「surface oxidation」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

The base body 31 is provided with a silicon oxide film formed by thermal oxidation treatment on the surface of a silicon substrate with the penetration holes 32 formed.例文帳に追加

基体部３１は、貫通孔３２を形成したシリコン基板の表面に、熱酸化処理によりシリコン酸化膜を形成して作製する。 - 特許庁

By this, oxidation and reduction reaction are promoted because the surface area of the electrode increases, and the power generating efficiency of the fuel cell is improved.例文帳に追加

それにより、電極の表面積が増えることで酸化，還元反応が促進され、燃料電池の発電効率が向上する。 - 特許庁

On the surface of the electrode finger body 30, an anodic oxidation film 32 is formed by anodizing the electrode finger body 30.例文帳に追加

電極指本体３０の表面には、電極指本体３０を陽極酸化して形成した陽極酸化膜３２が設けてある。 - 特許庁

An oxidation-resistant coating layer is included which comprises one or two layers containing Cr of 50% or more on a surface layer of the steam turbine casing.例文帳に追加

蒸気タービンケーシングの表面層に50％以上のCrを含む一層又は二層からなる耐酸化性のコーティング層を有すること。 - 特許庁

To improve analytical accuracy in an electronic component, by preventing failure by an external factor such as oxidation of an analytical terminal surface.例文帳に追加

解析用端子表面の酸化等の外部要因による不良を防止し、電子部品の解析の精度を向上させることができる。 - 特許庁

At least the surface layer of the negative electrode collector 3 consumes a greater oxidation current per unit area than the active negative electrode.例文帳に追加

陰極集電体３の少なくとも表面層が、活性陰極よりも単位面積あたり大きな酸化電流を消費する。 - 特許庁

To provide an oxidation resistant component and method for creating an aluminum diffusion surface layer within substantially nickel- and cobalt-free components.例文帳に追加

実質的にニッケルとコバルトを含まない部品内にアルミニウム拡散表面層を創成するための耐酸化性部品及び方法の提供。 - 特許庁

Further, it is recommended to remove a natural oxidation film on the monocrystal surface by immersing it in a fluorine-ion containing aqueous solution before the heat treatment.例文帳に追加

また、熱処理前に、フッ素イオン含有水溶液に浸漬して、前記単結晶表面の自然酸化膜を除去しておくと良い。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a storage in which surface oxidation of a memory layer can be suppressed when the memory layer is divided.例文帳に追加

記憶層を分断加工する際に記憶層の表面酸化を抑えることが可能な記憶装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The thermal oxidation process is carried out under an atmosphere in which a substrate surface temperature is ≥850°C, and water concentration is ≥7% and ≤20%.例文帳に追加

熱酸化工程は、基板表面温度を８５０℃以上とし、水分濃度が７％以上で２０％以下の雰囲気下で行う。 - 特許庁

To provide a long-lasting die which has a surface coating film and has improved thermal crack resistance and oxidation resistance.例文帳に追加

耐熱亀裂性及び耐酸化性を同時に向上させる表面被膜を有する長寿命の金型等を提供することである。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device forms a LOCOS (local oxidation of silicon) film extended from the element forming region to the element isolation region on the surface of the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板表面に素子形成領域から素子分割領域に亘って延在するＬＯＣＯＳ膜を形成する。 - 特許庁

As a result, the film 31 having a thickness of about 12 nm is formed by accelerating oxidation on the surface of a source diffused layer 13S.例文帳に追加

この結果、ソース拡散層１３Ｓの表面には、増速酸化により厚さが１２ｎｍ程度のシリコン酸化膜３１が形成される。 - 特許庁

Next, a silicon thermal oxide film 5 is formed on the surface of the silicon nitride film 4 by executing the thermal oxidation process to the silicon oxide film 4.例文帳に追加

次に、シリコン窒化膜４に熱酸化処理を施すことにより、シリコン窒化膜４の表面にシリコン熱酸化膜５を形成する。 - 特許庁

An oxygen-rich surface may be formed adjacent to a silicon oxide layer by temporarily increasing oxidation of the organosilicon compound.例文帳に追加

有機シリコン化合物の酸化を一時的に増大させることによって酸化シリコン層の隣に酸素リッチ表面を形成してもよい。 - 特許庁

Thereafter, the surface of the Si substrate is thermally oxidized by RTO method as oxidation of a base to form a silicon oxide film (step S2).例文帳に追加

