イオンめっきの英語

電気めっきにおける金属イオンの供給装置例文帳に追加

METAL ION FEEDER IN ELECTROPLATING - 特許庁

その後、銅イオンを含むめっき液による無電解めっきが行われる。例文帳に追加

After that, electroless plating using a copper ions-containing plating solution is applied to the patterns 15A and 15B. - 特許庁

メタバナジウム酸イオン（ＶＯ_３^−）と、ニッケルイオン及びコバルトイオンから選択される少なくとも１種の金属イオンと、金属イオンの錯化剤と、金属イオンの還元剤とを含有することを特徴とする無電解めっき液。例文帳に追加

The electroless plating liquid comprises: a metavanadic acid ion (VO_3^-), at least one metal ion selected from a nickel ion and a cobalt ion; a complexing agent for the metal ion(s); and a reducing agent for the metal ion(s). - 特許庁

無電解銅めっき液中に蓄積する銅イオンの対陰イオン、銅イオン還元剤の酸化体イオンと云っためっき妨害イオンを除去し、無電解銅めっき液中の塩濃度を一定値以下に保ってめっきする無電解銅めっき方法とその装置および用途を提供。例文帳に追加

To provide an electroless copper plating method by which plating retarding ions such as the counter ion of copper ions accumulated in an electroless copper plating solution and oxidant ions in a copper ion reducing agent are removed, and plating is executed in such a manner that the concentration of salt in the electroless copper plating solution is held to the value equal to or below the fixed one, to provide a device therefor and to provide the use thereof. - 特許庁

スズまたはスズ合金の電気めっき中に第一スズイオンおよび合金形成金属イオンが枯渇する。例文帳に追加

During electroplating of thin or tin alloys, the stannous ions and alloying metal ions are depleted. - 特許庁

無電解ニッケルめっき浴は、少なくとも鉄イオン源及びヨウ素イオン源を含有する。例文帳に追加

In the electroless nickel plating bath, there are contained at least an iron ion source and an iodide ion source. - 特許庁

金属イオン濃度調整方法、金属イオン濃度調整装置及びめっき方法例文帳に追加

METHOD FOR ADJUSTING CONCENTRATION OF METAL ION, DEVICE FOR ADJUSTING CONCENTRATION OF METAL ION, AND PLATING METHOD - 特許庁

三価のイリジウムイオンおよび四価のイリジウムイオンの少なくとも一方と、三価のチタンイオンとを含む無電解イリジウムめっき液とする。例文帳に追加

The electroless iridium plating liquid contains at least one of a trivalent iridium ion and a tetravalent iridium ion, and a trivalent titanium ion. - 特許庁