「substrate processing system」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

In this temperature detection device 10, a temperature detection element 11 is equipped in a casing 110 with a substrate 120, the first optical system 131, the second optical system 132, the first Si photodiode 141, the second Si photodiode 142 and a signal processing part 150.例文帳に追加

温度検出装置１０は、温度検出素子１１において、筐体１１０内に、基板１２０，第１光学系１３１，第２光学系１３２，第１Ｓｉフォトダイオード１４１，第２Ｓｉフォトダイオード１４２および信号処理部１５０を備える。 - 特許庁

To provide a television broadcast receiver which is the television broadcast receiver with a digital tuner, and is improved in cost reduction by miniaturization of a digital signal processing substrate, and reduction of effect to an analog signal system of noise occurred in a digital signal system.例文帳に追加

デジタルチューナを備えたテレビ放送受信装置であって、デジタル信号処理基板の小型化によるコスト低減、及び、デジタル信号系で発生するノイズのアナログ信号系への影響の低減が図られたテレビ放送受信装置の提供。 - 特許庁

In a system performing plasma processing by exciting plasma in an enclosed vacuum chamber, beveling amount at the corner part of a lower electrode for mounting a substrate being processed is set higher than that at the corner part of the substrate being processed.例文帳に追加

密閉された真空槽内にプラズマを励起させてプラズマ処理を行うプラズマ処理装置において、被処理基板を載置する下部電極の角部の面取り量が前記被処理基板の角部の面取り量よりも大きくなるように構成したことを特徴とする。 - 特許庁

The antenna freeder circuit is provided with a Si group substrate 1, high frequency semiconductor integrated circuits 2, 3 and a digital integrated circuit 4 that are formed integrally inside or on the surface of the Si group substrate 1, a system processing integrated circuit 11 and a dielectric multi-layer board 24.例文帳に追加

アンテナ給電回路はＳｉ系基板１と、Ｓｉ系基板１内部あるいは表面に一体に形成された高周波半導体集積回路２，３およびデジタル集積回路４と、システム化集積回路１１と、誘電体多層基板２４とを備えている。 - 特許庁

The substrate processing system comprises the reaction pipe 203 which forms a space where a substrate is housed and processed, and a pipe 275 which extends penetrating the wall constituting the reaction pipe 203 from inside to outside the reaction pipe 203.例文帳に追加

この様に反応管から突出した管は、ウェット洗浄時に開口端部から薬液が侵入したり、又、反応管の保管時や搬送時に前記突起部が破損したり、又、反応管の保管時や搬送時に前記開口端部から異物が侵入したりする虞があった。 - 特許庁

The substrate processing system comprises a heat treatment furnace 50, a seal cap 1 for enclosing the heat treatment furnace 50, a flange 2 under the seal cap 1, bolts 12 for supporting a substrate, a shaft 4 penetrating the seal cap 1 and rotating the bolts 12, and a magnetic seal part 3 fixed to the shaft 4.例文帳に追加

熱処理炉５０と、熱処理炉５０を密閉するシールキャップ１と、シールキャップ１の下のフランジ２と、基板を支持するボート１２と、シールキャップ１を貫通しボート１２を回転させるシャフト４と、シャフト４に取り付けられた磁気シール部３とを備える。 - 特許庁

To provide an image processing device to be made compact as a whole by making a mechanical system in minimum size so as to fit to a mounted control substrate without changing constitution as far as possible even when the different kind (size, specification or the like) of control substrate is mounted.例文帳に追加

種類（サイズ、スペック等）の異なる制御基板が搭載された場合にも、可能な限り構成を変更せずに、搭載される制御基板に合わせて機械系を最小サイズにして、全体をコンパクト化することができる画像処理装置を提供する。 - 特許庁

To set time-process conditions at desired values without causing rear-ender of substrates on a transport path in a flat flowing-system development processing, i.e., the movement of a substrate is temporarily suspended and a developer is supplied.例文帳に追加

基板を一時停止させて現像液供給を行う平流し方式の現像処理において搬送路上で基板の追突事故を起こさずに時間的なプロセス条件を所望の値に設定すること。 - 特許庁

To provide a development apparatus which can remove the liquid developer on a substrate even if the operation is stopped due to action of a fail-safe mechanism, or the like, and to provide an application development processing system provided with the development apparatus.例文帳に追加

フェイルセーフ機構等の作動により動作が停止した場合であっても、基板上の現像液を除去することが可能な現像装置およびこれを備える塗布現像処理システムを提供する。 - 特許庁

