「substrate layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(69ページ目) - Weblio英語例文検索

On one surface of a semiconductor substrate 1; an interlayer dielectric 4A, an Al wiring layer 5, the interlayer dielectric 4B, a Cu wiring layer 9A, a dielectric layer 12A, a Cu grounding layer 13, the dielectric layer 12B, the Cu wiring layer 9B, the dielectric layer 12C, and the Cu wiring layer 9C are successively provided.例文帳に追加

半導体基板１の一面に層間絶縁膜４Ａ、Ａｌ配線層５、層間絶縁膜４Ｂ、Ｃｕ配線層９Ａ、誘電体層１２Ａ、Ｃｕ接地層１３、誘電体層１２Ｂ、Ｃｕ配線層９Ｂ、誘電体層１２Ｃ、Ｃｕ配線層９Ｃが、順に設けられる。 - 特許庁

In the semiconductor laser, a clad layer 2, a guide layer 3, an MQW active layer 4, a guide layer 5, a first clad layer 6, an etching stopping layer 7, and a stripe-like second clad layer 8 are successively formed on an n-type GaAs substrate 1, and current blocking layers 9 are formed on both sides of the second clad layer 8.例文帳に追加

ｎ−ＧａＡｓ基板１上にクラッド層２、ガイド層３、ＭＱＷ活性層４、ガイド層５、第一のクラッド層６、エッチングストップ層７、ストライプ状の第二クラッド層８を順次形成しており、第二のクラッド層８の両側に電流ブロック層９を有している。 - 特許庁

The liquid crystal display includes a first substrate; a second substrate facing the first substrate; a first alignment layer formed on the back side surface of the first substrate and is made by aligning a plurality of first one-dimensional nano-structures; a second alignment layer formed on the back side surface of the second substrate; and a liquid crystal layer formed in between the first substrate and the second substrate.例文帳に追加

本発明に係る液晶表示装置は、第一基板と、前記第一基板に対向する第二基板と、前記第一基板の裏側表面に形成され、複数の第一一次元ナノ構造体が整列してなる第一配向層と、前記第二基板の裏側表面に形成される第二配向層と、前記第一基板と前記第二基板との間に形成される液晶層と、を含む。 - 特許庁

The substrate includes a layer 23, deposited by the deposition of an atomic layer, comes into contact with the second region 22 in the dielectric layer 1.例文帳に追加

基板は、さらに、誘電体層１の第２の領域２２に接触している、原子層堆積により堆積された層２３を含んでいる。 - 特許庁

The method of forming an electrically conductive layer on a semiconductor substrate and further forming a via structure includes a process of forming a molding dielectric layer on the electrically conductive layer.例文帳に追加

半導体基板上に導電層を形成してビア構造を形成する方法はモールディング絶縁膜を導電層上に形成する。 - 特許庁

To improve the adhesion of a releasing agent layer to a substrate while maintaining the good releasability of the releasing agent layer for an adhesive agent layer.例文帳に追加

粘着剤層に対する剥離剤層の剥離性を良好に維持したまま、剥離剤層の基材に対する密着性を良好にする。 - 特許庁

At least one of the plurality of pits originates in a layer disposed between the pit opening layer and a substrate on which the pit opening layer is formed.例文帳に追加

複数のピットのうちの少なくとも１つは、ピット開き層とピット開き層が形成された基板との間に配置された層で生じる。 - 特許庁

The method comprises steps of: providing a material layer on a substrate; and forming an antireflective hardmask layer over the material layer.例文帳に追加

本発明の方法は、基板上に材料層を設けるステップと、この材料層の上に反射防止ハードマスク層を形成するステップとを含む。 - 特許庁

The decorative sheet 2 is constituted by providing a printing layer 6 between a substrate layer 4 comprising PP or PET and a surface layer 5 comprising PET.例文帳に追加

