「substrate processing system」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

The plasma processing system comprises a chamber 1 for accommodating a substrate 11, a microwave generator 5 for generating microwave, and an antenna section 3 for radiating microwave.例文帳に追加

プラズマ処理装置は、基板１１を収容するチャンバ１と、マイクロ波を発生するためマイクロ波発生器５と、マイクロ波を放射するためのアンテナ部３とを備えている。 - 特許庁

To adjust the direction of an orientation mark of a semiconductor substrate 2, in a conveyance chamber 1 without using a new driving system nor a dedicated processing chamber.例文帳に追加

新たな駆動系や専用の処理室を用いることなく、半導体基板２のオリエンテーションマークの向きを搬送室１内で調整することができるようにする。 - 特許庁

The robot 108 for transferring a substrate 112 in a processing system 100 consists of a body, a link, and an end effector.例文帳に追加

処理システム１００内で基板１１２を移送する為のロボット１０８は、本体と、リンクと、エンドエフェクタとを含み、エンドエフェクタは、基板を上部に維持するように適合されている。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus capable of performing exposure processing with accuracy by preventing deterioration in a pattern image, when exposing a pattern onto a substrate via a projection optical system and a liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介してパターンを基板に露光する際、パターン像の劣化を防止して精度良く露光処理できる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate conveyance processing apparatus and a method including a wafer for efficiently achieving a through-put which is more improved than a system under current use at reasonable costs.例文帳に追加

今日使用されているシステムと比較して改善されたスループットを妥当なコストで効率的に実現する、ウェーハを含む基板搬送処理装置及び方法を提供する。 - 特許庁

The in-line type semiconductor production system comprises a plurality of substrate-processing modules MD, having a vacuum robot VR, and an atmospheric loader LM having one atmospheric robot AR.例文帳に追加

インライン型半導体製造装置は、真空ロボットＶＲを有する複数の基板処理モジュールＭＤと、１台の大気ロボットＡＲを有する大気ローダＬＭとを備える。 - 特許庁

A silicon substrate 101 is carried into the processing chamber of a predetermined electron beam exposure system and a desired region of a carbon nanotube 103 is irradiated with an electron beam 110.例文帳に追加

シリコン基板１０１を所定の電子線露光装置の処理室に搬入し、カーボンナノチューブ１０３の所望の領域に電子線１１０が照射された状態とする。 - 特許庁

To prevent adhesion of the mist of processing liquid to a substrate when it is dried through spin system by performing a chemical processing process and a chemical drying process in same processing tank.例文帳に追加

液晶表示装置等の表示パネルを構成する基板を、スピン方式により洗浄する方法及びそのための装置において、スピン方式による乾燥処理を行う際に洗浄液のミストが基板に付着することを充分に防止できるものを提供する。 - 特許庁

To provide transfer control system/method/program with which processing time efficiency of a substrate transfer control system is improved, and maintenance efficiency of an operation program is improved by center-managing a transfer control system and a film formation control system.例文帳に追加

搬送制御系と製膜制御系を中央管理することで、基板搬送制御システムの処理時間効率を高めることができるとともに、動作プログラムのメンテナンス効率を高めることができる搬送制御システム及び搬送制御方法並びに搬送制御プログラムを提供する。 - 特許庁

A defect correction device includes: a stage for placing a substrate; and a local exhaust ventilation system that comprises a local ventilation region that serves as a processing part for processing the substrate, a gas supply part for jetting gas toward the stage so that the system rises from the stage, and an exhaust part for exhausting gas jetted toward the stage and gas supplied from the local ventilation region to the stage side.例文帳に追加

基板を載置するステージと、基板を加工する加工部となる局所排気領域と、ステージに向けてガスを噴射することにより該ステージから浮上するためのガス供給部と、ステージに向けて噴射したガス及び局所排気領域から該ステージ側に供給されたガスを排気する排気部とを備えた局所排気装置を有する。 - 特許庁

A signal processing circuit 60 discriminates between the surface defect and the internal defect of the substrate 1 from the intensity difference between the scattered light received by the first light receiving system and the scattered light received by the second light receiving system.例文帳に追加