その後、下地酸化として、Ｓｉ基板の表面をＲＴＯ法により熱酸化することにより、シリコン酸化膜を形成する（ステップＳ２）。 - 特許庁

To provide a die or the like having a surface film simultaneously improving thermal crack resistance and oxidation-resistance and having a long life.例文帳に追加

耐熱亀裂性及び耐酸化性を同時に向上させる表面被膜を有する長寿命の金型等を提供することである。 - 特許庁

A silicon nitride film 5 exhibiting a high oxidation barrier characteristic is formed selectively on the surface of a silicon substrate 1 by subjecting the substrate 1 to a direct thermal nitriding process or the like.例文帳に追加

シリコン基板表面に選択的に酸化バリア性の高いシリコン窒化膜をシリコン基板の直接熱窒化等で形成する。 - 特許庁

A reflection film and an anti-reflection film formed with optical oxidation of the silicone soil are provided to both end portions and a side surface of this laser device.例文帳に追加

このレーザーの両端および側面にはシリコーンオイルの光酸化により形成した反射膜と反射防止膜が施されている。 - 特許庁

After a Ta_2O_5 film has been deposited on (002) the surface of Ru and low-temperature oxidation is performed, rapid nitriding process is performed at about 800°C.例文帳に追加

Ｔａ_2Ｏ_5膜をＲｕの（００２）面上に堆積し、低温酸化を行なった後、約８００°Ｃで急速窒化工程を行なう。 - 特許庁

The support 12 and the thermal oxidation film 17 on the surface of the support are removed, and a second semiconductor layer 6 is exposed, thus obtaining the SOI structure.例文帳に追加

その後、支持体１２とその表面の熱酸化膜１７とを除去し、第２半導体層６を露出させ、ＳＯＩ構造を得る。 - 特許庁

A graphite layer 24 formed on a surface of an Ni silicide film 23 is removed by vaporization of oxidation, reduction or overheating.例文帳に追加

Ｎｉシリサイド膜２３の表面に形成されたグラファイト層２４をスパッタ、酸化、還元もしくは過熱による気化によって除去する。 - 特許庁

When it is impregnated in the graphite electrode, consumption due to surface oxidation during operation of the electrode can be suppressed and prevented.例文帳に追加

これを黒鉛電極に含浸させれば、電極の操業中の表面酸化による消耗を抑制したり防止することができる。 - 特許庁

The oxidation apparatus 100 for manufacturing a surface-emitting type semiconductor laser includes: an oxidation furnace 30; a supporting section 32 provided in the oxidation furnace 30 to mount a workpiece 10; a gas supply section 34 for supplying an inert gas to the back surface of the workpiece 10; a steam supply section 38 for supplying steam to the surface of the workpiece 10; and a heating section 36 for heating the inert gas.例文帳に追加

本発明に係る面発光型半導体レーザ製造用酸化装置１００は、酸化炉３０と、酸化炉３０内に設けられ、被処理体１０を載置するための支持部３２と、被処理体１０の裏面に向けて、不活性ガスを供給するガス供給部３４と、被処理体１０の表面に向けて、水蒸気を供給する水蒸気供給部３８と、不活性ガスを加熱する加熱部３６と、を含む。 - 特許庁

To provide an oxidation apparatus for manufacturing a surface-emitting type semiconductor laser for maintaining the temperature in the plane of a workpiece uniformly and enhancing the in-plane uniformity of the oxidation rate of a semiconductor layer including aluminum and arsenic, and provide a method of manufacturing the surface-emitting type semiconductor laser for forming a high-quality current constriction layer by using the oxidation apparatus for manufacturing the surface-emitting type semiconductor laser.例文帳に追加

被処理体の面内における温度を均一に保ち、アルミニウムと砒素を含む半導体層の酸化速度の面内均一性を高めることができる面発光型半導体レーザ製造用酸化装置、およびその面発光型半導体レーザ製造用酸化装置を用いることにより、品質の高い電流狭窄層を形成することができる面発光型半導体レーザの製造方法を提供する。 - 特許庁

An oxidation-reduced copper layer 10 formed by applying reduction treatment to an oxide copper layer formed on the outer surface of a columnar electrode 9 is formed on the surface of the wiring 8 composed of copper and on the outer surface of the columnar electrode.例文帳に追加

銅からなる配線８の表面および銅からなる柱状電極９の外周面には、該外周面に形成された酸化銅層を還元処理してなる酸化還元銅層１０が設けられている。 - 特許庁

After providing a cooling hole on the nozzle segment 10, an oxidation-resistant film 24 is applied on a smoothed surface of the nozzle segment 10 so that an outermost surface having surface finish of less than Ra 2.0 μm is maintained.例文帳に追加