化粧シート２は、ＰＰ又はＰＥＴからなる下地層４とＰＥＴからなる表面層５との間に印刷層６が設けられている。 - 特許庁

To provide a structure of a deep layer servo system magnetic recording medium wherein a servo layer and a spacer layer are difficult to be peeled from a non-magnetic substrate.例文帳に追加

深層サーボ方式の磁気記録媒体において、サーボ層及びスペーサ層が非磁性基板から剥離し難い構成を有するようにする。 - 特許庁

An oxygen getting layer 140 and an environmental barrier layer 160 are applied on the substrate 120 with the compliant layer 30 coated thereon.例文帳に追加

そのコンプライアント層３０が被覆された基体１２０の上に、さらに、酸素獲得層１４０および環境障壁層１６０をコーティングする。 - 特許庁

The impact marking vest includes an attachment device 130, a coating layer 140, a backing layer 210, and a target surface 220 formed on a substrate layer 150.例文帳に追加

着弾マーキングベストは、取付具１３０、被覆層１４０、基材層２１０、及び基層１５０から形成されるターゲット面２２０を備える。 - 特許庁

A first light shielding layer 21 and a second light shielding layer 22 are deposited on an element substrate 10, and a resist mask is formed on the second light shielding layer 22.例文帳に追加

素子基板１０に第１遮光層２１、及び第２遮光層２２を成膜して、第２遮光層２２上にレジストマスクを形成する。 - 特許庁

An n-type buffer layer 2, an n^--type drift layer 3, and a p-type base layer 5 are laminated on an n^+-type 4H-SiC substrate 1 in this order.例文帳に追加

ｎ^+型４Ｈ−ＳｉＣ基板１の上に、ｎ型バッファー層２と、ｎ^-型ドリフト層３と、ｐ型ベース層５とが、この順に積層されている。 - 特許庁

The bottom face of the silicon substrate 5 is connected to solder balls 40 for heat dissipation via an internal heat dissipation layer 2 and a lower layer heat dissipation layer 35.例文帳に追加

なお、シリコン基板５の下面は、内部放熱層２および下層放熱層３５を介して放熱用半田ボール４０に接続されている。 - 特許庁

A gate layer 14 of a polycrystalline silicon or the like is arranged near the surface of a substrate 12 and a hard mask layer 16 is formed on the gate layer 14.例文帳に追加

多結晶シリコンなどのゲート層１４は、基板１２の表面近くに配置され、ハードマスク層１６がゲート層１４の上に形成される。 - 特許庁

The camera protective cover 2A is constituted by forming a scratch preventing layer, a silica water-vapor transmission preventing layer and a water repellent layer on the surface of the resin substrate in this order.例文帳に追加

樹脂基板の表面に、傷付き防止層、シリカ透湿防止層及び撥水層がこの順で形成されてなるカメラ用保護カバー２Ａ。 - 特許庁

The adhesion layer 2 is composed of two layers, and is configured such that a first layer 2a and a second layer 2b are stacked in this order from the side of the resin substrate 1.例文帳に追加

密着層２は、２層からなり、樹脂基板１側から、第１の層２ａ、第２の層２ｂをこの順で積層して構成される。 - 特許庁

An IGBT 1 is constituted by forming a support substrate 11, a buried silicon oxide layer 12, a silicon semiconductor layer 13, and an insulating layer 23 in order.例文帳に追加

ＩＧＢＴ１では、支持基板１１と埋め込み酸化シリコン層１２とシリコン半導体層１３と絶縁層２３とが順に形成されている。 - 特許庁

A first clad layer 15, an active layer 17, and a second clad layer 19 are mounted on the principal surface 13a of the semiconductor substrate 13.例文帳に追加

第１のクラッド層１５、活性層１７及び第２のクラッド層１９が半導体基板１３の主面１３ａ上に設けられている。 - 特許庁

A lower DBR (distributed Bragg reflector) layer 1, a core layer 2, an upper DBR layer 3, and a dielectric multilayer film 6 are sequentially layered on an n-InP substrate 11.例文帳に追加