信号処理回路６０は、第１の受光系が受光した散乱光と第２の受光系が受光した散乱光との強度の違いから、基板１の表面の欠陥と内部の欠陥とを弁別する。 - 特許庁

To provide a defect judging system and a substrate processing system with which abnormality in a manufacturing process is detected in an early stage of production, deterioration of an amount of production can be suppressed to be minimum and yield in the manufacturing process can be improved.例文帳に追加

生産の早い段階で製造工程の異常を発見し、生産量低下を最小限に抑えて製造工程の歩留まりを改善することができる欠陥判定システムおよび基板処理システムを提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing system including a drive control system capable of detecting interference and collision with high accuracy and preventing occurrence of an accident such as collision in advance without being affected by vibration or the like of a carrying mechanism.例文帳に追加

高精度に干渉、衝突を検出でき、又搬送機構の振動等に影響を受けることがなく、未然に衝突等の事故の発生を防止し得る駆動制御システムを具備した基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The system for processing a substrate comprises a nozzle (144) for jetting inert gas to for an inert gas atmosphere in the vicinity of the surface of the substrate, and a baffle plate (146) for receiving inert gas flow jetted from the inert gas jet nozzle (144) and deflecting it outward of the substrate.例文帳に追加

基板表面近傍を不活性ガス雰囲気とするように不活性ガスを噴射する不活性ガス噴射ノズル（１４４）と、不活性ガス噴射ノズル（１４４）から噴射する不活性ガス流れを受けて、基板の外方に向かう流れに偏向するじゃま板（１４６）を有する。 - 特許庁

A substrate processing system is equipped with: a treatment device for applying cleaning treatment to a substrate and an action confirming device connected to the treatment device so as to confirm an action being a change in movement or state of each action element of the treatment device.例文帳に追加

基板処理システムは、基板に対して洗浄処理を施す処理装置、および、処理装置に接続されて処理装置の動作要素の動きまたは状態の変化である動作を確認する動作確認装置を備える。 - 特許庁

To provide a lighting system with a manufacturing cost lowered by facilitating processing of a light-emitting element mounting substrate into an arbitrary shape and its retention, and by simplifying a whole process by fully fixing the light-emitting element mounting substrate to a lamp body.例文帳に追加

発光素子実装基板の自由な形状への加工と形状の保持を容易にし、かつランプボディへの発光素子実装基板の固定を十分にしつつ簡素化することによって、製造コストを安価にした照明装置の提供。 - 特許庁

To provide a regenerating process system for a color filter substrate, capable of increasing facility efficiency, reducing an amount of chemical liquid required for a regenerating process by a processing device exclusive for regeneration, and preventing cracks or the like in a substrate during a process exclusive for regeneration.例文帳に追加

設備効率を上げ、再生専用処理装置による再生処理に要する薬液の削減と再生専用処理時の基板の割れ等の発生を防ぐことを可能とするカラーフィルタ用基板の再生処理システムを提供する。 - 特許庁

To provide a game management device and system surely discriminating a fraudulent component even if it is a game arithmetic processing unit manufactured using a combination of proper identification information, its packaging substrate, or a substrate case.例文帳に追加

正規の識別情報の組合せを使用して製造された遊技用演算処理装置やその実装基板、基板ケース等の不正部品であっても確実に判別できる遊技用管理装置及び遊技用管理システムを提供すること。 - 特許庁

When a processing chamber 1 is evacuated by an evacuation system 50 including a turbo molecular pump 11 and a transport chamber 31 is evacuated by an evacuation system 70 including a turbo molecular pump 37, a gate valve 22 is opened to transport a substrate between the transport chamber 31 and the processing chamber 1.例文帳に追加

処理室１がターボ分子ポンプ１１を含む排気装置５０によって排気され、搬送室３１がターボ分子ポンプ３７を含む排気装置７０によって排気されている状態で仕切弁２２を開けて基板を搬送室３１と処理室１との間で搬送する。 - 特許庁