In the substrate processing system, by applying a negative pressure to the inside of a carrier door 2 of a wafer carrier through a hole 23 provided in the carrier door 2 or through latch-key holes 5, foreign matters are so sucked as to prevent them from going out from latch opening portions to the external.例文帳に追加

ウェーハキャリアのキャリアドア２に設けた穴２３またはラッチキー穴５を通してキャリアドア内部に陰圧を加えて吸引し、異物がラッチ開口部から外部に出ていくことを防止する。 - 特許庁

The ultrasound probe includes a micro-machined ultrasound transducer formed on the surface of a substrate using a micro-electric mechanical system techniques or other techniques with semiconductor processing.例文帳に追加

超音波プローブ（１６）は、超小型電気機械システム技術又は半導体処理に関連した他の技術を使用して基板の表面上に形成された超微小機械加工超音波トランスデューサを含む。 - 特許庁

In a substrate processing device, a first gas supply system 3 supplies PH_3 gas containing the phosphorus to a wafer W, for doping the film to be processed with the phosphorus by annealing process with a heater 2.例文帳に追加

基板処理装置において、第１ガス供給系３は、ヒータ２によるアニール処理によって被処理膜へ燐をドープするためにウエハＷに対して燐を含むＰＨ_３ガスを供給する。 - 特許庁

This film forming device 10 is connected to a material supply source 30, and provided with a nozzle 14 for emitting material into a processing chamber 12 where the substrate 11 is disposed, and a pressure control system 13 for controlling the interior of the processing chamber 12 to have a lower pressure than the inside of the nozzle 14.例文帳に追加

膜形成装置１０は、材料供給源３０に接続され、基体１１が配置される処理室１２内に材料を放出するノズル１４と、処理室１２内をノズル１４内よりも低い圧力に制御する圧力制御系１３とを備える。 - 特許庁

Further, when the transport chamber 31 is evacuated by a mechanical booster pump 44 and a rotary pump 46 to several Pa, the gate valve 22 is opened to transport the substrate between the transport chamber 31 and the processing chamber 1 while the processing chamber 1 is being exhausted by the evacuation system 50.例文帳に追加

また、搬送室３１がメカニカルブースタポンプ４４およびロータリーポンプ４６によって数Ｐａに排気されているとき、処理室１を排気装置５０によって排気しながら仕切弁２２を開けて基板を搬送室３１と処理室１との間で搬送する。 - 特許庁

In another embodiment, the conductive elastomeric member is attached to a bracing member of the isolation valve and is brought into contact with a grounded component of the plasma processing system when the bracing member is deployed to hold the isolation valve door in place during substrate processing.例文帳に追加

別の実施形態では、導電性エラストマー部材は、アイソレーションバルブの突っ張り部材に取り付けられ、この突っ張り部材が基板処理中にアイソレーションバルブドアを位置保持するように配置されたときにプラズマ処理システムの接地された要素に接触させられる。 - 特許庁

The image processing apparatus comprises a first semiconductor substrate provided with a system control section including a CPU, an image expansion circuit, an image processing circuit, and a second semiconductor substrate provided with a multiplexer or a selector for switching the path to a memory interface, and a plurality of memory interfaces for connection with a memory module or a memory device.例文帳に追加

ＣＰＵを含むシステム制御部を備えた第一の半導体基板と、画像伸張回路と、画像処理回路と、メモリインターフェースへのパスを切り替えるためのマルチプレクサまたはセレクタを持ち、メモリモジュールまたはメモリデバイスに接続するためのメモリインターフェースを複数持った第二の半導体基板と、を含んだことを特徴とする画像処理装置。 - 特許庁

To provide a cleaning device for preventing the attachment of a cleaning liquid to proximal ends being places where drying processing in holding members is hardly performed, during cleaning holding parts by injecting the cleaning liquid to the holding parts of the holding members for holding a substrate, and also to provide a substrate processing system, a cleaning method, a program, and a storage medium.例文帳に追加

基板の保持を行う保持部材の保持部に洗浄液が噴射されることによりこの保持部が洗浄されている間に、保持部材における乾燥処理が困難な箇所である基端部に洗浄液が付着してしまうことを防止することができる洗浄装置、基板処理システム、洗浄方法、プログラムおよび記憶媒体を提供する。 - 特許庁

A radiation detection system 6 structured by erecting one signal processing substrate 130 in a center of two detector modules 100 and 100 provided side by side in a channel direction includes a shield 122 at a position between the detector module 100 and the signal processing substrate 130 and covering a gap which may be generated when providing a plurality of detector modules 100 side by side.例文帳に追加

