「substrate processing system」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an exposure apparatus capable of carrying out accurate exposure processing allowing liquid to be appropriately held between a projection optical system and a substrate.例文帳に追加

投影光学系と基板との間に液体を良好に保持して、精度良い露光処理を行うことができる露光装置を提供する。 - 特許庁

To check the influence upon and upstream processing section or a substrate to be processed to the minimum even when a process flow stagnates at a portion in a system.例文帳に追加

システム内の一部でプロセスフローが滞っても上流側の処理部あるいは被処理基板の受ける影響を最小限に食い止めること。 - 特許庁

Embodiments described herein generally provide a method for processing metals disposed on a substrate in a chemical mechanical polishing system.例文帳に追加

本発明の実施形態は、一般的に、化学機械研磨システムにおいて基板上に配設された金属を処理するための方法を提供する。 - 特許庁

In a first step, an aluminum layer is etched by processing a substrate with a first plasma chemical system that etches aluminum.例文帳に追加

第１のステップでは、アルミニウム層のエッチングが、アルミニウムをエッチングする第１のプラズマ化学系を用いて基板を処理することにより行われる。 - 特許庁

To provide an exposure device capable of performing exposure processing at good accuracy by sufficiently holding liquid between a projection optical system and a substrate.例文帳に追加

投影光学系と基板との間に液体を良好に保持して、精度良い露光処理を行うことができる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method for forming a silicon nitride film having a small etching grade against an HF system solution without raising a film forming temperature.例文帳に追加

ＨＦ系溶液に対するエッチングレートが小さいシリコン窒化膜を、成膜温度を上げることなく形成する基板処理方法を提供する。 - 特許庁

The system includes two proof masses, two drive components, two drive sense components, two orthogonal sets of substrate electrodes, and a processing device.例文帳に追加

当該システムは、２つのプルーフマス、２つの駆動要素、２つの駆動感知要素、２つの直交する基板電極の組及び処理装置を含む。 - 特許庁

To provide an exposure device capable of carrying out an accurate exposure processing allowing liquid to be appropriately held between a projection optical system and a substrate.例文帳に追加

投影光学系と基板との間に液体を良好に保持して、精度良い露光処理を行うことができる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for processing a substrate in which the piping of a processing liquid supply system is simplified and the cost can be reduced directly through reduction in the size of the system and indirectly through reduction in the running cost of a clean room incident to reduction in the size of the system.例文帳に追加

処理液供給系の配管を簡略化すると共に、装置の小型化による直接的なコストダウン及び装置の小型化によるクリーンルームのランニングコストの低廉化による間接的なコストダウンを図れるようにした基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The two or more types of process chambers are used to deposit the one or more silicon-containing layers and the one or more metal-containing layers in the same substrate processing system without breaking the vacuum, taking the substrate out of the substrate processing system to prevent surface contamination, oxidation, etc., such that additional cleaning or surface treatment steps can be eliminated.例文帳に追加

２つ以上のタイプの処理チャンバは、真空を破ることなく、基板処理システムから基板を取り出して、同一の基板処理システムで１つ又は複数のシリコン含有層及び１つ又は複数の金属含有層を蒸着するために使用され、表面汚染、酸化などを防ぎ、別の洗浄や表面処理ステップを排除することができる。 - 特許庁

To provide a temperature regulator that can shorten the temperature raising time and temperature lowering time by means of thermal treatment equipment, and to provide a temperature regulation system and a substrate processing apparatus equipped with the system.例文帳に追加

熱処理装置による昇温時間および降温時間を短縮することができる温度調整器、温度調整システムおよびそれを備えた基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To improve maintenance of an overall manufacturing system when the form for system which controls under a unitary management, a plurality of processors for processing a substrate to be processed, such as a semiconductor wafer or the like.例文帳に追加

半導体ウエハ等の被処理基板を処理する複数の処理装置を一元管理の下で制御するシステム形態とした場合の、製造システム全体の保守性の向上を図る。 - 特許庁

To reduce the molding failure of a disk substrate to the utmost and to reduce the equipment investment of a disk manufacturing system, in the disk manufacturing system for manufacturing an optical disk by a continuous or successive processing system.例文帳に追加

連続・逐次処理方式で光ディスクを製造するディスク製造システムにおいて、ディスク基板の成形不良を可及的に低減可能であるとともに、ディスク製造システムの設備投資を削減できるようにすること。 - 特許庁

In the substrate processing system where a load lock unit 30 and a process unit 50 are coupled around a vacuum conveyor 40, a batch processing unit 60 for processing a plurality of substrates simultaneously is attached to or built in the load lock unit 30.例文帳に追加