To provide a substrate processing system capable of suppressing or preventing closure due to adhesion of a reaction byproduct in the inside of a piping gathering portion provided in one part of an exhaust system for exhausting an atmosphere in a processing chamber and having a plurality of exhaust pipings each coupled to a manifold.例文帳に追加

処理室内の雰囲気を排気する排気系の一部に設けられ、複数の排気配管がマニホールドにそれぞれ接続される配管集合部の内部で、反応生成物の付着による閉塞を抑制または防止することができる基板処理システムを提供する。 - 特許庁

Since the thickness of the resist film is measured by means of the spinner having a relatively long margin in its processing time, the processing time of the pattern exposure system is reduced and the throughput of the substrate treating process can be improved as a whole.例文帳に追加

このように比較的処理時間に余裕のあるスピンナにおいてレジスト膜の膜厚を測定することで、パターン露光装置の処理時間が減少し、基板処理工程全体におけるスループットを向上させることができる。 - 特許庁

The system exposing a mask pattern on a substrate is provided with a memory 20 storing a number of operating parameters for exposure- related processing and a controller 14 switching the operating parameters based on the time slot for processing.例文帳に追加

マスクのパターンを基板に露光する露光装置において、露光に関する処理の動作パラメータを複数記憶する記憶装置２０と、処理を実行する時間帯に基づいて動作パラメータを切り替える制御装置１４とを備える。 - 特許庁

To provide a plasma processing device and a plasma processing method wherein, when a resist pattern is removed by an ashing process of a low temperature RIE system, it is possible to remove a polymer in a side wall around a substrate and a bevel with a simple configuration.例文帳に追加

レジストパターンを低温ＲＩＥ方式のアッシング処理で除去する際、基板周辺の側壁部やベベル部のポリマーの除去を、簡単な構成により可能にするプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

The substrate processing apparatus for manufacture of the flat panel display includes: a conveyer member having a plurality of conveyance shafts for conveying a substrate; a cooling member which cools the substrate to be conveyed by the conveyer member by a non-contact system; and an interval maintenance member which maintains an interval between the substrate and the cooling member so that the substrate does not come into contact with the cooling member.例文帳に追加

本発明によるフラットパネルディスプレイの製造ための基板処理装置は、基板搬送のための複数の搬送シャフトを有するコンベヤー部材と、前記コンベヤー部材によって搬送される基板を非接触方式で冷却する冷却部材と、基板が前記冷却部材と接触しないように前記基板と前記冷却部材との間の間隔を維持する間隔維持部材と、を含む。 - 特許庁

The system includes a loading station having an input spool adapted to support a wounded, unprocessed flexible substrate, a processing station adapted to perform one or more predetermined processes on the flexible substrate, an unloading station having an output spool adapted to receive the processed flexible substrate and a substrate stability subsystem adapted to maintain the flexible substrate in a substantially vertical orientation.例文帳に追加

システムは、巻かれた、処理されていない可撓性基体を支持するインプットスプールを有するローディングステーション；基体にて１又は複数の所定の処理を実施する処理ステーション；処理した基体を受け入れるアウトプットスプールを有するアンローディングステーション；及び基体を１又は複数の処理に付する間に、可撓性基体を略垂直向きに維持する、基体安定サブシステムを含む。 - 特許庁

The processing chamber of this plasma treatment system includes a chamber lid having a plasma cavity disposed generally between a powered electrode and a grounded plate, a processing space separated from the plasma cavity by the grounded plate, and a substrate support in the processing space for holding the workpiece.例文帳に追加

本プラズマ処理システムの処理チャンバは、電力供給電極と接地板の間に一般的に配置されたプラズマ・キャビティを有するチャンバ蓋、プラズマ・キャビティから接地板で隔離された処理空間、および加工物を保持するための処理空間中の基板支持物を含む。 - 特許庁

The method for processing a semiconductor substrate includes a first processing step for polishing the metal layer on a barrier layer, a second processing step for oxidizing the metal layer left on the insulating layer by supplying an oxidizing processing liquid after the first processing step, and a third processing step for polishing the oxidized metal layer with a chemical/mechanical water system dispersing element after the second processing step.例文帳に追加

