「surface oxidation」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

According to the oxidized film, the oxidation from a metal surface under a high-temperature use environment is suppressed.例文帳に追加

この酸化皮膜によって、高温使用環境下での金属表面からの酸化が抑えられる。 - 特許庁

At this time, oxidation of the bottom surface end of the SOI layer 4 is suppressed.例文帳に追加

このとき、窒素導入層９ａによって、ＳＯＩ層４の底面端部の酸化が抑制される。 - 特許庁

To provide a method for forming an oxidation film completed in a short time and only to a required surface.例文帳に追加

短時間で完了しかつ必要な面のみに酸化膜を形成する方法を提供する。 - 特許庁

Next, a re-oxidation process is performed to grow an oxide layer on the surface of the SiN layer.例文帳に追加

次いで、再酸化工程が実施され、ＳｉＮ層の表面上に酸化層が成長される。 - 特許庁

Further, a Cr film is formed on the surface of Ag, so as to prevent oxidation and gas absorption.例文帳に追加

更に、Ａｇの表面にＣｒの被膜を形成し、酸化やガス吸着などを防止する。 - 特許庁

An SiO2 film 12 is formed on the surface of an Si substrate 10 by performing a thermal oxidation treatment.例文帳に追加

Ｓｉ基板１０の表面に、ＳｉＯ_2 膜１２が熱酸化処理によって形成されている。 - 特許庁

An oxide film 10 is formed on the surface of the wiring pattern 5 by the oxidation of the wiring pattern 5.例文帳に追加

前記配線パターン５表面に配線パターン５の酸化による酸化膜１０を形成する。 - 特許庁

The surface of the light shielding layer is oxidized by performing thermal oxidation processing to form an antireflection film 5.例文帳に追加

熱酸化処理を施して遮光層表面を酸化させ反射防止膜５形成する。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated circuit package, capable of suppressing oxidation of the surface of a solder ball.例文帳に追加

半田ボールの表面の酸化を抑制し得る半導体集積回路パッケージを提供する。 - 特許庁

To prevent change of microwave transmission characteristics, which is caused by oxidation on the inside surface of a microwave-waveguide.例文帳に追加

マイクロ波導波管の内面の酸化によるマイクロ波伝達特性の変化を防止する。 - 特許庁

Then, the trench surface is subjected to thermal oxidation treatment, thus making the upper end part C of the opening round.例文帳に追加

次に、トレンチ表面に熱酸化処理を施すことで、同開口上端部Ｃをラウンドさせる。 - 特許庁

More specifically, the surface of the Ta film is subjected to anodic oxidation, so that the TaO_x film is piled.例文帳に追加

より詳しくは、Ｔａ膜の表面を陽極酸化して、ＴａＯｘ膜を堆積させる。 - 特許庁

In this way, silicon-oxide film piling can be achieved while suppressing metal surface oxidation.例文帳に追加

これにより、金属表面の酸化を抑制しつつシリコン酸化膜を堆積させることが可能となる。 - 特許庁

An oxide film is grown on the dug surface of the silicon substrate by oxidation (S3-S5).例文帳に追加

酸化処理によって掘り下げられたシリコン基板の表面に酸化膜を成長させる（Ｓ３〜Ｓ５）。 - 特許庁

A surface of the layer or bonding pad is cleaned by removing an oxidation layer with a plasma.例文帳に追加

層又はボンディングパッドの表面が、プラズマで酸化層を除去することによって洗浄される。 - 特許庁

This forms a silicon oxidation film having a high density and a high stress on the workpiece surface.例文帳に追加

これにより、被処理体の表面に高密度で且つ高い応力のシリコン酸化膜を形成する。 - 特許庁

A liner oxide film 22 is formed on the inner surface of the element separation trench 21 by thermal oxidation method.例文帳に追加

素子分離トレンチ２１の内面に熱酸化法によりライナー酸化膜２２が形成される。 - 特許庁

Then, the metal film surface is subjected to anodic oxidation to form the dielectric layer.例文帳に追加

そしてその金属膜表面を陽極酸化することによって誘電体層の形成を行う。 - 特許庁

A second thermal oxidation film is formed on the surface of the trench, and the element isolation film is embedded in the trench.例文帳に追加