ノズルセグメント（１０）に冷却孔を穿孔した後、ノズルセグメント（１０）のの平滑化表面の上に、Ｒａ２．０μｍ未満の表面仕上げを有する最外表面が維持されるように耐酸化性皮膜（２４）を施工する。 - 特許庁

To provide a method for treating the surface of hulled rice or the like, by which a protecting layer having strong abrasion resistance and oxidation resistance is formed on the surface of the polished rice or grain in a micron- order thickness and simultaneously integrated with particulate starch adhered to the surface.例文帳に追加

精白米や粒状物の表面にミクロンオーダーの厚さの、摩耗や酸化に強い保護層を形成し、併せてこれに付着している微粉状の澱粉を保護層に合体させる処理方法を提供する。 - 特許庁

A silica ceramic layer 25 for protecting a mirror surface 22 from oxidation/decomposition action of photocatalyst is formed on the mirror surface 22 of a mirror body 23 and a photocatalyst containing layer 26 for imparting a hydrophilic property to the outer surface is formed.例文帳に追加

鏡面体２３の鏡面２２に、光触媒の酸化分解作用から鏡面２２を保護するシリカ質セラミックス層２５を形成し、外面に親水性を付与する光触媒含有層２６を形成する。 - 特許庁

There is provided a surface treatment method of producing a surface having a low binding property, which includes the steps of: subjecting the surface of a solid phase to an oxidation treatment to introduce an oxygen-containing functional group; and chemically activating the treated surface to render the surface reactive, and subsequently treating the surface with a polyalkylene glycol derivative or a polypeptide which can react with the surface.例文帳に追加

この方法は、固相表面を酸化処理して、含酸素官能基を導入する工程と、処理表面を化学的に活性化し、表面を反応性にした後、該表面と反応し得るポリアルキレングリコール誘導体、またはポリペプチドにより処理する工程を含む方法により、表面を低結合性にするという表面処理方法を提供する。 - 特許庁

By a function of the insoluble noble metal particles adhering to the surface of structural material, an anode current caused by hydrogen oxidation on the surface is increased, to lower a corrosion potential of the structural material.例文帳に追加

構造材表面に付着した不溶性貴金属微粒子の作用により、表面での水素酸化によるアノード電流が増加し、構造材の腐食電位が低減する。 - 特許庁

To provide a surface emission type laser technique having a structure which prevents oxidation from a side surface of an AlGaAs layer, AlAs layer or the like which constitutes a lower DBR reflector or the like and has a high Al composition.例文帳に追加

下部ＤＢＲ反射鏡等を構成するＡｌ組成の高いＡｌＧａＡｓ、ＡｌＡｓ等の層の側面からの酸化を防ぐ構造を有する面発光型レーザ技術の提供。 - 特許庁

The surface of a base material (including the one obtained by previously forming a substrate film on a base material) is subjected to metal ion bombardment treatment, thereafter, the surface is subjected to oxidation treatment, and subsequently, an alumina film is formed thereon.例文帳に追加

基材（基材上に予め下地皮膜が形成されたものを含む）表面にメタルイオンボンバード処理を施した後、表面を酸化処理し、その後にアルミナ皮膜を形成する。 - 特許庁

In this method for forming the antifouling layer on the surface of the coating film by coating a solution containing a hydrophilic material, the solution is coated after conducting an oxidation treatment on the surface of the coating film.例文帳に追加

塗膜の表面に親水性物質を含む液を塗布して防汚層を形成する方法において、該塗膜の表面に酸化処理を施した後、前記液を塗布する。 - 特許庁

The sliding surfaces sliding with a seal 71 of the reservoir cylinder 32 is anodized and surface roughness of the sliding surface becomes Rz 3.2 μm or less after applying anodic oxidation processing.例文帳に追加

リザーバシリンダ３２のシール７１との摺動表面に陽極酸化皮膜処理を施し、陽極酸化皮膜処理後の摺動表面の表面粗さをＲｚ３．２ミクロン以下とする。 - 特許庁

A tin-plated film 3 on a base metal 2 is subjected to oxidation or hydration treatment at room temperature, and a surface layer 5 of an oxide or a hydroxide is formed on the surface of the tin-plated film 3.例文帳に追加

