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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > surface oxideに関連した英語例文

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surface oxideの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 8398



例文

A photocatalytic hydrophilic member has a surface layer containing photocatalytic titanium oxide and amorphous oxide and having a thickness of 0.2 μm or less.例文帳に追加

光触媒性酸化チタンと、アモルファス酸化物を含有する膜厚0.2μm以下の表面層が形成されている光触媒性親水性部材。 - 特許庁

The principal surface 32a of the gallium oxide support base 32 is inclined at an angle of 2 toto a (100) plane of the monoclinic gallium oxide.例文帳に追加

酸化ガリウム支持基体32の主面32aが単斜晶系酸化ガリウムの(100)面に対して2度以上4度以下の角度で傾斜する。 - 特許庁

The carbon material carrying the metallic oxide is obtained by carrying the metallic oxide having photocatalytic action to ultraviolet rays on the surface of a carbon material.例文帳に追加

炭素材料の表面に紫外光に対して光触媒作用を有する金属酸化物を担持してなる金属酸化物担持炭素材料。 - 特許庁

Then, processing is carried out in which metal atoms constituting the metal oxide film 4 are diffused from the metal oxide film 4 to a surface part of the gate insulating film 3.例文帳に追加

次いで、金属酸化膜4を構成する金属原子を、金属酸化膜4からゲート絶縁膜3の表面部へ拡散させる処理が実施される。 - 特許庁

例文

A method for preventing the rearrangement of hexafluoropropene oxide is provided, comprising preserving the hexafluoropropene oxide in a copper-based metallic container or a metallic container whose inner surface is clad with copper film.例文帳に追加

銅を主成分とする金属製容器または銅皮膜処理を内表面に施した金属製容器中にヘキサフルオロプロペンオキサイドを保存する。 - 特許庁


例文

Then, on the surface of the semiconductor substrate 1, a laminated film composed of a first silicone oxide film 6, a silicone nitride film 7 and a second silicone oxide film 8 is formed.例文帳に追加

次に、半導体基板1表面に、第1のシリコン酸化膜6、シリコン窒化膜7および第2のシリコン酸化膜8から成る積層膜を形成する。 - 特許庁

This glass article characterized by forming a metal ion diffusion- preventing film 2 consists mainly of indium oxide and/or tin oxide on the surface of an alkali-containing glass substrate 1.例文帳に追加

アルカリ含有ガラス基板1の表面に、酸化インジウム及び/又は酸化スズを主成分とする金属イオン拡散防止膜2を形成してなるガラス物品。 - 特許庁

To produce an oxide composite powder containing a noble metal applied thereto in which the noble metal in a spherical shape having the particle diameter of the order of nm is applied to the surface of oxide particles.例文帳に追加

酸化物粒子表面に球形状で粒径がnmオーダーの貴金属を付着した貴金属添着酸化物複合粉末を提供する。 - 特許庁

Then, after removing a natural oxide film by washing the substrate with dilute fluorinated acid, the substrate is washed with ozone water to form an oxide film 16 on the surface.例文帳に追加

次に、希フッ酸による洗浄を行い自然酸化膜を除去した後オゾン水によって洗浄を行い表面に酸化膜16を形成する。 - 特許庁

例文

Finally, a surface oxide film of the conductive layer 8 is removed by using the metal oxide film sidewall 6 as a mask, thus performing the silicide formation of the conductive layer 8.例文帳に追加

この後、金属酸化膜サイドウォール6をマスクとして、導電層8の表面酸化膜が除去され、導電層8のシリサイド化が行われる。 - 特許庁

例文

Further, the chemical properties of the surface of the compound oxide are changed by the heat treatment and this change is supposed to affect the interaction of the compound oxide with Rh.例文帳に追加

さらに熱処理によって複合酸化物表面の化学的性質が変化し、それがRhとの相互作用にも影響すると考えられる。 - 特許庁

To make identical a substrate surface that serves as an SOI region and a substrate surface that serves as a bulk region, easily and accurately, to uniformize the thickness of an embedded oxide film, and to prevent the embedded oxide film from being exposed to the substrate surface.例文帳に追加

容易にかつ精度良くSOI領域となる基板表面とバルク領域となる基板表面とを同一にし、埋込み酸化膜の厚さを均一にするとともに、埋込み酸化膜が基板表面に露出するのを防止する。 - 特許庁

