「substrate processing system」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a liquid crystal substrate inspection system precisely selecting a liquid crystal substrate and improving processing efficiency after inspection.例文帳に追加

精度の高い液晶基板の選別を行うことができ、検査後の処理能率の向上が可能な液晶基板の検査システムを提供する。 - 特許庁

The substrate processing system 10 is provided with a substrate processor 1, an information storage server 2 and a support computer 3, which are connected to a network 6 respectively.例文帳に追加

基板処理システム１０は、基板処理装置１と情報蓄積サーバ２とサポートコンピュータ３とを備え、それぞれネットワーク６に接続される。 - 特許庁

To provide a substrate inspection system, a program, and a computer readable storage medium capable of handling, at a low cost, displacement of a substrate in a processing device, with no alteration of the processing device nor additional function.例文帳に追加

処理装置内における基板の位置ズレを、処理装置の改造や機能追加なしに、低コストで実現する基板検査システム、プログラム及びコンピュータ可読記憶媒体を提供すること。 - 特許庁

The substrate processing room 33, the substrate retainer 41, the retainer posture transforming mechanism 43 and the retainer moving mechanism 45 constitute a unit 5 which can be removed integrally from the processing system 1 body.例文帳に追加

基板処理室３３，基板保持体４１，保持体姿勢変換機構４３及び保持体移動機構４５は，処理システム１本体から一体的に取り外し可能なユニット５を構成する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which drops chemical liquid onto the substrate and processes the substrate by rotating the substrate, and reduces suspended mist without disturbing the environment in the substrate processing apparatus, and a coating development system comprising the same.例文帳に追加

基板に薬液を滴下し、基板を回転することによって基板を処理する基板処理装置であって、当該基板処理装置内の環境を大きく乱すことなく浮遊ミストを低減することが可能な基板処理装置およびこれを備える塗布現像システムを提供する。 - 特許庁

To provide a system for recovering processing liquid in which recovery efficiency of the processing liquid can be enhanced without deteriorating the quality of a substrate.例文帳に追加

基板の品質を劣化させることなく、処理液の回収効率を向上することが可能な処理液の回収装置を提供する。 - 特許庁

A system for processing a substrate 1 has a conveying arm 52 and a gas supply system 60 in an atmospheric system conveyor 3, and a shifting arm 70 and the gas supply system 72 in a load locking chamber 4.例文帳に追加

基板処理システム１は、大気系搬送装置３内に搬送アーム５２とガス供給系６０とを、ロードロック室４内に移載アーム７０とガス供給系７２とを備える。 - 特許庁

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, PARAMETER MANAGEMENT SYSTEM THEREFOR, PARAMETER MANAGEMENT METHOD THEREFOR, PROGRAM, AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加

基板処理装置、基板処理装置のパラメータ管理システム、基板処理装置のパラメータ管理方法、プログラム、及び記憶媒体 - 特許庁

SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, CONTROLLER, SETTING INFORMATION MONITORING METHOD, AND STORAGE MEDIUM WITH SETTING INFORMATION MONITORING PROGRAM STORED例文帳に追加

基板処理システム、制御装置、設定情報監視方法および設定情報監視プログラムを記憶した記憶媒体 - 特許庁

To provide a fault prediction system and a fault prediction method which can excellently predict a fault of a substrate processing apparatus.例文帳に追加

良好に基板処理装置の故障を予知できる故障予知システムおよび故障予知方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist film drying system which can substantially reduce the processing time that is required for a single glass substrate.例文帳に追加

一枚のガラス基板に要する処理時間の短縮が大幅に可能なレジスト膜乾燥システムを提供する。 - 特許庁

INFORMATION DISPLAY METHOD, INFORMATION DISPLAY PROGRAM, INFORMATION DISPLAY APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING SYSTEM AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

情報表示方法、情報表示プログラム、情報表示装置及びデバイス製造システム、並びに基板処理装置 - 特許庁

METHOD OF DEPOSITING LOW-PERMITTIVITY FILM, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, METHOD OF FORMING DUAL DAMASCENE STRUCTURE, AND DUAL DAMASCENE STRUCTURE例文帳に追加