本発明の半導体基板の処理方法は、バリア層上の金属層を研磨する第１の処理工程と、前記第１の処理工程後において、前記絶縁層の上に残留する金属層を、酸化性の処理液を供給することにより酸化させる第２の処理工程と、前記第２の処理工程後において、酸化処理された金属層を、化学機械研磨用水系分散体を用いて研磨する第３の処理工程と、を含む。 - 特許庁

In the substrate processing device, a laterally elongated process station 10 is arranged at a system center part, and a loader 12 and an unloader 14 are coupled to both ends in the longitudinal direction (X-direction) of the process station 10.例文帳に追加

この基板処理装置は、横長のプロセスステーション１０をシステム中心部に配置し、その長手方向（Ｘ方向）の両端部にローダ１２およびアンローダ１４を連結している。 - 特許庁

To provide an elastomer valve structure constructed thin and operating with a minor force and to be fabricated easily compared with processing a silicon substrate, and also to provide a pumping system using the elastomer valve structure.例文帳に追加

薄型化が可能かつ小さい力で作動し、しかもシリコン基板プロセスに比べて比較的製作が容易なエラストマバルブ構造及びそれを用いたポンピングシステムを提供する。 - 特許庁

To provide an inexpensive semiconductor device using a packaging substrate in a double-layer structure assuring the stabilization and low signal noise of a power supply system for mounting a memory device and a data processing device.例文帳に追加

メモリデバイスとデータ処理デバイスを搭載するのに電源系の安定化と低信号ノイズを保証した２層構造の実装基板を用いた低コストな半導体装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a substrate processing system in which power utilization efficiency is enhanced without lowering throughput significantly and consumption of compressed air is reduced while enhancing maintainability.例文帳に追加

基板処理装置におけるスループットを大きく低下させることなく、電力の利用効率を向上させ、圧縮空気の消費量を低減し、さらに、装置のメンテナンス性を向上させること。 - 特許庁

To provide a sputtering system capable of directly measuring changes in the amount of target erosion with high precision when necessary after one stage of substrate processing while maintaining the vacuum of a vacuum vessel.例文帳に追加

真空容器の真空を維持したまま、基板処理の区切りで必要に応じてターゲットの侵食量の変化を、直接的に、精度よく計測可能なスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a sheet for cleaning a carrying system of various kinds of substrate treatment apparatuses and an exposure mask (reticle) in fine processing, and a cleaning method using the same.例文帳に追加

本発明は、例えば各種の基板処理装置や微細加工時の露光マスク（レチクル）の搬送系などをクリーニングするシート、及びこれを用いたこれらのクリーニング方法を提供する。 - 特許庁

The instructed substrate processing system A or B shifts behind the usage timing of the deionized water to a later time so that the total hourly consumption amount can fit within the maximum supply amount.例文帳に追加

指示された基板処理装置Ａ，Ｂでは、純水の使用タイミングを後ろにずらすので、時間あたりの合計消費量が最大供給量以内に収まるようにできる。 - 特許庁

To provide an aligner and an exposure system which can easily decide processing algorithm optimum for the image data of an image-picked-up mark and can properly position a mask and a substrate.例文帳に追加

撮像されたマークの画像データに対して最適な処理アルゴリズムを容易に定めることができ、マスクと基板とを良好に位置決めできる露光装置及び露光システムを提供する。 - 特許庁

The member 50 constituting at least a portion of the substrate processing system 100 includes a recording means (tag 51) for recording an identification code 5 for identifying the member 50 in a readable state.例文帳に追加

基板処理系１００の少なくとも一部を構成する部材５０は、その部材５０を識別する識別コード５を読み取り可能に記録する記録手段（タグ５１）を備える。 - 特許庁

A sensor array which is formed by arranging a plurality of ISFETs 4 and a signal processing part 5 which is composed of an analog multiplexer, and an amplifier system, are formed on one semiconductor substrate 2 so as to be changed into one chip.例文帳に追加

一つの半導体基板２に、複数のＩＳＦＥＴ４を配列してなるセンサアレイと、アナログマルチプレクサおよびアンプ系からなる信号処理部５を形成し、ワンチップ化した。 - 特許庁