ｎ−ＩｎＰ基板１１上に下部ＤＢＲ層１、コア層２、上部ＤＢＲ層３、誘電体多層膜６が順次積層される。 - 特許庁

In the display plate composed by providing a metallic layer 5 on a substrate 1 made of a synthetic resin, a colored dot layer 6 is provided on the metallic layer 5.例文帳に追加

合成樹脂からなる基板１にメタリック層５を設けてなる表示板において、メタリック層５上に有色ドット層６を設けた。 - 特許庁

The light emitting element 100 has a p-electrode 103, a p-type layer 104, an active layer 105, and an n-type layer 106 on a ceramic substrate 101.例文帳に追加

発光素子１００は、セラミック基板１０１上にｐ電極１０３、ｐ型層１０４、活性層１０５、ｎ型層１０６を有している。 - 特許庁

Next, on the second main surface MP2 of the light-emitting layer growth preparing layer 8 of the substrate 50, the layer part 24 is epitaxially grown.例文帳に追加

次に、該複合透光性基板５０の発光層成長準備層８の第二主表面ＭＰ２に発光層部２４をエピタキシャル成長する。 - 特許庁

A light-absorbing layer 12 is formed on a substrate 11, and an electron-emitting layer 13 is formed on the light-absorbing layer 12.例文帳に追加

基板１１の上層に光吸収層１２が形成され、光吸収層１２の上層に電子放出層１３が形成されている。 - 特許庁

To prevent a semiconductor substrate from being short-circuited to a silicide layer formed on an epitaxially-grown layer and the epitaxially-grown layer.例文帳に追加

エピタキシャル成長層上に形成したシリサイド層やエピタキシャル成長層と半導体基板とがショートを起こすのを防止することを可能にする。 - 特許庁

A first laminate 10 constituting the optical recording medium has a light absorption layer 2, a reflection layer 3 and a protective layer 4 on a substrate 1.例文帳に追加

光記録媒体を構成する第１積層体１０は、基板１上に光吸収層２、反射層３及び保護層４を備える。 - 特許庁

This tilt magnetic recording medium is provided with a magnetic recording layer having the recording layer 34 and the soft substrate layer (SUL) 32 of L1_0 magnetic materials deposited in orientation (111).例文帳に追加

傾斜磁気記録媒体は、（111）配向で堆積されたL1_0磁性材料の記録層３４と軟下地層（SUL）３２を持つ磁気記録層を有する。 - 特許庁

A front surface electrode layer 2, a power generation layer 3, a back surface electrode layer 4, and a protective film 5 are laminated on a glass substrate 1 in this order.例文帳に追加

ガラス基板１上に、表面電極層２、発電層３、裏面電極層４および保護膜５が当該順に積層されている。 - 特許庁

An intermediate layer 11 having transparency, a positive electrode layer 12 having transparency, and an organic layer 13 are laminated in this order on a transparent substrate 10.例文帳に追加

透明基板１０上に、透明性を有する中間層１１、透明性を有する陽極層１２、有機層１３を順に積層する。 - 特許庁

A plurality of circuit blocks 5 are formed by sequentially laminating on a long-length substrate 1 a base insulating layer 2, a conductor layer 3, and a cover insulating layer 4.例文帳に追加

長尺基板１上にベース絶縁層２、導体層３およびカバー絶縁層４を順に積層し、複数の回路ブロック５を形成する。 - 特許庁

A conductive layer 12a is laminated on an insulating substrate 11, and a semiconductor layer 3a is laminated on the conductive layer 12a.例文帳に追加

絶縁性基板１１上に導電性層１２ａを積層し（図１（ａ））、導電性層１２ａ上に半導体層３ａを積層する（図１（ｂ））。 - 特許庁

An oxidation degree adjusting layer is provided between the substrate and a ferromagnetic layer and average oxygen concentration of the ferromagnetic layer in a layering direction is specified to be ≤5at%.例文帳に追加