低誘電率膜の堆積処理方法、基板処理システム、デュアルダマシン構造の形成方法、およびデュアルダマシン構造 - 特許庁

The substrate processing apparatus also includes a substrate supply arranged to output at least one unbroken length of substrate, and a substrate conveying system arranged to convey each outputted unbroken length of substrate from the substrate supply and past the projection system such that the projection system is able to project the patterned beam onto a series of target portions along each unbroken length of substrate.例文帳に追加

また、基板処理装置は、少なくとも１つの完全な長さの基板を送り出すようになされた基板サプライと、投影システムがパターン化されたビームを個々の完全な長さの基板に沿った一連の目標部分に投射することができるよう、基板サプライから送り出される個々の完全な長さの基板を投影システムの先へ搬送するようになされた基板搬送システムとを備えている。 - 特許庁

Further, the manufacturing methods for the substrate, an electrical assembly using the substrate, a multilayered circuit assembly that has used the substrate, and an information processing system (e.g., a main-frame computer) are disclosed.例文帳に追加

さらに、前記基板と、その基板を使用した電気組立体と、その基板を使用した多層回路組立体と、情報処理システム（例えばメインフレームコンピュータ）の製造方法の提供をする。 - 特許庁

To improve throughput by shortening a cycle time up to starting carrying from carrying-in of a substrate, in a substrate carrying device for flatly flowing and carrying a processing object substrate one by one in a singled sheet system.例文帳に追加

枚様式に１枚ずつ被処理基板を平流し搬送する基板搬送装置において、基板搬入から搬送開始までのタクトタイムを短縮し、スループットを向上する。 - 特許庁

To provide a cleaning method which can simply and certainly adsorb and remove a foreign matter adhered to the treatment table or the substrate transfer system of a substrate processing apparatus.例文帳に追加

基板処理装置の処理テーブルや基板搬送系に付着している異物を簡便かつ確実に吸着除去できるクリーニング方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the infiltration of a liquid between a substrate and a holder even when the liquid is filled in between a projection optical system and the substrate to perform an exposure processing.例文帳に追加

投影光学系と基板との間を液体で満たして露光処理する場合においても、基板とホルダとの間に液体が浸入することを防止する。 - 特許庁

The substrate processing system includes a substrate processing device which processes and carries a substrate and a management device which manages the substrate processing device, wherein the substrate processing device outputs data indicating a processing state and a carrying state of the substrate, and a transfer state of the output data is measured on a plurality of transfer paths extending from the place where the output data is output to the management device, to display measurement results.例文帳に追加

基板を処理して搬送する基板処理装置と、該基板処理装置を管理する管理装置とを有する基板処理システムであって、前記基板処理装置は、前記基板の処理状態及び搬送状態を示すデータを出力し、前記出力したデータの転送状態を、前記出力したデータを出力した箇所から前記管理装置へ至る複数の転送経路で計測し、前記計測した結果を表示する基板処理システムを提供する。 - 特許庁

Preferably, the system is positioned integrally in the processing system, to allow substrate inspection during normal operation and provide real-time information.例文帳に追加

望ましくは、本発明は、通常動作中に基板検査を可能にしリアルタイムの情報を供給する処理システムに、一体化されて配置される。 - 特許庁

The carrying system includes a production facility for small lot size semiconductor devices having a plurality of processing tools, and a high speed transportation system being adapted to transport small lot size substrate carriers between the processing tools.例文帳に追加

複数の処理ツールと、処理ツール間で小ロットサイズ基板キャリヤを輸送するように適合される高速輸送システムとを有する小ロットサイズ半導体デバイス製造施設を含む。 - 特許庁

The substrate processing equipment has a system for supplying first processing gas containing trimethyl aluminum and second processing gas containing oxygen (O) alternately into a chamber for processing a wafer, and an exhaust system 250 and forms a thin film of aluminum oxide on the wafer.例文帳に追加