To provide a process for producing a surface-treated metal oxide powder by which agglomerated by-products originated from aminoalkylalkoxysilane is controlled in producing a surface-treated metal oxide surface-treated with aminoalkylalkoxysilane and hexamethyldisilazane.例文帳に追加

アミノアルキルアルコキシシラン及び、ヘキサメチルジシラザンで表面処理された表面処理金属酸化物の製造において、アミノアルキルアルコキシシラン由来の凝集物の副生が抑制された表面処理金属酸化物の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The antimicrobial-treated metallic sheet is formed with the titanium oxide film 2' by subjecting the surface of the metallic sheet (a) to grinding treatment to form a grinding treated surface 1, applying a titanium oxide solution 2 on the grinding treated surface 1 and drying the coating.例文帳に追加

金属板aの表面に研削処理を施して研削処理面1を形成し、同研削処理面1に酸化チタン溶液2を塗布して乾燥させることにより酸化チタン被膜2'を形成した抗菌処理金属板。 - 特許庁

Hereby, the oxide film which has existed on the surface of the surface oxide micro particles 2 is reduced, further graphite is deposited on the surface of the ferromagnetic body metal particle, and a graphite coated micro particle 3 is obtained as a ferromagnetic body composite micro particle.例文帳に追加

この結果、表面酸化微粒子2の表面に存在した酸化膜が還元され、更に、強磁性体金属微粒子の表面にグラファイトが析出し、グラファイト被覆微粒子3が強磁性体複合微粒子として得られる。 - 特許庁

As the conductive material, zinc oxide (aluminum is added as a dopant material) or the material obtained by forming a transparent conductive film of tin oxide (antimony is added as the dopant material) or indium oxide (tin is added as the dopant material) on the surface of a white metal oxide such as titanium oxide or a white material such as titanium oxide is used.例文帳に追加

導電性材料としては、酸化亜鉛(ドーパント物質としてアルミニウムを添加)や酸化チタン等の白色系金属酸化物あるいは、酸化チタンのような白色系材料表面に酸化スズ(ドーパント物質としてアンチモンを添加)や酸化インジウム(ドーパント物質としてスズを添加)の透明導電性膜が形成されたものが使用される。 - 特許庁

There is provided interference-color flaky talc of which the surface is covered with at least one oxide selected from among titanium oxide, silicon oxide, aluminum oxide, zinc oxide, and zirconium oxide and which has an interference color and a particle size (measured by a laser method) of 1-80 μm.例文帳に追加

薄片状タルク粒子の表面が酸化チタン、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化亜鉛及び酸化ジルコニウムの中から選択される1種あるいは2種以上によって被覆され、該金属酸化物被覆薄片状タルクは干渉色を有し、レーザー法で測定した粒子径が1〜80μmであることを特徴とする干渉色薄片状タルクとする。 - 特許庁

Activated alumina has a specific surface area of 200-299 m2/g and contains at least 80% of aluminum oxide (Al2O3), silicon oxide (SiO2) and iron oxide (Fe2O3) and 0.001-7.25% of at least one oxide of alkali metal or alkaline earth metal, for example, sodium oxide or potassium oxide.例文帳に追加

このプロセスによれば、活性アルミナは、比表面積が200m^2/gないし299m^2/gであり、少なくとも80%の酸化アルミニウム(Al_2O_3)、酸化珪素(SiO_2)、酸化鉄(Fe_2O_3)、および0.001%ないし7.25%の、少なくとも1種のアルカリまたはアルカリ土類金属の少なくとも1つの酸化物たとえば酸化ナトリウムおよび酸化カリウムを含む。 - 特許庁

The aluminum nitride substrate comprises an oxide layer 3 and is characterized in that an oxide layer 3 is formed on the surface of an aluminum nitride layer 2, the oxide layer 3 contains aluminum nitride crystal particles 4, and the thickness of a virtual layer formed of only aluminum oxide calculated based on the total content of the aluminum oxide component in the oxide layer is 5-100 μm.例文帳に追加

窒化アルミニウム層2の表面に酸化層3が形成されており、酸化層3は窒化アルミニウム結晶粒子4を含有し、酸化層3中の酸化アルミニウム成分の総含有量に基づいて、酸化アルミニウムのみからなる仮想の層の厚みを算出したときの厚みが5〜100μmになる酸化層を有する窒化アルミニウム基板。 - 特許庁