１つの信号処理基板１３０が、並設された２つの検出器モジュール１００，１００のチャンネル方向中央部に立設される構造の放射線検出システム６において、検出器モジュール１００と信号処理基板１３０との間であって、検出器モジュール１００を複数並設する際に生じる隙間を覆う位置に遮蔽体１２２を備える。 - 特許庁

The system includes a processing chamber for treating a semiconductor substrate with one or more process gases comprising water vapor, a means for delivering the water vapor or one or more precursors thereof to the processing chamber, an exhaust conduit connected to the processing chamber, an absorption spectroscopy system for sensing water vapor in a sample region, and a controller for controlling the water vapor content in the processing chamber.例文帳に追加

本装置は、半導体基板を、水蒸気を含む１または複数種のプロセスガスを用いて処理するためのプロセスチャンバーと、水蒸気または水蒸気の１もしくは複数種の前駆物質をプロセスチャンバーへ送出する手段と、プロセスチャンバーに接続された排気管と、サンプル領域において水蒸気を検出するための吸収分光装置と、プロセスチャンバー内部の水蒸気含有量を制御するための制御装置とを備える。 - 特許庁

A process control system 1 is equipped with: an ozone processing furnace 2 wherein the ozone-containing gas is supplied to the substrate 10, and irradiated with ultraviolet light; and an ozone concentration measuring part 3 for detecting the temperature of the substrate 10 based on an ozone concentration in the ozone-containing gas discharged therefrom.例文帳に追加

プロセス制御システム１は、基板１０に対してオゾン含有ガスが供されると共に紫外光が照射されるオゾン処理炉２と、これから排出されたオゾン含有ガス中のオゾン濃度に基づき基板１０の温度を検出するオゾン濃度測定部３を備える。 - 特許庁

To provide an image processor capable of improving reading image quality for higher image quality even in constitution that noise of a digital signal system easily exerts adverse effects to an analog system due to a small area of an electric substrate, and to provide also an image processing method and a storage medium.例文帳に追加

電気基板の面積が小さく、デジタルの信号系のノイズがアナログ系に悪影響を及ぼしやすい構成おいても、読み取り画質の高画質化を実現することができる画像処理装置、画像処理方法及び記憶媒体を提供すること。 - 特許庁

The connection state management system 300 comprises device controllers 270 which are provided to a plurality of substrate treating devices 100 processing wafers 200 respectively and control the respective substrate treating devices 100, and a monitor server 280 which is electrically connected to the respective device controllers 270 for the substrate treating devices 100 through LAN cables 292 and a hub 293.例文帳に追加

接続状況管理システム３００は、ウエハ２００を処理する複数の基板処理装置１００のそれぞれに設けられ、それぞれの基板処理装置１００を制御する装置コントローラ２７０と、各基板処理装置１００の各装置コントローラ２７０に、ＬＡＮケーブル２９２、ハブ２９３を介して電気的に接続されたモニタサーバ２８０とを有する。 - 特許庁

To provide a substrate processing device, a history information recording method, a history information recording program, and a history information recording system, which reduce a work load for cause finding work such as an abnormality.例文帳に追加

異常等の原因追跡作業に関する作業負担を軽減させることのできる基板処理装置、履歴情報記録方法、履歴情報記録プログラム、及び履歴情報記録システムの提供を目的とする。 - 特許庁

This working system comprises a laser working unit 220 for working to drilling a substrate 20, an information processing unit 210 for controlling the working unit 220, and an external storage unit 200 for previously storing managing information 201.例文帳に追加

本加工システムは、基板２０に孔加工を行うレーザ加工機２２０、レーザ加工機２２０を制御する情報処理装置２１０、管理情報２０１が予め格納された外部記憶装置２００、を有している。 - 特許庁

In a transfer system for performing transfers between an atmosphere side and a processing chamber 2 via an intermediate chamber 7, substrates are transferred by moving a substrate-holding tool 92 for holding two substrates 9 in a substantially vertically erected state.例文帳に追加

大気側と処理チャンバー２との間で中間チャンバー７を経由して搬送する搬送系は、２枚の基板９を垂直に近い角度に立てて保持する基板保持具９２を移動させて基板９を搬送する。 - 特許庁

This allows unevenness in plasma density distribution caused by the standing wave of the high frequency power formed on the high frequency coil 23 to be improved, thereby enabling the system to achieve an even plasma processing over the entire substrate.例文帳に追加

これにより、高周波コイル２３上に形成される高周波電力の定在波を原因とするプラズマ密度分布の不均一性が改善され、基板の全面にわたって均一なプラズマ処理が実現可能となる。 - 特許庁

