「substrate processing system」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

Multiple types of measuring tools can be installed in a substrate processing system to measure film properties after performing a substrate processing in the processing chamber.例文帳に追加

処理チャンバ内で基板処理した後の膜特性を測定するために基板処理システムにおいて複数のタイプの計測ツールを取り付けることができる。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR PROCESSING SUBSTRATE, AND STORAGE MEDIUM OF SUBSTRATE, AND COMPUTER-READABLE MEDIUM STORING PROGRAMS例文帳に追加

基板の処理方法、基板の処理システム及びプログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 - 特許庁

SUBSTRATE DRYER, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRO-OPTICAL DEVICE, ELECTRO-OPTICAL DEVICE AND ELECTRONIC INSTRUMENT例文帳に追加

基板乾燥装置、基板処理システム、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器 - 特許庁

In the substrate transfer system, as a substrate transfer path between the substrate processing unit 200 and the substrate stage, a linear path for joining the substrate stage system and the substrate treatment unit 200 can be arranged.例文帳に追加

このため、基板搬送系が基板処理装置２００と基板ステージとの間で基板を搬送する搬送経路として、基板ステージ系と基板処理装置２００とを結ぶ直線状の経路を設定することができる。 - 特許庁

To provide a substrate lug removing device and a substrate lug removing system capable of increasing processing speed of an operation of removing a lug from a substrate.例文帳に追加

基板からの耳取作業の処理速度を向上可能な基板の耳取装置及び基板の耳取システムを提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus reducing the cost of an exhaust system.例文帳に追加

排気システムのコストを低減することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing system achieving improvement in security and operability.例文帳に追加

セキュリティ及び操作性の向上を実現する基板処理システムを提供する。 - 特許庁

CONTAINER LID OPENING/CLOSING SYSTEM AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

収容容器の蓋開閉システム及び当該システムを用いた基板処理方法 - 特許庁

A high pressure processing system includes a chamber configured to house a substrate.例文帳に追加

基板を収容するように構成されたチャンバを含んでいる高圧処理システム。 - 特許庁

METHOD FOR DETECTING FAILURE OF CONCENTRATION CONTROL SYSTEM AND SUBSTRATE PROCESSING DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

濃度制御系の故障検知方法及びそれを用いた基板処理装置 - 特許庁

CLEANING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, CLEANING METHOD, PROGRAM, AND COMPUTER STORAGE MEDIUM例文帳に追加

洗浄装置、基板処理システム、洗浄方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 - 特許庁

FILM FORMING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE, MANUFACTURING METHOD THEREOF AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

成膜方法、半導体装置の製造方法、半導体装置、基板処理システム - 特許庁

To obtain a highly reliable substrate processing system, by suppressing dust from being generated from its wafer carrier.例文帳に追加

ウェーハキャリアからの発塵を抑えて高信頼度の基板処理システムを得る。 - 特許庁

To provide a susceptor heater assembly arranged in a large-area substrate processing system.例文帳に追加

大面積基板処理システム内に配置されるサセプタ・ヒータアセンブリを提供する。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, AND PROGRAM例文帳に追加

半導体装置、半導体装置の製造方法、基板処理システムおよびプログラム - 特許庁

INTERMEDIATE CONVEYANCE CHAMBER, EXHAUST METHOD THEREOF, AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

中間搬送室、基板処理システム、及び当該中間搬送室の排気方法 - 特許庁

COVER OPENING/CLOSING SYSTEM FOR SEALED CONTAINER AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

密閉容器の蓋開閉システム及び当該システムを用いた基板処理方法 - 特許庁

To provide a truck carrying substrate processing system in which the substrates can be taken out in the way of a series of processing steps, and a truck carrying substrate processing system in which the substrate can be carried to a specific processing unit in the way of processing.例文帳に追加

一連の処理の途中で基板を取り出すことができるトラック搬送タイプの基板処理装置を提供すること、および処理の途中で特定の処理ユニットへ基板を搬送することが可能なトラック搬送タイプの基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

