「surface oxide」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

The electrophotographic toner containing porous titanium oxide of ≥90 m^2/g in specific surface area by a BET method on particle surfaces as an external additive is used and thereby the titanium oxide is made hardly desorbable from the toner surface and even if the titanium oxide is desorbed, the toner surface is easily cleaned and therefore the occurrence of image staining is averted.例文帳に追加

粒子表面にＢＥＴ法による比表面積が９０ｍ^2／ｇ以上の多孔質酸化チタンを外添剤として含有する電子写真用トナーを使用することで、トナー表面から酸化チタンが脱離し難く、脱離しても容易にクリーニングされるために、画像汚れの発生が無い。 - 特許庁

The process described is characterized in that a silicon oxide layer (14) is applied to the surface of the aluminum component (10).例文帳に追加

本方法は、アルミニウム部品（１０）の表面に酸化ケイ素層（１４）を適用することを特徴とする。 - 特許庁

To provide an adhesive film for protecting silicon oxide film surface for epitaxial film formation which has an appropriate stickiness and adhesiveness to a silicon oxide film surface, which can be easily peeled when peeling and removing, and the impurity metastatic property derived from an adhesive film to the silicon oxide film surface after peeling is small.例文帳に追加

シリコン酸化膜面に対して適度な粘着性と密着性とを有し、剥離除去する際には容易に剥離することができ、且つ、剥離後のシリコン酸化膜面への粘着フィルム由来の不純物転移性が軽微であるエピタキシャル膜形成のためのシリコン酸化膜面保護用粘着フィルムの提供。 - 特許庁

The silicon oxide films 9 do not have shapes where the surfaces of the films 9 become smaller in height from the main surface 1S of the substrate 1.例文帳に追加

シリコン酸化膜９は基板１の主面１Ｓよりも落ち込んだ形状を有さない。 - 特許庁

It is no longer required to remove the naturally oxidized film on the surface by cleaning the amorphous silicon oxide film with hydrofluoric acid.例文帳に追加

アモルファス酸化シリコン層をフッ酸洗浄して表面の自然酸化膜を除去する必要がない。 - 特許庁

By using the polishing slurry, the polishing speed and polishing surface precision that are equivalent to cerium oxide or higher can be maintained.例文帳に追加

この研摩スラリーによれば、酸化セリウムと同等以上の研摩速度と研摩面精度を維持できる - 特許庁

Hereby, a foreign body or the like adhering to the base body 1 and the surface oxide micro particles 2 is removed.例文帳に追加

この結果、基体１及び表面酸化微粒子２に付着していた異物等が除去される。 - 特許庁

At least a surface of each fine particle is made of an insulating material other than silicon oxide.例文帳に追加

前記微粒子の少なくとも表面は、シリコン酸化物以外の絶縁材料によって形成されている。 - 特許庁

The surface of the silicon oxide film 7, and the other edge face of the pad 10 are made smooth and are flush with each other.例文帳に追加

シリコン酸化膜７の表面と、パッド１０の他端面は平滑な同一平面を形成する。 - 特許庁

Then, a field oxide film 4 is formed, and an emitter 6 and a base 7 are formed on the surface of the N-type well.例文帳に追加

次に、フィールド酸化膜４を形成後、Ｎ型ウェル表面にエミッタ６とベース７を形成する。 - 特許庁

First, a base wafer 1 and a bond wafer 2 are prepared, and an oxide film 3 is grown on the surface of the bond wafer 1.例文帳に追加

まず、ベースウェハ１とボンドウェハ２を準備し、ボンドウェハ１表面に酸化膜３を成膜する。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING SURFACE-TREATED OXIDE CONDUCTIVE THIN FILM AND PHOTOVOLTAIC ELEMENT USING THIN FILM例文帳に追加

表面処理された酸化物導電性薄膜の形成方法及び該薄膜を用いた光起電力素子 - 特許庁

The amorphous silicon oxide layer may be annealed with the excimer laser under the condition that the naturally oxidized film does not exist on the surface.例文帳に追加

表面に自然酸化膜が存在しない状態でアモルファス酸化シリコン層をエキシマレーザアニールできる。 - 特許庁

The oxide film 4a is decomposed by the fluoric acid vapor 6 and the surface of the silicon wafer 4 becomes hydrophobic.例文帳に追加

フッ酸蒸気６によって酸化膜４ａが分解し、シリコンウェーハ４の表面は疎水性となる。 - 特許庁

Consequently, a dense oxide coating having enhanced corrosion resistance is formed on the surface of the article being processed.例文帳に追加

その結果被処理体の表面には，密で耐食性の向上した酸化物被膜が形成される。 - 特許庁

To prevent an oxide film from being formed on the surface of components in the production of a metallic vacuum structure.例文帳に追加