下地金属２上の錫めっき皮膜３を室温で酸化又は水酸化処理して、錫めっき皮膜３表面に酸化物又は水酸化物の表面層５を形成する。 - 特許庁

To provide a method for depositing a stable aluminum oxidized film on the surface or in the vicinity of the surface of a TiAl-based alloy and to impart practically high oxidation resistance thereto at a low cost.例文帳に追加

ＴｉＡｌ基合金において、その表面若しくは表面近傍に安定な酸化アルミ皮膜を形成して、実用性の高い耐酸化性を低コストで付与する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface-coated cutting tool that is improved in chipping resistance and the accuracy of a finished surface by having excellent oxidation resistance and excellent lubricity in the high-speed cutting of a high-hardness material.例文帳に追加

高硬度材の高速切削加工で、すぐれた耐酸化性と潤滑性を備えることにより、耐チッピング性、仕上げ面精度の向上を図った表面被覆切削工具を提供する。 - 特許庁

To provide a surface treatment method for aluminum giving excellent corrosion resistance, heat resistance and abrasion resistance in an anodic oxidation treatment and a sealing treatment of the aluminum surface and to provide an aluminum material.例文帳に追加

アルミニウム表面の陽極酸化処理および封孔処理において、耐食性、耐熱性、および耐摩擦性に優れたアルミニウムの表面処理法およびアルミニウム材を提供する。 - 特許庁

The surface of a base material (including the one obtained by previously forming a substrate film on a base material) is subjected to gas ion bombardment treatment, thereafter, the surface is subjected to oxidation treatment, and subsequently, an alumna film is formed thereon.例文帳に追加

基材（基材上に予め下地皮膜が形成されたものを含む）表面にガスイオンボンバード処理を施した後、表面を酸化処理し、その後にアルミナ皮膜を形成する。 - 特許庁

Before applying the electrode active material on the surface of a conductive base material composed of titanium or a titanium alloy, the surface of the conductive base material is made porous by an electrolytic oxidation treatment.例文帳に追加

チタン又はチタン合金からなる導電性基体の表面に電極活性物質を被覆する前に、その導電性電極の表面を電解酸化処理により多孔質化する。 - 特許庁

To provide a surface-coated material exhibiting high shock resistance while suppressing oxidation degradation in a high-temperature range; to provide a cutting tool using the surface-coated material; and to provide a machine tool.例文帳に追加

高温領域での酸化劣化を抑えながらも高耐衝撃性を発現できる表面被覆材料及びこれを利用する切削工具並びに工作機械を提供する。 - 特許庁

On one side surface of the oxidation-resistant insulating film 8 facing the other side surface of the oxidation-resistant insulating film 8 provided with the P-type silicon film 11, a semiconductor substrate protruding portion 7 acting as a back gate channel portion BGC is provided over the semiconductor substrate 1 via an oxide film 10.例文帳に追加

Ｐ型シリコン膜１１が設けられる耐酸化性絶縁膜８の一側面と対向する耐酸化性絶縁膜８の他側面には、バックゲート・チャネル部ＢＧＣとしての半導体基板突起部７が半導体基板１上に酸化膜１０を介して設けられる。 - 特許庁

The oxidation-resistant coating member is formed of an oxidation-resistant coated film on the surface of a heat-resistant alloy substrate, wherein an α-Al_2O_3 layer in which each content of Co and Ni is one atom% or less, respectively is formed on the surface of the heat-resistant alloy substrate.例文帳に追加

耐熱合金基材の表面に、耐酸化皮膜を形成した耐酸化コーティング部材において、耐酸化皮膜表面に、ＣｏおよびＮｉの各含有量がそれぞれ１原子％以下であるα−Ａｌ_２Ｏ_３層を形成したことを特徴とする耐酸化コーティング部材である。 - 特許庁

The method for manufacturing the product made of the magnesium or magnesium alloy having an anodic oxidation coating on the surface comprises immersing the magnesium or magnesium alloy into an electrolyte containing 0.1 to 1 mol/L phosphoric radicals and having a pH 9 to 13 and subjecting the surface thereof to anodic oxidation treatment.例文帳に追加

リン酸根を０．１〜１ｍｏｌ／Ｌ含有し、ｐＨが９〜１３である電解液にマグネシウム又はマグネシウム合金を浸漬し、その表面を陽極酸化処理することを特徴とする、陽極酸化皮膜を表面に有するマグネシウム又はマグネシウム合金からなる製品の製造方法である。 - 特許庁