真空搬送装置４０を中心にロードロック装置３０とプロセス装置５０とが連結された基板処理装置において、複数枚同時に基板処理を行うバッチ処理装置６０をロードロック装置３０に付設するか組み込む。 - 特許庁

To provide a regeneration system for a color filter substrate, which determines whether to regenerate a defective substrate, decides a regeneration step for each substrate to be regenerated, and decides and controls flow rates of chemicals and cleaning solutions to be used in processing, and a conveying speed of the substrate in the regeneration step.例文帳に追加

不良基板を再生するか否かの判別を行い、再生処理する基板毎に再生処理工程を決定し、再生処理工程における処理に使われる薬液と洗浄液の流量と基板の搬送速度を決定し制御するカラーフィルタ基板の再生処理システムを提供する。 - 特許庁

To provide a method and a system for processing a substrate, in which resist layer and a polymer layer can be removed from an etched substrate in a short time, without having to require troublesome processings.例文帳に追加

エッチング後の基板からレジスト層およびポリマー層を短時間で、しかも煩雑な処理を伴うことなく除去することができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

The system 1 for inspecting the pattern of a semiconductor substrate 9 comprises an optical head section 11 for acquiring the two-dimensional image of the pattern of the semiconductor substrate 9, and a computer 13 performing processing.例文帳に追加

半導体の基板９のパターンを検査する検査装置１において、基板９のパターンの２次元画像を取得する光学ヘッド部１１、および、演算処理を行うコンピュータ１３を設ける。 - 特許庁

To improve the quality of processing by a method wherein the re- deposition of mist generated from the surface of a substrate upon drying process is prevented, wherein a gas is blown against the substrate to be processed in a flat transmission system.例文帳に追加

平流し方式において被処理基板に気体を吹き付ける乾燥処理に際して基板表面より発生するミストの基板への再付着を防止して、処理品質を向上させること。 - 特許庁

To provide a method for making a film stack containing one or more silicon-containing layers and one or more metal-containing layers and a substrate processing system for forming the film stack on a substrate.例文帳に追加

１つ又は複数のシリコン含有層及び１つ又は複数の金属含有層を含む積層膜を製造する方法及び基板上に積層膜を形成するための基板処理システムを提供する。 - 特許庁

Energy is given to gas introduced into the processing chamber 1 by a first gas introduction system 2 by a plasma forming means 3 to form plasm P_1, and a substrate 9 retained by a substrate holder 4 is treated.例文帳に追加

処理チャンバー１内に第一のガス導入系２により導入されたガスにプラズマ形成手段３がエネルギーを与えてプラズマＰ_１を形成し、基板ホルダー４に保持された基板９が処理される。 - 特許庁

To provide a substrate processing system 1 for shortening time by simplifying control to link the operation timings of coating equipment 3 and a conveyance device 5.例文帳に追加

塗布装置３と搬出装置５との動作タイミングを連携させる制御を容易とし、時間短縮が可能となる基板処理システム１を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing system that causes different display units to output different displays, and causes different operations to be carried out from different operation screens.例文帳に追加

異なる表示部に異なる表示をさせたり、異なる操作画面から異なる操作をさせたりすることができる基板処理システムを提供する。 - 特許庁

In the way of a transfer system to a processing unit, ozone gas is sprayed to a substrate carried out from a carrier in order to remove organic contaminations.例文帳に追加

キャリアから搬出された基板には、処理ユニットまでの搬送系路途中にてオゾンガスが吹き付けられて有機物汚染の除去処理が行われる。 - 特許庁

In the method, first, the substrate having a dielectric layer and mask layer covering the dielectric layer being with a pattern formed is located on a plasma processing system.例文帳に追加

この方法においては、まず、誘電体層と、パターンが形成され該誘電体層を覆うマスク層とを有する基板がプラズマ処理システムに配置される。 - 特許庁

To provide a substrate processor having an exhaust gas processor capable of processing at high efficiency an F system gas, in particular, a stable gas such as CF4, C2F6, or the like.例文帳に追加

Ｆ系ガス、特にＣＦ_4やＣ_2Ｆ_6等の安定なガスをも高効率で処理することができる排ガス処理装置を有する基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate processing system which can cause different display portions to output different displays, and cause different operations to be carried out from different operation screens.例文帳に追加

異なる表示部に異なる表示をさせたり、異なる操作画面から異なる操作をさせたりすることができる基板処理システムを提供する。 - 特許庁

To realize flexible charging in accordance with the operating conditions in the substrate processing system including a heat treatment apparatus provided with temperature setting functions of a plurality of kinds.例文帳に追加