溝の表面に第２の熱酸化膜を形成し、その後、溝に、素子分離膜を埋め込む。 - 特許庁

The oxidation prevention layer 9 is formed under such conditions that the surface of the film 7 is not oxidized.例文帳に追加

酸化防止層９は、遮光膜７の表面が酸化されないような条件下で形成する。 - 特許庁

Thereafter, low-density ozone water is supplied onto the surface of the substrate W from the nozzle 50 for oxidation treatment.例文帳に追加

その後、基板Ｗ表面に酸化処理用ノズル５０から低濃度オゾン水が供給される。 - 特許庁

The oxidation film forming method is provided, in which, beforehand, the surface roughness of a silicon wafer and/or the crystallinity of the surface layer of the silicon wafer is measured, the oxidation conditions of the silicon wafer is adjusted according to the measured value, and the oxidation film is formed in the silicon wafer under the adjusted oxidation conditions.例文帳に追加

シリコンウェーハの酸化膜形成方法であって、予め、シリコンウェーハの表面ラフネス、及び／又は、シリコンウェーハ表層部の結晶性を測定し、測定値よりシリコンウェーハの酸化条件を調整して、調整した酸化条件下でシリコンウェーハに酸化膜を形成するシリコンウェーハの酸化膜形成方法を提供する。 - 特許庁

A surface-modified film 15 (SiO_2 heat-oxidized film) is formed on the surface of the Si substrate 12 by heat oxidation etc.例文帳に追加

Ｓｉからなる基板１２の表面に熱酸化等により表面改質膜１５（ＳｉＯ_２熱酸化膜）が形成される。 - 特許庁

The whole outer peripheral surface 113A of the body mold 113 is black and black plating or oxidation treatment is applied to the outer peripheral surface 113A of the body mold 113.例文帳に追加

胴型１１３の外周面１１３Ａ全面は黒色であり、黒色めっき或いは酸化処理が施されている。 - 特許庁

As a result, the upper surface edge part of the Si layer 2 can be oxidized without causing oxidation of a lower surface edge part of the Si layer 2.例文帳に追加

これにより、Ｓｉ層２の下面エッジ部の酸化を伴うことなくＳｉ層２の上面エッジ部を酸化することができる。 - 特許庁

Consequently, a side surface of the polysilicon 3a is removed by etching so that an oxidation portion formed on a side surface of the polysilicon 3a does not become an over hang shape relative to a side surface portion of the pad oxidation film.例文帳に追加

次に、ポリシリコン膜３ａの側面に形成される酸化膜の部分がパッド酸化膜の側面に形成される酸化膜の部分に対してオーバーハング形状にならないようにポリシリコン膜３ａの側面をエッチングにより後退させる。 - 特許庁

To provide a treatment liquid for forming an oxidation-resistant film on a surface-coated cermet member, which can easily form the oxidation-resistant film that can improve oxidation resistance while maintaining the superior performance of a titanium-based sintered body.例文帳に追加

チタン系焼結体の優れた性能を維持しつつ、耐酸化性を向上できる耐酸化膜を容易に形成することのできる、表面被覆サーメット部材の耐酸化膜形成用の処理液を提供する。 - 特許庁

(2) Regarding a portion where an outer surface oxidation scale thickness on the water-wall tube furnace side exceeds a given value, density of a tube inner surface oxidation scale is measured, a portion having a density of 4 g/cm3 or more forms an overheat damage portion.例文帳に追加

（２）水壁管火炉側外面酸化スケール厚さが所定値以上の部位について、管内面酸化スケールの密度を測定し、密度が４ｇ／ｃｍ^３以上の部位を過熱損傷部位とする。 - 特許庁

To suppress abnormal growth due to oxidation of an end surface of an exposed core layer by suppressing the oxidation of the end surface in selective growth and eliminating the need to use a halogen-based gas before the selective growth.例文帳に追加

選択成長において、露出しているコア層の端面の酸化を抑制し、選択成長前にハリゲン系ガスを用いる必要をなくし、端面の酸化に起因する異常成長を抑制する。 - 特許庁

A silicon oxide film 10 is formed on the rear surface and each end face of an n-type single crystal silicon substrate 1 by subjecting the rear surface of the n-type single crystal silicon substrate 1 to thermal oxidation or ozone oxidation.例文帳に追加