In this temperature detection device 10, a temperature detection element 11 is equipped in a casing 110 with a substrate 120, an optical system 130, an InGaAs photodiode 141, an Si photodiode 142 and a signal processing part 150.例文帳に追加

温度検出装置１０は、温度検出素子１１において、筐体１１０内に、基板１２０，光学系１３０，ＩｎＧａＡｓフォトダイオード１４１，Ｓｉフォトダイオード１４２および信号処理部１５０を備える。 - 特許庁

The processing column system 10 includes an inlet, an outlet, a piston head 16 and a piston pressure chamber 26 for providing a controlled bed pressure to the piston head and thus to a substrate bed 36 positioned within the column.例文帳に追加

処理塔システム１０は、入口と、出口と、ピストンヘッド１６と、制御された床圧力をピストンヘッドに、ひいては塔内に配置されている基材床３６に提供するためのピストン圧力室２６と、を含んでいる。 - 特許庁

To provide a clustered vacuum treatment system with a high throughput which can convey a substrate rapidly to each vacuum treatment chamber and shift a conveyer carriage from a standby to processing.例文帳に追加

各真空処理室に基板を迅速に搬送することができ、搬送台車を円滑かつ迅速に待機状態から使用状態に移行させることができる高スループットのクラスタ型真空処理システムを提供する。 - 特許庁

If a predicted result of the equipment condition is equal to a predetermined threshold or larger, the system gives a warning or transmits a control command to make the equipment condition adjusted, to the substrate processing equipment 11 of which the equipment condition has deteriorated.例文帳に追加

装置状態の予測結果が所定の閾値以上である場合には、警告を発し、又は装置状態が悪化した基板処理装置１１に対して装置状態を調整させる制御コマンドを送信する。 - 特許庁

To provide a photoresist that has superior shape retainability during post baking and is also superior in plasma processability, and with which a half tone pattern used for processing of a display element substrate by a four-Mask system is formed.例文帳に追加

ポストベーク時の優れた形状保持性を有し、プラズマ加工性にも優れた４Ｍａｓｋ方式による表示素子基板加工に利用することができるハーフトーンパターンが形成可能なフォトレジストを提供する。 - 特許庁

To provide an electromagnetic wave shielding member having excellent electromagnetic wave shielding performance and suppressing propagation of vibration without making the apparatus and control complicated, and to provide an electromagnetic wave shielding method and a substrate processing system.例文帳に追加

装置及び制御の複雑化を招くことなく、電磁波遮蔽性能に優れ、且つ振動伝搬を抑制することが可能な電磁波遮蔽部材、電磁波遮蔽方法、及び基板処理システムを提供する。 - 特許庁

A system for processing a multilayer of a liquid crystal film display material is provided with UV irradiation apparatuses 60 for applying polarized UV irradiation onto a substrate fed from a web 16 at a desired angle.例文帳に追加

液晶ディスプレイフィルム材料の多重化層の加工に関するシステムであって、ウェブ１６から供給される機材上に、所望の角度で、偏光された紫外照射を適用するための放射装置６０を持つ。 - 特許庁

In this monitoring control system for executing monitoring control processing in response to the input/output operation of a substrate 130 for input/output mounted on each terminal 13, a server 10 automatically updates a substrate mounting database 110 in which information showing the substrate mounting state of each terminal 13 is stored in the case of adding or deleting the substrate 130a for input/output of the terminal 13 for change.例文帳に追加

各端末１３に実装された入出力用基板１３０の入出力動作に応じて、監視制御処理を実行する監視制御システムにおいて、端末１３の入出力用基板１３０ａの追加又は削除する変更時に、サーバ１０は、各端末１３の基板実装状態を示す情報を格納した基板実装データベース１１０を自動的に更新する構成である。 - 特許庁

In the liquid crystal supply system 100, an area inside a sealant 2 on a glass substrate 1 is first obtained with image data processing and subsequently the most suitable amount of the liquid crystal L to be dropped is calculated by multiplying the area by a cell gap.例文帳に追加

この液晶供給装置１００は、まず、ガラス基板１上のシール材２の内側の面積を画像処理により求め、続いて、この面積にセルギャップを乗じることで、液晶Ｌの最適な滴下量を計算する。 - 特許庁

To provide a closed booth that surely attains sealing properties, has a sealed working space formed therein, and improves operability of assembly and also to provide a substrate processing system using the closed booth.例文帳に追加

その内部に密閉された作業空間を形成するとともに、組み立てにおける作業性を良好としながら、確実に密閉性を実現できる密閉式ブースおよびこのような密閉式ブースを利用した基板処理システムを提供する。 - 特許庁