複数種類の温度設定機能を備えた熱処理装置を有する基板の処理システムにおいて，使用状態に応じた柔軟な課金を行う。 - 特許庁

The substrate processing system includes one or more transfer chambers coupled to one or more load lock chambers and two or more different types of process chambers.例文帳に追加

基板処理システムは、１つ又は複数のロードロックチャンバに接続された１つ又は複数の搬送ポット及び２つ以上の異なるタイプの処理チャンバを含む。 - 特許庁

The plasma processing system includes an electron source electrode, where direct current (DC) power is coupled to generate a ballistic electron beam in etching a substrate.例文帳に追加

基板のエッチング中に弾道電子ビームを生成するために、プラズマ処理システムは、直流（ＤＣ）電力が結合される電子源電極を含んでいる。 - 特許庁

The system includes a processing mainframe, at least one substrate cleaning station positioned on the mainframe, and an electroless deposition station positioned on the mainframe.例文帳に追加

このシステムは、処理メインフレームと、メインフレームに位置された少なくとも１つの基板洗浄ステーションと、メインフレームに位置された無電界堆積ステーションとを備えている。 - 特許庁

To provide a substrate processing system in which a temperature can be controlled using water and production of by-products can be prevented while sustaining the performance at the magnetic seal part.例文帳に追加

水を使用して温度制御が可能であり、副生成物の発生を防止でき、かつ磁気シール部の性能を維持できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus, system, and method that temporarily stores substrates by a simple structure without changing the processing order of the substrates in the subsequent apparatus.例文帳に追加

後続の装置における基板の処理順序を入れ替えることなく、かつ、簡易な構造で、基板を一時的に収納できる基板処理装置、基板処理システム、および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To take in a clean atmosphere (the air) into a load lock chamber without elongating a processing time by evading the intake of the atmosphere of an infected transfer chamber to a standby chamber concerning a substrate processing system.例文帳に追加

基板処理装置において、汚染された移載室の雰囲気を待機室内に取り込むことを回避し、且つ、タクト延伸とならずに、清浄な雰囲気（大気）をロードロック室内に取り込むことを可能にする。 - 特許庁

To reduce the tact time of processing operation for supplying or coating a substrate to be processed with a process liquid using a spinless system, and to form a coating of the process liquid on the substrate with a uniform thickness without uneven coating by a floating carrying system.例文帳に追加

スピンレス方式で被処理基板上に処理液を供給ないし塗布する処理動作のタクトタイムを短縮するとともに、浮上搬送方式において基板上に処理液の塗布膜を塗布ムラのない均一な膜厚で形成する。 - 特許庁

To provide a method for exposing a photoresist-coated substrate by which a range capable of undergoing laser beam scanning at a time is extended and identifying codes of the same quality can be formed by exposure on the whole surface of the substrate while shortening the processing time per one substrate and to provide an exposure system therefor.例文帳に追加

一度にレーザビームを走査できる範囲を広げ、基板１枚当りの処理時間を短縮しながら、基板全面に同じ品質の識別コードを露光可能にするフォトレジスト塗布基板の露光方法及び装置を提供する。 - 特許庁

The substrate processing system comprises a polishing apparatus for polishing the thin film formed at and adhered to the bevel and edge sections of the substrate; and an etching device for removing the thin film remaining at the bevel and edge sections of the substrate after polishing by the polishing apparatus by etching.例文帳に追加

本発明の基板処理システムは、基板のベベル部乃至エッジ部に成膜乃至付着した薄膜を研磨する研磨装置と、研磨装置による研磨後の基板のベベル部乃至エッジ部に残った薄膜をエッチング除去するエッチング装置とを有する。 - 特許庁

A processing liquid discharging unit 200 includes a frame 210, one processing liquid supply module 220 installed on the frame 210, and a plurality of processing liquid discharging heads 270 which are formed in the frame 210 so that fluid communication to one processing liquid supply module 220 is achieved in a center-concentrated system, and discharge the processing liquid onto a substrate S by an inkjet system.例文帳に追加

本発明の処理液の吐出ヘッドユニット２００は、フレーム２１０と、フレーム２１０に設置される１つの処理液供給モジュール２２０と、１つの処理液供給モジュール２２０に中央集中方式で流体連通されるようにフレーム２１０に形成され、基板Ｓ上にインクジェット方式で処理液を吐出する複数の処理液吐出ヘッド２７０とを含む。 - 特許庁