The substrate processing system comprises a processing furnace 28 having a chamber 88 for processing a substrate 36, a means for supplying gas to the processing chamber 88, and a means 92 for heating the processing chamber.例文帳に追加

基板処理装置の処理炉２８は、基板３６を処理する処理室８８と、この処理室８８にガスを供給するガス供給手段と、処理室を加熱する加熱手段９２とを有する。 - 特許庁

To provide a small substrate processing system for etching a substrate well at low cost and a substrate processing method for etching a substrate well at low cost.例文帳に追加

低コストで、しかも良好なエッチング処理を行うことができる小型の基板処理装置、および低コストで、しかも良好なエッチング処理を行うことができる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To shorten remarkably a tact time for processing operation of supplying processing liquid to a substrate to be processed or applying the same on the substrate to be processed through spinless system.例文帳に追加

スピンレス方式で被処理基板上に処理液を供給ないし塗布する処理動作のタクトタイムを大幅に短縮すること。 - 特許庁

A substrate processing system comprises a housing which demarcates a processing chamber that is used for forming a film on the surface of a substrate arranged inside the chamber.例文帳に追加

基板処理システムが、チャンバ内に配置された基板の基板表面上に膜を形成するためのチャンバを画定するハウジングを含む。 - 特許庁

To provide a calculating device and a setting device for setting an appropriate tact time for a substrate processing system, and to provide a substrate processing system with an appropriate tact time for system set therein.例文帳に追加

適切な装置タクトを基板処理装置に設定するための算出装置及び設定装置、並びに適切な装置タクトを設定することのできる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The processing system 1 which processes the substrate W includes a back processing substrate processing device 5 which holds, bundles up and processes a plurality of substrates W by a retention member, and sheet type substrate processing devices 7A and 7B which contains one substrate W at a time and which perform different processing from a batch type substrate processing device 5.例文帳に追加

基板Ｗを処理する処理システム１において，複数枚の基板Ｗを保持部材によって保持し一括して処理するバッチ式基板処理装置５と，基板Ｗを一枚ずつ収納し，バッチ式基板処理装置５と異なる処理を行う枚葉式基板処理装置７Ａ，７Ｂを備えた。 - 特許庁

To provide a relay station which can build up a substrate processing system, which responds to a single-wafer transfer without making a major modification to a substrate processing system which has been conventionally used, and to provide the substrate processing system that uses the relay station.例文帳に追加

従来から使用されている基板処理装置に大幅な改造を施すことなく、枚葉搬送に対応した基板処理システムを構築することのできる中継ステーション及び中継ステーションを用いた基板処理システムを提供する。 - 特許庁

EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE METHOD, LITHOGRAPHY SYSTEM, DEVICE MANUFACTURING SYSTEM, MANUFACTURING METHOD OF DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD例文帳に追加

露光装置、露光方法、リソグラフィシステム、デバイス製造システム、デバイスの製造方法、及び基板処理方法 - 特許庁

In the substrate processing system comprising substrate processing chambers 301, 303, and a buffering chamber 302 having an exhaust system 306b independently from the substrate processing chambers, connecting pipes 304a, 304b are provided between the substrate processing chambers and the buffering chamber and the connecting pipe is provided with a gas introduction opening.例文帳に追加

基板処理室301、303と、基板処理室とは独立した排気系306bを持つ緩衝室302を設けた基板処理装置において、基板処理室と緩衝室の間は、接続管304a、304bを設け、接続管にガス導入口を設けたことを特徴とした基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an object processing system, an object processing method, a processing apparatus, a substrate processing method, and a device manufacturing method avoiding a reduction of productivity.例文帳に追加

生産性の低下を回避できる物体処理システム、物体処理方法、処理装置、基板処理方法及びデバイス製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an object processing system, an object processing method, a processing apparatus, a substrate processing method and a device manufacturing method, avoiding a reduction of productivity.例文帳に追加

生産性の低下を回避できる物体処理システム、物体処理方法、処理装置、基板処理方法及びデバイス製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate processing system that grasps operation details of an apparatus.例文帳に追加