基板処理装置は、ウェハを処理する処理室内に、トリメチルアルミニウムを含む第１の処理ガスと、酸素（Ｏ）を含む第２の処理ガスとを交互に供給するガス供給系と、排気系２５０とを有し、ウェハ上に酸化アルミニウムの薄膜を形成する。 - 特許庁

To make compact a substrate processing system while reducing the cost by delivering a substrate using a single carrying arm even when a plurality of types of containing section or processing section having different type of substrate holding structure exist.例文帳に追加

基板の保持構造のタイプが異なる複数種類の収納部や処理部が存在する場合であっても、単一の搬送アームで基板の受け渡しを行うことにより、装置構成のコンパクト化と低コスト化を図ることを目的とする。 - 特許庁

To provide a system for processing substrate in which temperature control of units for processing substrates in the vicinity of normal temperature can be performed precisely.例文帳に追加

常温付近で基板に対して処理を行うための処理ユニットにおける温度制御を精密に行うことができる基板処理装置の提供。 - 特許庁

To provide a substrate conveyance apparatus and a substrate conveyance method that can convey substrates more quickly from a first substrate storage portion to a second substrate storage portion and to provide a substrate processing system improved in throughput.例文帳に追加

第１基板収容部から第２基板収容部への基板の搬送をより迅速に行うことができる基板搬送装置および基板搬送方法、ならびにスループット（処理能力）を向上させることができる基板処理システムを提供する。 - 特許庁

The method of eliminating volatile residues from a substrate includes a step of preparing a processing system with a vacuum-tight platform, a step of processing a substrate through a chemistry including halogen in a processing chamber of the platform, and a step of processing the processed substrate in the platform and discharge volatile residues from the processed substrate.例文帳に追加

一実施形態において、基板から揮発性残渣を除去する方法は、真空気密プラットフォームを持つ処理システムを準備するステップと、プラットフォームの処理チャンバ内で基板をハロゲンを含む化学で処理するステップと、処理された基板をプラットフォーム内で処理して、処理された基板から揮発性残渣を放出させるステップと、を含む。 - 特許庁

This system includes: a glass substrate 3 attached to a display panel; a circuit substrate 1 connected to the glass substrate 3 via a flexible substrate 2; an image display driver IC5 for driving a switching device mounted on the glass substrate 3; and an image processing IC4 mounted on the circuit substrate 1.例文帳に追加

表示パネルに装着されるガラス基板３と、ガラス基板３とフレキシブル基板２を介して接続された回路基板１と、ガラス基板３に実装されたスイッチングデバイスを駆動するための画像表示ドライバＩＣ５と、回路基板１に実装された画像処理ＩＣ４とを備える。 - 特許庁

To provide a small surface processing system for substrate in which installation space is reduced and utilization of work space is enhanced.例文帳に追加

設置スペースが少なく作業用スペースの活用度が向上する小型の基板用表面処理システムを提供すること。 - 特許庁

To provide a system for processing a substrate capable of preventing the deterioration of a productivity by lot charges corresponding to statuses.例文帳に追加

状況に応じたロット投入を行うことにより、生産性の低下を防止できる基板処理システムを提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of operating from two different positions without complicating a control system.例文帳に追加

制御系を複雑化することなく、異なる２つの位置から操作を行うことができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To realize high throughput, while preventing stagnation of substrates in a substrate-processing chamber by employing an in-line type semiconductor manufacturing system.例文帳に追加

インライン型半導体製造装置を採用して、基板処理室内の基板滞留を防止しつつ、高スループット化を図る。 - 特許庁

To provide a substrate processing system which allows to easily confirm a place and a cause of occurrence of data transfer defect.例文帳に追加

データ転送異常の発生箇所や発生原因を容易に確認することができる基板処理システムを提供する。 - 特許庁

To provide a technology of suppressing breakage of an induced element constituting a substrate processing device using an induction heating system.例文帳に追加

誘導加熱方式を使用した基板処理装置を構成する被誘導体の破損を抑制できる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a foreign substance removing device, processing system, and foreign substance removing method, capable of effectively removing any foreign substance from a substrate.例文帳に追加