The substrate holder for supporting a substrate in a processing system includes: a temperature-controlled support base having a first temperature; a substrate support opposing the temperature-controlled support base and provided to support the substrate; and one or more heating elements coupled to the substrate support and provided to heat the substrate support to a second temperature above the first temperature.例文帳に追加

処理システム内で基板を支持する基板ホルダは、第１温度を有する温度制御された支持体基盤、該温度制御された支持体基盤に対向し、かつ基板を支持するように備えられた基板支持体、及び該基板支持体と結合し、かつ前記基板支持体を第１温度よりも高温である第２温度に加熱するように備えられた１以上の加熱素子、を有する。 - 特許庁

A broken substrate removable system for use in a substrate processing system is provided, comprising: a suction head 362 having an inlet; a placing mechanism 364, 366 for moving the suction head to a location of the broken substrate 372; a suction pump 365; and a flexible hose 368 coupling the suction head to the suction pump.例文帳に追加

基板処理システムに用いられる壊れた基板除去システムであって、入口を有する吸込みヘッド３６２と、前記吸込みヘッドを前記壊れた基板３７２の位置へ動かす配置機構３６４，３６６と、吸込みポンプ３６５と、前記吸込みヘッドを前記吸込みポンプへ連結させるフレキシブルホース３６８とを備える。 - 特許庁

To provide a substrate, a substrate holding apparatus, an analysis apparatus, a program, a detection system, a semiconductor device, a display apparatus and a semiconductor manufacturing apparatus, which can detect or analyze information regarding the temperature of a substrate that can be used in an environment where the substrate has a high temperature and prevent decrease in the flexibility in the processing work of the substrate.例文帳に追加

基板の温度といった情報を検出または解析する基板、基板保持装置、解析装置、プログラム、検出システム、半導体デバイス、表示装置、および半導体製造装置であって、基板が高温になる環境でも用いることができ、かつ、この基板に対する加工作業の自由度の低下を防止できるものを提供する。 - 特許庁

To provide a reflow system and a reflow method that hardly cause trouble such as a transfer trace etc., due to drying unevenness of resist when reflow processing is performed by supplying a solvent to a substrate while continuously conveying the substrate.例文帳に追加

基板を連続的に搬送しつつ基板に溶剤を供給してリフロー処理を行なう際に、レジストの乾燥不均一にともなう転写跡等の不都合の生じ難いリフローシステムおよびリフロー方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which can control resist coating and subsequent treatments continuously, without having adverse effect on a substrate according to the timing of movement of a main transfer device for transferring the substrate throughout a entire system.例文帳に追加

システムの全体に亘って基板の搬送を行う主搬送装置の移動のタイミングに応じて、レジスト塗布とその後の処理とを制御してこれらの処理を基板に悪影響を与えずに連続的に行うことができる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate housing case and a substrate vacuum processing system which enables the more easy measurement of a substrate vacuum-processed than that in the prior art by a vacuum processor without exposing to air, and improvement in the working efficiency, compared with the prior art.例文帳に追加

従来に比べて簡易に、真空処理装置で真空処理した基板を大気に晒すことなくその測定を行うことを可能とし、従来に比べて作業効率の向上を図ることのできる基板収容ケース及び基板真空処理システムを提供する。 - 特許庁

In a charged particle beam plotter system for drawing patterns on a substrate by using a charged particle beam, there are provided a vacuum processing chamber 100 for applying patterns to the substrate, an auxiliary vacuumizing chamber 200 connected with the vacuum processing chamber 100 via a gate valve GV1, and a heating means 9 for heating the substrate by projecting light on the substrate put in the auxiliary chamber 200.例文帳に追加

荷電粒子線を用いて基板上に描画パターンを描画する荷電粒子線描画装置において、基板を描画処理する為の真空の処理室１００と、処理室１００にゲートバルブＧＶ１を介して接続された真空可能な予備室２００と、予備室２００内に載置された基板に光を照射して基板を加熱する加熱手段９とを有する。 - 特許庁

This substrate processing system is provided with coating equipment 3 having a pin 14 vertically operating in such a state that a substrate W is placed for transferring a substrate W coated with a coating solution and a conveyance device 5 having a hand part 31 approaching and leaving the coating equipment 3 for conveying the substrate W.例文帳に追加

塗布液を塗布した基板Ｗを渡すために当該基板Ｗを載せた状態で上下動作するピン１４を有している塗布装置３と、前記基板Ｗを搬出するために塗布装置３に対して接近離反移動するハンド部３１を有している搬出装置５とを備えている。 - 特許庁