基板と強磁性層との間に酸化度調整層を設け、強磁性層の積層方向の平均酸素濃度を５at％以下とする。 - 特許庁

A metal layer 2 and a first resist layer 3 are laminated in this order on one surface of a transparent substrate 1, and patterning of the first resist layer 3 is performed.例文帳に追加

透明基板１の一方側表面に金属層２と第１レジスト層３とをその順に積層し、第１レジスト層３をパターニングする。 - 特許庁

The layer 30 is formed by alternately printing a black ink layer 31 and a white ink layer 32 on the sheet substrate 60 in parallel with each other.例文帳に追加

第２記録層３０は、黒インキ層３１と白インキ層３２とを交互平行にシート基材６０の上に印刷して形成したものである。 - 特許庁

Mo layers (the first layer) 3 and Si layers (the second layer) 4 are laminated alternately on a surface of a substrate in the multi-layer film reflecting mirror 1.例文帳に追加

多層膜反射鏡１の基板２の表面には、Ｍｏ層（第１層）３とＳｉ層（第２層）４とが交互に積層形成されている。 - 特許庁

The element is provided with a glass substrate 1 on which an anode 2, a CuPc film 3, hole transporting layer 4, light emitting layer 5, electron transporting layer 6, and a cathode 7 are laminated.例文帳に追加

ガラス基板１上に陽極２、ＣｕＰｃ膜３、正孔輸送層４、発光層５、電子輸送層６、陰極７が積層されている。 - 特許庁

A first cladding layer 15, an active layer 17, and a second cladding layer 19 are formed on the primary surface 13a of the semiconductor substrate 13.例文帳に追加

第１のクラッド層１５、活性層１７及び第２のクラッド層１９が半導体基板１３の主面１３ａ上に設けられている。 - 特許庁

A substrate 1 holds a stack 2 of layers with a phase-change recording layer 5 between a first dielectric layer 4 and a second dielectric layer 6.例文帳に追加

基板１は、第一の誘電体の層４と第二の誘電体の層６との間に相変化記録層５をもつ層のスタック２を保持する。 - 特許庁

The LED chip 4 comprises a lower clad layer 12, an active layer 13, and an upper clad layer 14 formed sequentially on a semiconductor substrate 11.例文帳に追加

ＬＥＤチップ４は、半導体基板１１の上に、下クラッド層１２、活性層１３、および上クラッド層１４が順に形成されてなる。 - 特許庁

An insulating layer 12 is formed on a semiconductor substrate 11, and a groove 12a used for forming a wiring layer 15 is provided in the prescribed region of the insulating layer 12.例文帳に追加

絶縁層１２は、半導体基板１１上に形成され、所定領域に配線層１５を形成するための溝１２ａを有する。 - 特許庁

The nitrogen gas G is blown to the alignment layer 13 gradually along the longitudinal direction of the alignment layer 13 on the glass substrate 12 to dry the alignment layer 13.例文帳に追加

この窒素ガスＧをガラス基板12上の配向膜13における長手方向に沿って徐々に吹き付けて、この配向膜13を乾燥させる。 - 特許庁

On the non magnetic substrate 1, preferably a core forming layer 2 is formed, and a multilayer soft magnetic backing layer 3 including antiferromagnetic film is formed on the layer 2.例文帳に追加

非磁性基板１上に、好ましくは核付け層２を設け、この上に反強磁性膜を含む多層軟磁性裏打ち層３を成膜する。 - 特許庁

Also, the insulating separative layer 6 comprises an insulating film 6a and a conductive layer 6b, and separates in an insulating way its Si layer 12 from its Si substrate 1.例文帳に追加

また、絶縁分離層６は、絶縁膜６ａおよび導電層６ｂからなり、Ｓｉ層１２とＳｉ基板１との間を絶縁分離する。 - 特許庁

The lower electrode, constituted of a conductive layer and a conductive layer oxide film obtained by oxidizing the conductive layer, is formed on a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板上に、導電層と、前記導電層を酸化させた導電層酸化膜とより構成された下部電極を形成する。 - 特許庁