装置の動作の詳細を握することが可能な基板処理システムを提供する。 - 特許庁

In one embodiment, the system includes a processing module and a substrate transfer shuttle.例文帳に追加

実施例においては、該システムは、処理モジュール及び基板移送シャトルを含んでいる。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR CONTROLLING PROCESS AND PURGE MATERIAL IN SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

基板処理システムでプロセス及びパージ材料を制御するための方法及び装置 - 特許庁

A substrate processing system 10 is provided with a host PC100 and a safety PLC300.例文帳に追加

基板処理システム１０は、上位ＰＣ１００と安全ＰＬＣ３００とを有する。 - 特許庁

DIMENSION MEASURING METHOD OF GLASS SUBSTRATE FOR MAGNETIC RECORDING MEDIUM, END-FACE PROCESSING METHOD OF THE GLASS SUBSTRATE FOR MAGNETIC RECORDING MEDIUM, AND END FACE PROCESSING SYSTEM OF THE GLASS SUBSTRATE FOR MAGNETIC RECORDING MEDIUM例文帳に追加

磁気記録媒体用ガラス基板の寸法測定方法、磁気記録媒体用ガラス基板の端面加工方法、及び、磁気記録媒体用ガラス基板の端面加工システム - 特許庁

To provide magnetic clips for use with a substrate holder for holding a substrate in a processing chamber of a plasma treatment system.例文帳に追加

プラズマ処理システムの加工室において基板を保持する基板ホルダーと共に使用する磁気クリップを提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing system in which a processed substrate can be cooled down from high temperature efficiently and uniformly.例文帳に追加

処理後の高温の基板を効率良く、均一に冷却することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

Several kinds of particular types of measuring tools can also be installed in the substrate processing system to measure film properties after performing the substrate processing in the processing chamber.例文帳に追加

処理チャンバ内で基板処理した後の膜特性を測定するために基板処理システムにおいて数種の具体的なタイプの計測ツールを取り付けることもできる。 - 特許庁

To provide a processing method of substrate and a chemical processing system in which production cost can be reduced by reusing chemical used for processing the substrate.例文帳に追加

被処理基板を薬液処理した後の薬液を再利用することにより製造コストを低減できる被処理基板の処理方法及び薬液処理装置を提供する。 - 特許庁

A substrate processing system includes: a cassette station; a processing station 5; an interface station 7; and an exposure device 6.例文帳に追加

基板処理システムは、カセットステーションと、処理ステーション５と、インターフェイスステーション７と、露光装置６とを有している。 - 特許庁

The substrate processing system 100 has processing regions A and B and a carrying region C is provided between.例文帳に追加

基板処理装置１００は、処理領域Ａ，Ｂを有し、処理領域Ａ，Ｂ間に搬送領域Ｃを有する。 - 特許庁

To provide a reflow processing system which can perform uniform processing in a substrate plane and can attain sufficient throughput.例文帳に追加

基板面内において均一な処理が可能で、かつ十分なスループットが得られるリフロー処理装置を提供する。 - 特許庁

The substrate processing system comprises a reaction tube 23 for processing a wafer W, and a boat 20 for holding the wafer W.例文帳に追加

基板処理装置は、ウェーハＷを処理する反応管２３と、ウェーハＷを保持するボート２０を備える。 - 特許庁

According to the arrangement, processing gas is prevented from leaking to the outside of the substrate processing system and adverse effect on the wafer W is eliminated.例文帳に追加

したがって、処理ガスの基板処理装置外への漏れがなくなり、ウエハＷの悪影響が防止される。 - 特許庁

A substrate support (64) storing a workpiece is provided in the inside of a processing chamber (12) of a plasma processing system (10).例文帳に追加

プラズマ処理システム（１０）の処理チャンバ（１２）内に、加工物を収容する基板サポート（６４）が設けられている。 - 特許庁

To provide a method and a system for processing in which the time required for processing a substrate can be shortened.例文帳に追加

被処理基板の処理に要する時間を短縮することができる処理方法及び処理装置を提供する。 - 特許庁