To provide a tape that cleans, for example, a transfer system of any substrate processing apparatus and of an exposure mask (reticule) during microprocessing, and to provide a method for cleaning these with the same.例文帳に追加

本発明は、例えば各種の基板処理装置や微細加工時の露光マスク（レチクル）の搬送系などをクリーニングするテープ、及びこれを用いたこれらのクリーニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method without causing occurrence of a foreign material on a surface of a substrate even when annealing is performed by a batch processing system using a vertical annealing furnace.例文帳に追加

縦型アニール炉を使ったバッチ処理方式によってアニールを行った場合にも基板表面に異物が発生することがない、半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The substrate processing system 1 is provided with a carrying area 6 consisting of a bottom carrying area where a carrying robot TR can move horizontally, and a central carrying area 6b where the carrying robot TR can move vertically.例文帳に追加

基板処理装置１に、搬送ロボットＴＲが水平移動可能な底部搬送エリアと、鉛直移動可能な中央部搬送エリア６ｂとからなる搬送エリア６を設ける。 - 特許庁

The quality management system for monitoring environment information of a clean room provided with a substrate manufacturing processing apparatus and suppressing occurrence of a defective substrate due to the environment includes an inspection result management DB, an apparatus data management DB, a result information analysis DB, a quality monitoring system and a process control system.例文帳に追加

基板の製造処理装置が設置されているクリーンルームの環境情報を監視して環境起因による不良基板の発生を抑制するための品質管理システムであって、 検査結果管理ＤＢと、装置データ管理ＤＢと、実績情報分析ＤＢと、品質監視システムと、工程制御システムを備えたことを特徴とする品質管理システム。 - 特許庁

To provide semiconductor manufacturing equipment, a semiconductor manufacturing system and a substrate processing method, in which only a required amount of a substance, such as gas, liquid, or solid, which is directly or indirectly used for substrate processing, can be supplied, when required, and thereby reduction in size of supply equipment or transport equipment is realized.例文帳に追加

基板処理に直接的に又は間接的に使用される液体、気体又は固体等の物質を、必要な時に必要な量だけ供給可能にし、供給設備や輸送設備の小型化を実現することができる半導体製造装置、半導体製造システム及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁

The system 1 for processing a substrate comprises a shielding section 12 provided with a large number of micro openings 121b for jetting gas, a rotating base 11 having pins 112 secured to a rotary base 111, a motor 21 for rotating the rotary base 111, and a supply pipe 311 for jetting processing liquid towards the lower surface of a substrate 9.例文帳に追加

ガスを噴出する微小な噴出口１２１ｂが多数形成された遮蔽部１２、回転台１１１に固定されたピン１１２を有する回転ベース１１、回転ベース１１を回転させるモータ２１、および、基板９の下面に向けて処理液を吐出する供給管３１１を基板処理装置１に設ける。 - 特許庁

In a substrate processing system for controlling a plurality of substrate processing apparatuses in a centralized manner through a group control device 20, the group control device 20 acquires various parameters from a comparison source apparatus A1 and a comparison destination apparatus A2 via a communication interface and displays an apparatus parameter collective comparison screen 40 on a display device 25.例文帳に追加

複数台の基板処理装置を群管理装置２０によって集中管理する基板処理システムにおいて、群管理装置２０は比較元装置Ａ１と比較先装置Ａ２から各種パラメータを通信インタフェースを介して取得し、装置パラメータ一括比較画面４０を表示装置２５に表示させる。 - 特許庁

To provide a substrate processing system easily transferring a received telegram message to a predetermined transfer destination without discard of the telegram message by a group management device even when a telegram message classification code in the telegram message received from a substrate processing device or a terminal device is not defined in a data format list memorized in the group management device.例文帳に追加

基板処理装置又は端末装置から受信した電文中の電文区分コードが、群管理装置で記憶するデータ形式リストにて未定義であっても、群管理装置がその受信電文を破棄することなく、簡易にその受信電文を所定の転送先に転送することが可能な基板処理システムを提供する。 - 特許庁