The method for manufacturing a titanium oxide nanotube includes a step of forming a coating layer made by ranging particulate titanium oxide, on the surface of tubular or fibrous polyaniline to fabricate a titanium oxide-polyaniline composite, and a step of heating the titanium oxide-polyaniline composite to remove the polyaniline, to thereby manufacture the titanium oxide nanotube in which the particulate titanium oxide ranges.例文帳に追加

チューブ状又はファイバー状のポリアニリンの表面に、粒子状酸化チタンが連なってなる被覆層を形成し、酸化チタン−ポリアニリン複合体を作製する工程、及び前記酸化チタン−ポリアニリン複合体を加熱してポリアニリンを除去する工程により、粒子状酸化チタンが連なってなる酸化チタンナノチューブを製造する。 - 特許庁

An oxide film is deposited on the rear surface by CVD, and on its front surface, a region which is to be a p-type partition region 11 is formed with a resist mask and the oxide film is etched with an etching ion to form a groove.例文帳に追加

さらに、裏面にCVDで酸化膜を堆積し、その表面にp型仕切領域11となる領域をレジストマスクで形成して酸化膜をエッチングイオンによってエッチングして溝を形成する。 - 特許庁

The tabular oxide particle-deposited carbon particle is characterized in that a tabular oxide particle, on the surface of which a noble metal particle is deposited, is deposited on a carbon particle and a crystal face appearing on the surface of the noble metal particle is the (111) face.例文帳に追加

表面に貴金属粒子を担持した板状酸化物粒子がカーボン粒子に担持されており、当該貴金属粒子の表面に現れている結晶面が(111)面である構成とする。 - 特許庁

The ratio (D_t/D_0) of an average thickness D_0 of the oxide film on the surface of the stainless plate before the immersion and an average thickness D_t of the oxide film on the surface of the stainless plate after the immersion is ≥1.1.例文帳に追加

また、浸漬処理前の鋼板表面の酸化皮膜の平均厚みD_0に対する浸漬処理後の鋼板表面の酸化皮膜の平均厚みD_tの比率D_t/D_0は、1.1以上である。 - 特許庁

In the top plate for the cooker formed using crystallized glass as a base material, an oxide coat is formed on the surface of crystallized glass, and the surface roughness (Ra) of the oxide coat is set 0.1-20 μm.例文帳に追加

結晶化ガラスを基材とする調理器用トッププレートにおいて、結晶化ガラスの表面に酸化物被膜を形成し、前記酸化物被膜の表面粗さ(Ra)を0.1〜20μmとする。 - 特許庁

The gate insulating film 4 is formed of a silicon oxide film 4a, and at least a surface of the oxide silicon film 4a in contact with a bottom surface of the gate electrode 6 is formed of a silicon nitride layer 4b.例文帳に追加

そして、前記ゲート絶縁膜4は酸化シリコン膜4aからなり、ゲート電極6の底面と接する上記酸化シリコン膜4aの少なくとも表面は酸窒化シリコン層4bから成っている。 - 特許庁

In more practical, a pre- process to form a surface oxide layer 6s on the amorphous silicon film 6a with a solution including ozone and a post-process to remove the surface oxide layer 6s with a solution including fluoric acid are performed.例文帳に追加

具体的には、オゾンを含む溶液でアモルファスシリコン膜6aに表面酸化層6sを形成する前処理と、フッ酸を含む溶液で表面酸化層6sを除去する後処理を行なう。 - 特許庁

(1) The non-contact type electrifying roller is obtained by forming an oxide film of aluminum on the surface of a support composed of aluminum alloy, and forming a silica film obtained by using alkoxy silane on the surface of the oxide film.例文帳に追加

(1)アルミニウム合金からなる支持体表面にアルミニウムの酸化皮膜を形成し、該酸化皮膜の表面にアルコキシシランを用いて得られるシリカ膜を形成した非接触式帯電ローラ。 - 特許庁

The liquid crystal display element is constructed by forming the thin film layer of a transparent inorganic oxide 9 on the surface on the counter side of the surface, on which the transparent electrode (ITO, indium tin oxide) 3 is formed, of one or both of the upper and lower flexible substrates 1, 2.例文帳に追加

上下一方あるいは両方の可とう性基板1、2の透明電極(ITO)3を形成する面と逆側面に透明無機酸化物9を形成した構造とする。 - 特許庁

A plate main electrode having a silicon oxide film formed on the surface on one side is inserted so as to abut on the bottom surface of the notched part in the state where the oxide film is faced to the vessel inside, to thereby seal a clearance.例文帳に追加