金属製真空構造体の製造において構成部材の表面の酸化被膜形成を防止する。 - 特許庁

SURFACE-MODIFIED TITANIUM OXIDE HAVING SELECTIVE PHOTOLYSIS REACTIVITY AND SELECTIVE PHOTOLYSIS CATALYST例文帳に追加

選択的光分解反応性を有する表面修飾酸化チタン及び選択的光分解触媒 - 特許庁

The silicon wafer having an oxide film formed on its surface with ozone is washed with an ammonia-hydrogen peroxide solution.例文帳に追加

オゾンにより表面に酸化膜が形成されたシリコンウエハを、アンモニア−過酸化水素溶液で洗浄する。 - 特許庁

Thereafter, the surface of the element separating groove 2 is oxidized to form an oxide film 3 with a thickness of d (Fig. 1 (c)).例文帳に追加

次に、素子分離溝２の表面を酸化して膜厚ｄの酸化膜３を形成する（図１（c））。 - 特許庁

A substrate forming the device differs from one measuring the thickness of the surface oxide film in this case.例文帳に追加

この時、デバイスを形成する基板と表面酸化膜厚を測定する基板とは異なる基板とする。 - 特許庁

In addition, a coat containing titanium oxide as the main component is formed on the surface of the ceramic cured film.例文帳に追加

さらに、セラミックス硬化膜の表面に酸化チタンを主成分とする被膜を形成することにした。 - 特許庁

The surface layer 115c is an inorganic oxide formed as a thin film by an atmospheric pressure plasma CVD method.例文帳に追加

表面層１１５ｃは，大気圧プラズマＣＶＤ法により薄膜形成された無機酸化物である。 - 特許庁

The inorganic oxide layer 12 is formed on the surface of the phosphor layer 11 with an amount of 1 mg/cm^2.例文帳に追加

無機酸化物層１２は、蛍光体層１１の表面に、１ｍｇ／ｃｍ^２の量で形成する。 - 特許庁

An insulating layer 7 is formed on a first surface 1A of a metal base material 1 by thermal-spraying powder of aluminum oxide.例文帳に追加

酸化アルミニウムの粉末を溶射して、金属基材１の第１面１Ａに絶縁層７を形成する。 - 特許庁

An oxide film 10 of 1 nm or less is formed on a surface of a silicon substrate 1 of a (100) plane in plane orientation.例文帳に追加

面方位が（１００）面のシリコン基板１の表面に、１ｎｍ以下の酸化膜１０を形成する。 - 特許庁

To provide a welding machine which is capable of efficiently welding a filament covered by an oxide to a surface to be welded.例文帳に追加

酸化物で被覆されたフィラメントを溶接面に効率よく溶接し得る溶接機を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING THIN FILM FORMED OF ORIENTED CRYSTAL OF TUNGSTEN OXIDE ON SURFACE OF SUBSTRATE HAVING LOW CRYSTALLINITY例文帳に追加

結晶性の低い基板の表面に結晶配向した酸化タングステン薄膜を作製する方法 - 特許庁

The oxide films are each formed so that its film thickness is larger, over the bottom of the gate trench 105 than over the side surface.例文帳に追加

酸化膜は、ゲートトレンチ１０５の底面において、側面よりも膜厚が厚く形成されている。 - 特許庁

An extremely thin oxide film 2 is formed by subjecting a surface of an Si substrate 1 to thermal oxidation (refer to Fig.(a) and (b)).例文帳に追加

Ｓｉ基板１の表面を熱酸化して極薄の酸化膜２を形成する（図(a) 及び(b) 参照）。 - 特許庁

To provide cerium oxide abrasive for polishing the surface of an SiO_2 insulating film, or the like, at high speed without damaging.例文帳に追加

ＳｉＯ_２絶縁膜等の被研磨面を傷なく高速に研磨する酸化セリウム研磨剤を提供する。 - 特許庁

Thus, the rear surface of the SOI wafer is protected by the protective oxide film 13 through the SOI wafer manufacture.例文帳に追加

このようにして、上記ＳＯＩウェーハ製造を通しその裏面が保護酸化膜１３により保護される。 - 特許庁

The sterilization section 2 is preferably formed with a cuprous oxide film on the surface of a copper material.例文帳に追加

前記殺菌部２は、好ましくは、銅材の表面に亜酸化銅の被膜が形成されたものである。 - 特許庁

Then, a silicon oxide film 11 is deposited over the entire surface above the silicon substrate 1 to fill in the trench T.例文帳に追加

そして、このシリコン基板１の上方全面にシリコン酸化膜１１を堆積して溝部Ｔを埋め込む。 - 特許庁

To form a dense oxide coating having enhanced corrosion resistance by modifying the surface of an aluminum alloy.例文帳に追加