ｎ型単結晶シリコン基板１の裏面を熱酸化またはオゾン酸化することにより、ｎ型単結晶シリコン基板１の裏面および各端面に酸化シリコン膜１０を形成する。 - 特許庁

To provide a processing method capable of eliminating reprocessing for removing a surface with surface oxidation discoloration by preventing surface oxidation discoloration which occurs during cutting processing of a massive object composed of copper or copper alloy, and further capable of preventing surface oxidation discoloration in the atmosphere in a workpiece after cutting processing over a long period of time.例文帳に追加

銅または銅合金からなる塊状体の切断加工中に発生する表面酸化変色を防止することで、表面酸化変色が発生した面を除去する再加工をなくすことができるとともに、切断加工後の加工物における大気中での表面酸化変色を長期間にわたって防止することができる加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a carbon fiber that has a surface uniformly treated by electrolytic oxidation and excellent surface adhesiveness, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

表面が均一に電解酸化処理され界面接着性に優れた炭素繊維及び炭素繊維の製造方法を提供する。 - 特許庁

Thereby, since the surface of the metal foil can be favorably protected, it becomes possible to suppress oxidation of the surface effectively.例文帳に追加

これにより、金属箔の表面を良好に保護することができるので、表面の酸化を有効に抑制することが可能となる。 - 特許庁

A CVD oxidation film 3 is formed on the surface of a substrate 1 without directly forming the thermal oxide film on the surface of the substrate 1.例文帳に追加

基板１表面上に直接、熱酸化膜を形成するのではなく、基板１表面上に、ＣＶＤ酸化膜３を形成する。 - 特許庁

To provide a highly reliable surface-emitting laser which is resistant to oxidation from the wall of an element isolation trench.例文帳に追加

素子分離溝の壁面からの酸化がされにくい信頼性の高い面発光レーザーを提供する。 - 特許庁

For instance, for the boron, as it has a small segregation coefficient, the concentration in the vicinity of the surface decreases by an oxidation.例文帳に追加

例えばホウ素の場合、偏析係数が小さいので、酸化によって表面近くの濃度が減少する。 - 特許庁

An extremely thin oxide film 2 is formed by subjecting a surface of an Si substrate 1 to thermal oxidation (refer to Fig.(a) and (b)).例文帳に追加

Ｓｉ基板１の表面を熱酸化して極薄の酸化膜２を形成する（図(a) 及び(b) 参照）。 - 特許庁

As a result, the surface of the wiring 17 is protected, and the oxidation resistance of the wiring 17 is enhanced.例文帳に追加

これにより、金属配線１７の表面が保護され、金属配線１７の耐酸化性が向上する。 - 特許庁

The fixation planned range between the clamps 16 and 17 is subjected to surface oxidation with the heat associated with the current feed.例文帳に追加

電極クランプ１６，１７間の固定予定範囲は、通電に伴う熱により表面酸化する。 - 特許庁

The oxidation feedstock is made flaky form by increasing the surface area of the superalloy scrap.例文帳に追加

この超合金スクラップの表面積を拡大することにより、酸化用原料がフレーク状形態になる。 - 特許庁

To provide a sintered compact of aluminum nitride having a smooth surface and excellent in oxidation resistance and water resistance.例文帳に追加

表面が滑らかであり、耐酸化性、耐水性に優れた窒化アルミニウム焼結体を提供する。 - 特許庁

Moreover, the surface of the film is deposited with an oxidation preventing film composed of palladium or a palladium-silver alloy.例文帳に追加

また、前記膜の上に、パラジウムまたはパラジウム−銀系合金からなる酸化防止膜が形成する。 - 特許庁

After the surface is finished by grinding, water glass is applied on the part having no projection to form an oxidation-resistant film.例文帳に追加

表面研削仕上げした後、突起部のない部分に水ガラスを塗布して耐酸化膜を形成する。 - 特許庁

Then, the surface of the exposed semiconductor substrate 1 is subjected to oxidation treatment.例文帳に追加

次に、所定の条件のもとで、露出している半導体基板１の表面に酸化処理が施される。 - 特許庁

A LOCOS oxide film 6 is formed on the front surface of the silicon layer 5 by a LOCOS method (thermal oxidation method).例文帳に追加

ＬＯＣＯＳ法（熱酸化法）により、シリコン層５の表面にＬＯＣＯＳ酸化膜６が形成される。 - 特許庁