該切欠き部に、片側表面にシリコン酸化皮膜を形成した板状主電極を酸化皮膜を容器内側にして前記切欠き部の底面に当接するように嵌め込み隙間をシールする。 - 特許庁

The copper foil is provided in which at least one surface is coated with a hydrated chromium oxide layer and the coating amount of the hydrated chromium oxide layer to the surface of the copper foil is controlled to 0.5 to 70 μg-Cr/dm^2.例文帳に追加

少なくとも片面にクロム水和酸化物層が被覆されている銅箔であって、前記クロム水和酸化物層の前記銅箔表面への被覆量を、0.5〜70μg−Cr/dm^2とする。 - 特許庁

A positive resist is then applied to cover the surface of the silicon oxide film deposited on the surface of the SOI substrate, and the bottom of the trench and only the resist applied to the silicon oxide film is removed by exposure and development.例文帳に追加

次にSOI基板表面のシリコン酸化膜の表面及び前記トレンチの底部が覆われるようにポジ型レジストを塗布し、シリコン酸化膜上に塗布したレジストのみを露光、現像して除去する。 - 特許庁

The surface modified metal oxide powder is prepared by depositing a specified amount of a fatty acid metal salt on the surface of metal oxide powder such as silica subjected to hydrophobic treatment so as to obtain60 hydrophobicity degree.例文帳に追加

疎水化度が60以上に疎水化処理されたシリカ等の金属酸化物粉末の表面に特定量の脂肪酸金属塩を付着せしめた表面改質金属酸化物粉末。 - 特許庁

The surface of a semiconductor substrate 10 in a predetermined region of thin oxide film formation is made higher by H3 than the surface of a semiconductor substrate 10 in a predetermined region of thick oxide film formation.例文帳に追加

厚い酸化膜形成予定領域における半導体基板10表面の高さより、薄い酸化膜形成予定領域における半導体基板10表面に高さを、H3だけ高くする。 - 特許庁

That is, highly surface-modified metal oxide fine particles are produced by reacting metal oxide fine particles with a surface modifier in a solvent at 50-300°C under pressure.例文帳に追加

すなわち、金属酸化物微粒子と表面修飾剤を、溶媒中50〜300℃かつ加圧条件で反応させることにより、高度に表面修飾された金属酸化物微粒子を製造した。 - 特許庁

Roughness of micron order is produced on the surface 31 of the metal alloy, a super-fine ruggedness is formed in a ruggedness of the roughness, the surface layer of the super-fine ruggedness is formed as a thin layer of metal oxide or metal-phosphorus oxide.例文帳に追加

金属合金表面31にミクロンオーダーの粗度を生じさせ、且つ、その凹凸面内に超微細凹凸を形成し、且つ、表層を金属酸化物又は金属リン酸化物の薄層とする。 - 特許庁

The porous base material having the resultant solid oxide film on the surface is useful as a cell elementary body of a laminated structure having an electrolytic film on the fuel electrode surface of the solid oxide type fuel cell.例文帳に追加

得られた固体酸化物膜を有する多孔質基材は、固体酸化物型燃料電池の燃料極表面に電解質膜を有する積層構造の電池素体として有用である。 - 特許庁

Pt 12 or the like is supported on the surface of a composite oxide film 11, which comprises a composite oxide of Al and Zr and has scaly unevenness of a nanosize on the surface thereof, as the metal catalyst.例文帳に追加

Al、Zrの複合酸化物からなり、かつ表面にナノサイズの鱗片状の凹凸を有する複合酸化被膜11の表面に金属触媒としてPt12等を担持したものである。 - 特許庁

In this way, a side surface portion 12a of a field oxide film 12 constituting an element isolation region 12 is exposed and the recess portion 13a gets surrounded by the side surface portion 12a of the field oxide film.例文帳に追加

これにより、素子分離領域12を構成するフィールド酸化膜12の側面部分12aが露出し、凹部13aの周囲がフィールド酸化膜の側面部分12aで囲まれた状態となる。 - 特許庁

A product with the photocatalytic body layer includes a non-black product, an underlayer formed on the surface of the non-black product, and the photocatalytic body layer which includes at least photocatalyst titanium oxide particles and photocatalyst tungsten oxide particles, and is formed on the surface of the underlayer.例文帳に追加

