram layer 2 is formed on a substrate 1, a cholesteric liquid crystal layer 3 is formed on the volume-phase hologram layer 2.例文帳に追加

基材1上に、体積型ホログラム層2を形成した後、この体積型ホログラム層2上にさらにコレステリック液晶層3を形成する。 - 特許庁

After forming a cholesteric liquid crystal layer 2 on a substrate 1, a volume hologram layer 3 is further formed on the cholesteric liquid crystal layer 2.例文帳に追加

基材1上に、コレステリック液晶層2を形成した後、このコレステリック液晶層2上にさらに体積型ホログラム層3を形成する。 - 特許庁

A barrier-metal layer is electroplated on a seed layer 11, 12 formed on a silicon substrate 1, and a pad electrode is formed on the barrier-metal layer.例文帳に追加

シリコン基板1上に形成されたシード層11,12上にバリアメタル層を電解めっきし、バリアメタル層上にパッド電極を形成する。 - 特許庁

The substrate layer, separately from the functional layers that are attached to the plastic layer and the cover layer, is subsequently available for separate further processing.例文帳に追加

基板層は、プラスチック層とカバー層とに取り付けられる機能層から切り離されて、その後別の更なる処理のために使用可能である。 - 特許庁

An N-type GaN layer 12 is formed on a sapphire substrate 10, over which an N-type superlattice layer 14 and a P-type superlattice layer 16 are formed.例文帳に追加

サファイア基板10上にN型GaN層12を形成し、さらにN型超格子層14及びP型超格子層16を形成する。 - 特許庁

A photoreceptor 1 is obtained by forming a photosensitive layer 3 on an electrically conductive substrate 2 and stacking a surface protective layer 4 on the photosensitive layer 3.例文帳に追加

感光体1によれば、導電性基板2上に感光層3を形成し、この感光層3上に表面保護層4を積層する。 - 特許庁

A shield layer 17 is fixed to a metal layer 33 in the other-side main face of the semi-conductor substrate 23 by a conductive joining layer 35.例文帳に追加

半導体基体23の他方の主面の金属層33に対して導電性接合材層35によってシ−ルド層17を固着する。 - 特許庁

An epitaxial layer is grown on a substrate based on such an ordinary method that an n-type layer is initially grown and then a p-type layer is grown.例文帳に追加

最初にn型層を成長させ、続いてp型層を成長させる通常の方式で、基板上にエピタキシャル層を成長させる。 - 特許庁

Further, a surface-side metallized layer 41 is formed on the substrate surface 12, and a brazing-material layer 29 is formed on the surface-side metallized layer 41.例文帳に追加

基板表面12上には表面側メタライズ層41が形成され、表面側メタライズ層41上にはロウ材層29が形成される。 - 特許庁

The photoconductive belt has a conductive layer 725, a charge transport layer (CTL) 735 and a charge generating layer 730 layered on an insulating substrate 720.例文帳に追加

光伝導ベルトは、絶縁基板720の上に導電層725、電荷転移層(CTL)735及び電荷発生層730が堆積される。 - 特許庁

A waterproof layer 10 is interposed and water conduction plates 11 are laid crisscross on an upper surface 7 of a substrate layer 9 to provide a water conduction plate laying layer 12.例文帳に追加

下地層9の上面7に防水層10を介在させて通水板11を縦横に敷設し、通水板敷設層12を設ける。 - 特許庁

This display device 10 has an exothermic layer 14, the display layer 16 and a filter layer 18 at need on a substrate 12.例文帳に追加

本発明の画像表示装置10は基板12上に発熱層14と、表示層16と、必要に応じてフィルター層18とを備える。 - 特許庁

The optical disk wherein the image recording layer wherein an image is formed by a laser beam is formed on a substrate and a protective layer or a protective substrate is provided on the image recording layer is characterized in that a printing area is provided on at least a part of the substrate, the protective layer or the protective substrate.例文帳に追加

レーザー光により画像を形成する画像記録層が基板上に形成され、該画像記録層上に保護層もしくは保護基板が設けられた光ディスクであって、 前記基板、前記保護層または前記保護基板上の少なくとも一部に印刷領域が設けられていることを特徴とする光ディスクである。 - 特許庁

The dye-sensitized solar cell includes: a front transparent substrate; a front conductive layer on the front transparent substrate; a front current collecting wire on the front conductive layer; a rear transparent substrate; a rear conductive layer on the rear transparent substrate; and a rear current collecting wire which is formed on the rear conductive layer and has a through-part.例文帳に追加

本発明の染料感応太陽電池は、前面透明基板と前面透明基板上の前面導電層と前面導電層上の前面集電線と、後面透明基板と後面透明基板上の後面導電層と後面導電層上に形成され貫通部を有する後面集電線とを含む。 - 特許庁

Ruggedness for transferring fine ruggedness for an L1 layer is formed on one principal surface of the stamper substrate 20 and sticking of the stamper substrate 20 to the L0 layer substrate 10 is performed after the fine ruggedness for the L1 layer is transferred to and formed on the intermediate layer 32 by the stamper substrate 20.例文帳に追加

スタンパ基板20の一方の主面には、L1層用の微細な凹凸を転写するための凹凸が形成されており、L0層基板10へのスタンパ基板20の貼り合わせは、スタンパ基板20によって、中間層32にL1層用の微細な凹凸を転写することで形成してから行う。 - 特許庁

例文

Therefore, the semiconductor substrate is allowed to have a substrate 2 formed of Si 111, the buffer layer 3 formed on the substrate 2, and a semiconductor layer 4 formed on the buffer layer 3, and the buffer layer 3 is formed of ZrN, thus maintaining relatively high light extraction efficiency and obtaining the semiconductor substrate 1 having high electrical characteristics.例文帳に追加

そこで、Si(111)からなる基板2と、当該基板2上に設けられたバッファ層3と、バッファ層3上に設けられた半導体層4とを具備し、このバッファ層3がZrNからなることとしたので、比較的高い光の取り出し効率を維持しつつ、電気的特性の高い半導体基板1を得ることができる。 - 特許庁




  
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