基板から異物を効果的に除去できる異物除去装置，処理システム，及び，異物除去方法を提供する。 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE, DEVICE AND METHODS FOR EXPOSING, AND METHODS FOR MANUFACTURING ELECTRONIC COMPONENT AND DEVICE例文帳に追加

基板処理システム、基板処理方法、露光装置、露光方法及び電子部品の製造方法並びにデバイス製造方法 - 特許庁

To provide a substrate processing system capable of preventing a mistake in setting a recipe and reducing a recipe set time.例文帳に追加

レシピの設定ミスの防止及びレシピの設定時間の短縮を実現することができる基板処理システムを提供する。 - 特許庁

To provide a device for storing and carrying a cassette for continuously supplying a substrate cassette to a processing system so that a system downtime is reduced or eliminated.例文帳に追加

システムダウンタイムが減少または無くなるように、連続して基板カセットを処理システムに供給する、カセットの保管および移動装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing system in which a process using copper and a process not using copper can be carried out in parallel using a single system while suppressing the diffusion of copper.例文帳に追加

１台の装置で銅の拡散を抑制して銅使用プロセスと銅不使用プロセスとを並行して行うことができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

In a processing chamber, there is arranged inside a susceptor 11 on the anode side for holding a substrate Waf such as a semiconductor wafer and a glass substrate, with at least a feeding system 12 and an exhaust system 13 of a discharge gas connected to it.例文帳に追加

処理チャンバ１０は、内部に半導体ウェハ、ガラス基板など基板Ｗａｆを保持するアノード側のサセプタ１１を配し、少なくとも放電ガスの供給系１２及び排気系１３が繋がる。 - 特許庁

To provide a substrate processing system which can increase the number of substrates to be processed per unit time because a first substrate transport device or a second substrate transport device can access a substrate housing mechanism efficiently.例文帳に追加

第１の基板搬送装置や第２の基板搬送装置が基板収容機構に効率的にアクセスすることができるようになり、このため単位時間あたりの基板の処理枚数を多くすることができる基板処理システムを提供する。 - 特許庁

To provide a communication system between a main substrate and a sub substrate in a Pachinko game machine or others, which protects confidentiality and ensures integrity of communication data, while ensuring the integrity of processing by the sub substrate.例文帳に追加

遊技機、特にパチンコ機におけるメイン基板とサブ基板との間の通信において、通信データの機密性及び完全性を確保し、さらに、そのサブ基板における処理内容の完全性を確保する。 - 特許庁

In the system 1 for processing a substrate, a substrate W is supported by a plurality of drive pins 12 butting against the outer circumferential edge of the substrate W on a rotary supporting plate 11 to regulate movement in the horizontal direction.例文帳に追加

基板処理装置１において、基板Ｗは回転支持板１１上で基板Ｗの外周端縁に当接して水平方向への移動を規制する複数個の駆動ピン１２に支持される。 - 特許庁

Thus, various sections of the substrate 114 are exposed through the various groups of the projection system 108, whereby a high processing amount is obtained in a relatively slow substrate moving speed and a relatively small substrate movement.例文帳に追加

したがって、基板１１４の種々の区間は投影システム１０８の種々のグループによって露光されて、比較的遅い基板移動速度及び比較的小さな基板移動で、高い処理量が得られる。 - 特許庁

In the system and method for processing a substrate, a substrate is disposed within a treatment space in the treatment chamber, and a material layer, such as titanium-containing layer, is deposited on the substrate by PECVD.例文帳に追加

基板を処理する装置及び方法であって、処理室の処理空間内に基板を位置し、チタン含有層のような材料層をプラズマ励起化学気相成長を用いて基板上に成膜する。 - 特許庁

To provide a substrate processing system, for improving processing speed, and decreasing costs and complexity of an apparatus, and/or reducing such possibility that a substrate will be exposed to fine particles, by improving speed and reliability in the case of handling the substrate.例文帳に追加

基板のハンドリングに際し、速度と信頼性とを改善することによって、処理速度を改善し、機器のコストおよび複雑さを減少させ、および／または、基板が微粒子に曝される可能性を減少させる基板処理システムを提供する。 - 特許庁