このため非黒色系製品の表面にこのような光触媒体層を形成と着色が目立ち、特に壁紙では特に意匠性を重視するため顕著な問題になった。 - 特許庁

In this method, the presence of the nitride on the surface of the silicon wafer is evaluated by forming a silicon oxide film on the surface of the wafer and measuring the oxide-film withstand voltage characteristic of the thin film.例文帳に追加

前記シリコンウエハ表面にシリコン酸化薄膜を形成し、該薄膜の酸化膜耐圧特性を測定することにより、前記シリコンウエハ表面における窒化物の存在を評価する方法を用いる。 - 特許庁

This semiconductor device is constituted into a structure, wherein a silicon oxide film 102 is formed on the surface of a semiconductor substrate 101, and a silicon nitride film 103 which is used as the flattening stopper material for a buried oxide film, is formed on the surface of the film 102.例文帳に追加

半導体基板101の表面上にシリコン酸化膜102を形成し、この表面上に埋め込み酸化膜の平坦化ストッパー材となるシリコン窒化膜103を形成する。 - 特許庁

An amorphous object adhering to a surface of a cerium oxide-based abrasive is dissolved by adding the first alkali component to a suspension of a cerium oxide-based abrasive in which an amorphous object adheres to a surface.例文帳に追加

非晶質体が表面に付着した酸化セリウム系研磨剤の懸濁液に第1のアルカリ成分を添加することにより酸化セリウム系研磨剤の表面に付着した非晶質体を溶解させる。 - 特許庁

In the process for production of the active material, an aqueous solution containing a metal fluorocomplex is contacted with a metal oxide to form a surface-modified layer 2 on the surface of the metal oxide.例文帳に追加

本発明の活物質の製造方法では、金属酸化物に対して金属フルオロ錯体を含む水溶液を接触させることにより、金属酸化物の表面に表面改質層2を形成する。 - 特許庁

However, the A in the general formula indicates the specific surface area (m^2/g) of the lithium cobalt composite oxide and the B in the general formula indicates the specific surface area (m^2/g) of the composite oxide containing Li, Ni and Co.例文帳に追加

但し、前記Aは、前記リチウムコバルト複合酸化物の比表面積(m^2/g)を示し、前記Bは、前記Li、Ni及びCoを含有する複合酸化物の比表面積(m^2/g)を示す。 - 特許庁

The spacer 8 in the cell consists of a metal oxide 11 having ruggedness on its surface, and a transparent or semitransparent coating layer 12 coating the surface of the oxide 11 and form the spacer 8 into a sphere.例文帳に追加

セル内スペーサ8は表面に凹凸が形成される酸化金属体11と、その表面をコーティングし、セル内スペーサ8を球体に形成する透明もしくは半透明のコーティング層12とから成る。 - 特許庁

A TiNi shape memory alloy is subjected to heat treatment in the air to deposit a titanium oxide film on the surface, and is thereafter dipped into a strong acid, so that the Ni component in the surface of the titanium oxide film is removed.例文帳に追加

TiNi形状記憶合金を大気中で熱処理し表面に酸化チタン膜を形成した後、強酸に浸せきすることにより酸化チタン膜上のNi成分を除去する。 - 特許庁

In the coated lead formed body, a lead oxide film is formed on the surface of a lead formed body, and a hot dip plating film of bismuth-tin is formed on the surface of the lead oxide film.例文帳に追加

被覆鉛成形体は、鉛成形体の表面に酸化鉛被膜が形成され、該酸化鉛被膜の表面にビスマスすずの溶融めっき被膜が形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

A rust preventive film using Zn as a base, and in which the outermost surface layer is an amorphous oxide layer of Zn, P and Si is formed on the surface of a cold rolled steel sheet.例文帳に追加

冷延鋼板の表面に、最表層がZnとPとSiの非晶質酸化物層であるZnを基地とする防錆膜を形成する。 - 特許庁

Small recesses 4a are distributed in a lattice on a lower surface in which the molten oxide removing tool 4 is brought into contact with the molten solder surface.例文帳に追加

溶融酸化物除去冶具4が溶融はんだ表面に接する下面には、微細凹所4aが格子状に分散配置されている。 - 特許庁

例文

The method further comprises removing an oxide film from the surface of the wire rod 11 by feeding a reducing gas into the annealing furnace 23 to reduce the surface of the wire rod 11.例文帳に追加

焼鈍炉23内に還元ガスを導入することにより線材11の表面を還元して酸化被膜を除去する。 - 特許庁




  
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