アルミニウム合金の表面を改質して，密で耐食性の向上した酸化物被膜を形成する。 - 特許庁

Then, it is exposed to oxygen plasma with N-H bond on the surface of the oxide nitride film being terminated by oxygen.例文帳に追加

その後、酸素プラズマにさらし、上記酸化窒化膜の表面のＮ−Ｈ結合を酸素で終端する。 - 特許庁

A nitride film spacer 35 is formed on the side surface of the hard mask with a second oxide film 36 formed all over the mask.例文帳に追加

ハードマスクの側面に窒化膜スペーサ３５を形成し、全体に第２酸化膜３６を形成する。 - 特許庁

A protective film 5, consisting of polyimide, is provided on the upper surface of an insulating film 3 consisting of silicon oxide.例文帳に追加

酸化シリコンからなる絶縁膜３の上面にはポリイミドからなる保護膜５が設けられている。 - 特許庁

A polysilicon layer is buried onto the surface of an oxide-film insulating layer 16, where the polysilicon layer is used as a floating gate 18C.例文帳に追加

酸化膜絶縁層１６の表面にフローティングゲート１８Ｃとするためのポリシリコン層を埋め込む。 - 特許庁

The colorant having high opacifying properties is obtained by forming, on the surface of a metallic particle, an oxide film of the metal.例文帳に追加

金属粒子の表面に、当該金属の酸化被膜を形成してなる高隠蔽性着色材。 - 特許庁

SURFACE COATED CERMET CUTTING TOOL IN WHICH THICK FILM α-TYPE ALUMINUM OXIDE LAYER EXHIBITS EXCELLENT CHIPPING RESISTANCE例文帳に追加

硬質被覆層が高速切削ですぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆サーメット製切削工具 - 特許庁

This fluorescent substance 10 is obtained by forming a film 14 of zinc oxide on the surface of each fluorescent substance particle 12.例文帳に追加

蛍光体１０は、蛍光体粒子１２の表面に酸化亜鉛の膜１４が形成される。 - 特許庁

Regarding the electrode for electrolysis in which the surface of a metal substrate is provided with an electrode surface layer formed in such a manner that tin oxide and antimony oxide are made into solid solution, the space between the metal substrate and the electrode surface layer is provided with an intermediate layer at least composed of a platinum group metal(s) or the oxide thereof as the main component.例文帳に追加

金属基体の表面に、酸化スズと酸化アンチモンとが固溶して形成された電極表面層を具備する電解用電極において、該金属基体と電極表面層との間に、少なくとも白金族金属又はその酸化物を主成分とする中間層を有することを特徴とする電解用電極。 - 特許庁

The surface coating nanoparticle comprises a coating film by a surface-treating agent which is formed on the surface of amorphous oxide nanoparticles which comprise an amorphous titanium oxide and/or an amorphous zirconium oxide in which the portion thereof having the crystallite diameter of 0.5 nm or more and 1.5 nm or less crystallizes, and has an index of refraction of 1.7 or more.例文帳に追加

表面被覆ナノ粒子は、結晶子の大きさが０．５ｎｍ以上かつ１．５ｎｍ以下の一部が結晶化したアモルファス酸化チタンおよび／またはアモルファス酸化ジルコニウムからなるアモルファス酸化物ナノ粒子の表面に、表面処理剤による被覆膜が形成され、かつ、屈折率が１．７以上である。 - 特許庁

Then, the energy of the millimeter waves (or the discharge plasma) locally acts on the surface oxide part where the soft magnetic powder exhibits a high electric resistivity and locally heats the surface of the soft magnetic powder to a temperature near the melting temperature to accelerate the surface oxidation (oxide film formation) of the soft magnetic powder and sintering (diffusion and joint of oxide films).例文帳に追加

これにより、ミリ波（又は放電プラズマ）のエネルギが軟磁性粉末の電気抵抗値の大きい表面酸化部分に局所的に作用して、軟磁性粉末の表面が局所的に融点温度近傍に加熱され、軟磁性粉末の表面酸化（酸化膜の形成）や焼結（酸化膜どうしの拡散接合）が促進される。 - 特許庁

The method for manufacturing semiconductor wafers comprises processes for: polishing a sliced wafer; forming an oxide film on the polished wafer; an oxide film selective polishing for removing only the oxide film formed on the surface and exposing the surface of the wafer; and polishing the exposed surface of the wafer.例文帳に追加

本半導体ウェーハの製造方法は、スライス後のウェーハを研削する工程と、研削されたウェーハに酸化膜を形成する工程と、前記表面に形成された酸化膜のみを除去しウェーハ表面を露出させる酸化膜選択研磨工程と、前記露出したウェーハ表面を研磨する工程を有する。 - 特許庁