In this way, while preventing excessively early replacement of the whole stop components, replacement days for a plurality of whole stop components is reduced, and a stop duration of the substrate processing system due to replacement of the whole stop components can be shortened.例文帳に追加

これにより、全体停止部品を過剰に早く交換することを防止しつつ、複数の全体停止部品の交換日を減らし、全体停止部品の交換による基板処理システムの停止期間を短縮することができる。 - 特許庁

An array of DPC's of the present invention can be formed on a single substrate and used in an optical network, for example, a WDM system whereby plural light signals travelling through a single optical fiber are demultiplexed for processing.例文帳に追加

本発明によるＤＰＣのアレイはシングルの基板に形成可能であり、ＷＤＭシステムのような光ネットワークで使用可能であり、それにより１つの光ファイバを伝搬する複数の光信号が処理用に分離される。 - 特許庁

To provide a carrying system capable of miniaturizing a clean area and preventing bending and soiling of a flat panel without enlarging a carrying line and a foot print of a processing device even when the flat panel of a glass substrate, etc., is enlarged.例文帳に追加

ガラス基板等のフラットパネルが大型化しても、搬送ラインや処理装置のフットプリントが拡大することなく、クリーンエリアの極小化も可能で、また、フラットパネルの撓み、汚れを防ぐことができる搬送システムを提供すること。 - 特許庁

In the substrate processing system, the recipe generating part 51 generates the comparison recipe, which indicates a series of step actions of the plurality of action elements in the same recipe format as that of the instruction recipe, on the basis of output from the action acquiring part 55.例文帳に追加

基板処理システムでは、複数の動作要素の一連のステップ動作を指示レシピと同様のレシピ形式にて示す比較用レシピが、動作取得部５５からの出力に基づいてレシピ生成部５１により生成される。 - 特許庁

To provide a substrate processing system in which throughput can be prevented from lowering by drying rinse liquid quickly after a resin film is removed from the end edge part and the resin film can be removed well while preventing the rinse liquid from oozing out.例文帳に追加

端縁部から樹脂膜を除去した後にリンス液を迅速に乾燥させてスループットの低下を抑制できるとともに、滲み出しのない良好な樹脂膜除去処理を行うことができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

In the vacuum processing system 11 comprising first and second vacuum chambers 13, 15 independently, a cup-like structure 33 is provided upside down in the second vacuum chamber while surrounding the surface 27a of a substrate 27 to be treated.例文帳に追加

この互いに独立した第１及び第２真空室１３及び１５を具える真空処理装置１１では、第２真空室内に、椀を伏せた状態に基板２７の被処理面２７ａを囲い込む椀状構造体３３を有している。 - 特許庁

To lower the production cost of semiconductor devices by increasing in use of dummy substrates and controlling scattering of fragments of breakage at the time of substrate processing such as cleaning using a drum type rotating cleaning system.例文帳に追加

ドラム式回転洗浄装置を用いた洗浄等の基板処理の際において、ダミー基板の使用回数を増加させると共に破損した場合の破片の飛散を抑制することにより、半導体装置の製造コストを低減する。 - 特許庁

To provide a character recognition processing method with high accuracy which extracts identification character information on a component mounted on a substrate in a completed form after component mounting, and takes advantage of the fact that real-time characteristics are not required, and to provide an inexpensive system which facilitates traceability of the substrate by allowing the management of identification character information including a lot number of the component mounted on the substrate.例文帳に追加

部品の実装を終えた完成形の基板から実装された部品の識別文字情報を採取し、実時間性が求められないことを利用した精度の高い文字認識処理手法を提供し、基板に実装された部品のロット番号を含む識別文字情報の管理を行わせることで基板のトレーサビリティーを安易に可能とする安価なシステムを提供する。 - 特許庁

In the method for conveying a substrate employing a semiconductor production system where a substrate contained in a cassette is set in a sender S1 or S2, the substrate delivered from the sender S1 or S2 is processed through a plurality of processing units PEB to NC and contained in a cassette disposed on the side of a receiver R1 or R2, delivery timing from the sender S1 or S2 is controlled.例文帳に追加

カセットに収納された基板をセンダＳ１又はＳ２に配置し、そのセンダＳ１又はＳ２より搬出された基板を複数の処理ユニットＰＥＢ乃至ＮＣにて処理した後、レシーバＲ１又はＲ２側に配置されたカセットに収納する半導体製造装置を用いた基板搬送方法において、センダＳ１又はＳ２からの搬出タイミングの時間制御を行なう。 - 特許庁